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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-26
    "Tz'j}< 9C  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 vb`R+y@  
    ?"$Rw32  
    Yhte&,D"  
    场景 M>[e1y>7  
    ]p!)8[<  
    gy>B 5ie  
    oju,2kpH7#  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 55Ya(E  
    =}zSj64  
    系统构建块 );;UA6CD  
    4i7+'F  
    e2^TQv2(=e  
    nO+R >8,Q  
    组件求解器 Kf1NMin7  
    ,49Z/P  
    {$g3R@f^~  
         /mXxj93UA  
         '^)}"sZ@G  
         >#VNA^+t  
    系统构建块 m~0Kos%^*b  
    1xI  
     R*/s#*gmL  
    Z@(KZ|  
    总结 EpH_v`  
    3$wK*xK  
    p(6 sN=  
         dXfLN<nD>U  
    几何光学仿真 ~7an j.  
        通过光线追迹 *3)kr=x  
    m?kyAW'|  
    结果：光线追迹 hd6O+i Y4  
    XBoq/kbw!  
    MU%7'J :_  
    #q 4uS~  
    快速物理光学仿真 HuJc*op-6  
        通过场追迹 $<yhEvv  
    P0pBR_:o  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 "([/G?QAG  
    |nE4tN#J<  
    @fb"G4o`:  
    xHMFYt+0$G  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 u"4 B5D  
    5vg="@O K  
    -We9 FO~  
    )+R n[MMp  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 yzv"sd[8N  
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          +IO>%  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 L$BV`JWPw  
    K_@?Q@#YhR  
     @$~IPg[J  
    ?w+ V:D  
    总结 Q;J( 5;  
    M~N/er  
    5'c#pm\Q  
      
     
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