[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 <Sr  
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场景 BSVx
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在VirtualLab Fusion中构建系统 eYvWZJa4  
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系统构建块 y9Usn8  
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组件求解器 6g)GY"49  
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总结 JVSA&c%3  
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几何光学仿真 $cU!m(SILQ  
    通过光线追迹 R1$:~p2m  
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结果：光线追迹 2$ze= /l  
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快速物理光学仿真 SSWP~ t  
    通过场追迹 0i\M,TNf*  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 7%|~>   
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 e9U
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 %|q>pin2  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 r\-uJ~8N  
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总结 S79;^X  
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