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>4b-NS/}0 内容简介 (hs[B4nV Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 cC b'z1 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 u0Irf"Ab 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 XF'K dz>p d 6j'[ 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 44]/rP_m 目录 /a(xUm @. Preface 1 Gd%KBb 内容简介 2 \k;*Ej~. 目录 i
ze{ 1 引言 1 ="JLUq*]s 2 光学薄膜基础 2 CZuV{Oh}? 2.1 一般规则 2 X70G@-w 2.2 正交入射规则 3 rq:R6e 2.3 斜入射规则 6 d*4fl. 2.4 精确计算 7 o&-q.;MY 2.5 相干性 8 uR"(0_ 2.6 参考文献 10 DgGGrV` 3 Essential Macleod的快速预览 10 R*VJe+5w 4 Essential Macleod的特点 32 IJhJfr0)Oo 4.1 容量和局限性 33 2*ZB[5_V 4.2 程序在哪里? 33 %D:Mt| 4.3 数据文件 35 ]KBzuz% 4.4 设计规则 35 S8TJnv`?' 4.5 材料数据库和资料库 37 ]Wa.k 4.5.1材料损失 38 OjcxD5"v9 4.5.1材料数据库和导入材料 39 =TE6R 0b 4.5.2 材料库 41 A|Up>`QH 4.5.3导出材料数据 43 _
)b:F=4j 4.6 常用单位 43 k}(C.`. 4.7 插值和外推法 46 Hw-,sze j" 4.8 材料数据的平滑 50 rd vq(\A 4.9 更多光学常数模型 54 h%|Jkx!v-t 4.10 文档的一般编辑规则 55 )#%k/4(Y 4.11 撤销和重做 56 WyF1Fw 4.12 设计文档 57 TyI"fP 4.10.1 公式 58 o4^rE<vJ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 xPl+
rsU 4.10.3 沉积密度 59 7j8nDX< 4.10.4 平行和楔形介质 60 8vjaQ5
4.10.5 渐变折射率和散射层 60 JPltB8j? 4.10.4 性能 61 B{hP#bYK 4.10.5 保存设计和性能 64 !vH7vq 4.10.6 默认设计 64 X~(%Y#6 4.11 图表 64 ^rO3B?_ 4.11.1 合并曲线图 67 f|P% 4.11.2 自适应绘制 68 <xe=G]v 4.11.3 动态绘图 68 Yw&{.<sL 4.11.4 3D绘图 69 2K0HN 4.12 导入和导出 73 :FcYjw 4.12.1 剪贴板 73 '85@U`e. 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 =BzyI 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ?nZQTO7 4.13 背景 77 16Ym*kWIps 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 $iu{u|VSu 4.15 生成Rugate 84 w
4-E@>% 4.16 参考文献 91 zkHwoAD;t8 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 B! $a Y 5.1 Jobs 92 \D}K{P 5.2 创建一个新Job(工作) 93 MBXja#(k 5.3 输入材料 94 n#8N{ya5x1 5.4 设计数据文件夹 95 Vj(}'h-c\ 5.5 默认设计 95 mF7T=pl 6 细化和合成 97 G9"2h
\ 6.1 优化介绍 97 a"ZBSg( 6.2 细化 (Refinement) 98
Q}.zE+ 6.3 合成 (Synthesis) 100 l?F-w;wHN 6.4 目标和评价函数 101 oNH&VHjU 6.4.1 目标输入 102 hYOUuC 6.4.2 目标 103 s4h3mypw 6.4.3 特殊的评价函数 104 %<8@NbF 6.5 层锁定和连接 104 m/vwM" 6.6 细化技术 104 [+dOgyK 6.6.1 单纯形 105 `3GC}u>} 6.6.1.1 单纯形参数 106 o0t/ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 X-[_g!pV 6.6.2.1 Optimac参数 108 T"ors]eI 6.6.3 模拟退火算法 109 S^ij % 6.6.3.1 模拟退火参数 109 TNs;#Q 6.6.4 共轭梯度 111 ]"? +R+ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 H=Sy. 6.6.5 拟牛顿法 112 ?fF{M%i-% 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 iF:`rIC 6.6.6 针合成 113 $$QbcnOf$ 6.6.6.1 针合成参数 114 E{_$C!. 6.6.7 差分进化 114 0=]RG 6.6.8非局部细化 115 5R6@A?vr 6.6.8.1非局部细化参数 115 lB_&Lq8G 6.7 我应该使用哪种技术? 116 O
:P%gz4 6.7.1 细化 116 mNUc g{+/ 6.7.2 合成 117 K& /
rzs- 6.8 参考文献 117 %{'hpT~h 7 导纳图及其他工具 118 ,jVj9m 7.1 简介 118 &d/v/Y 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ra#s!m1 7.2.1 四分之一波长规则 119 eTi r-7 7.2.2 导纳图 120 tu(k"'aJ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 'uAH, .B 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 5<1,`Bq@ 7.5 斜入射导纳图 141 1%W|>M` 7.6 对称周期 141 oB$7m4xO\ 7.7 参考文献 142 K5(:UIWx 8 典型的镀膜实例 143 ~xz3- a/ 8.1 单层抗反射薄膜 145 eq>E<X#< 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 E*rnk4Y 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 %*4Gx +b 8.4 W-膜层 148 %) A-zzj 8.5 V-膜层 149
&Uqm3z?v 8.6 V-膜层高折射基底 150 '& |