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GN0s`'#"3% 内容简介 PCqE9B)l Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 4eD>DW 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 85e!)I_ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ;q5.\m: cmcR@zv 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 czG]rl\1 目录 .I
h'& Preface 1 p)&Yr 内容简介 2 ~7;AV(\%e 目录 i H@|h
Nn$@ 1 引言 1 PNgdWf3 2 光学薄膜基础 2 *@+E82D 2.1 一般规则 2 m7$t$/g 2.2 正交入射规则 3 W]B75 2.3 斜入射规则 6 wf` e3S 2.4 精确计算 7 %+8"-u 2.5 相干性 8 P >>VBh? 2.6 参考文献 10 ;N(9nX}%) 3 Essential Macleod的快速预览 10 ]=Tle&yM+T 4 Essential Macleod的特点 32 q+ZN$4 m 4.1 容量和局限性 33 %96l(JlJ)B 4.2 程序在哪里? 33 9YQYg@+R 4.3 数据文件 35 r,8~qHbOT 4.4 设计规则 35 W ])Lc3X 4.5 材料数据库和资料库 37 :P/0 " 4.5.1材料损失 38 BJ*8mKi h 4.5.1材料数据库和导入材料 39
I?R?rW 4.5.2 材料库 41 pP|LSrY! 4.5.3导出材料数据 43 =zsA@UM0 4.6 常用单位 43 gt \O 4.7 插值和外推法 46 O'.sK pXe 4.8 材料数据的平滑 50 nBg
tK 4.9 更多光学常数模型 54 2~B9 (| 4.10 文档的一般编辑规则 55 o=)["V 4.11 撤销和重做 56 B;Dl2k^L 4.12 设计文档 57 =6O<1<[y 4.10.1 公式 58 EvGKcu 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 hd%O\D? 4.10.3 沉积密度 59 P9f,zM- 4.10.4 平行和楔形介质 60 crlCN 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 /D~MHO{ 4.10.4 性能 61 W*WSjuFr2 4.10.5 保存设计和性能 64 Lk`,mjhk 4.10.6 默认设计 64 bNh~=[E 4.11 图表 64 U
UYx-x 4.11.1 合并曲线图 67 /r?EY&9G 4.11.2 自适应绘制 68 :8LK}TY7 4.11.3 动态绘图 68 d>gN3}tT 4.11.4 3D绘图 69 c`s ]ciC 4.12 导入和导出 73
%G> 4.12.1 剪贴板 73 {^A,){uX] 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 bH`r=@.:cu 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 dw YGhhm 4.13 背景 77 e13' dCG 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 =@*P})w5. 4.15 生成Rugate 84 @!KG;d:l 4.16 参考文献 91 3R?6{. 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 2q}lSa7r 5.1 Jobs 92 B!AJ* 5.2 创建一个新Job(工作) 93 c.{t +OR 5.3 输入材料 94 $*qQ/hi 5.4 设计数据文件夹 95 HLb`'TC3r+ 5.5 默认设计 95 &:[hUn8jU 6 细化和合成 97 @p[ml m 6.1 优化介绍 97 _)a!g-Do7 6.2 细化 (Refinement) 98 N?l 6.3 合成 (Synthesis) 100 &pFP=|Pq 6.4 目标和评价函数 101 &'"dYZj{ 6.4.1 目标输入 102 ,tl(\4n 6.4.2 目标 103 (Y~gItej 6.4.3 特殊的评价函数 104 jpt-5@5O 6.5 层锁定和连接 104 ~vV+)KI 6.6 细化技术 104 hOR1RB 6.6.1 单纯形 105 =y]FcxF 6.6.1.1 单纯形参数 106 >p>B-m 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 a+
s%9l 6.6.2.1 Optimac参数 108 W.7XShwd*2 6.6.3 模拟退火算法 109 %ou@Y` 6.6.3.1 模拟退火参数 109 4YyVh.x 6.6.4 共轭梯度 111 get$r5 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 O`TM} 6.6.5 拟牛顿法 112 ={B?hjo<- 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 19*D*dkBR 6.6.6 针合成 113 EncJB 6.6.6.1 针合成参数 114 .9$
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+ 6.6.7 差分进化 114 i'MpS 6.6.8非局部细化 115 UE 1tm 6.6.8.1非局部细化参数 115 qK,PuD7i" 6.7 我应该使用哪种技术? 116 7CSd}@71\ 6.7.1 细化 116 EeDK ^W8N 6.7.2 合成 117 UhbGU G 6.8 参考文献 117 SGUZ'} 7 导纳图及其他工具 118 f19'IH$n{ 7.1 简介 118 5K {{o'' 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 m:]60koz]o 7.2.1 四分之一波长规则 119 @%
.;}tC 7.2.2 导纳图 120 J?oEzf;M 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 HC>MCwx=r 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ?vg|;Q 7.5 斜入射导纳图 141 \!df)qdu 7.6 对称周期 141 uU!}/mbo 7.7 参考文献 142 =S< |