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Q:+Y-&||" 内容简介 'Rfvr7G/? Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 $52Te3n 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 /x_C 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 .<Z7K @ Fga9 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 k?Jzy 目录 '4sT+q Preface 1 Cu({%Gy+ 内容简介 2 ;hs:wLVa" 目录 i 2h&pm 1 引言 1 %9mCgHQ9 2 光学薄膜基础 2 wrG*1+r 2.1 一般规则 2 `n-e.{O(( 2.2 正交入射规则 3 i/xPO 2.3 斜入射规则 6 #py7emu 2.4 精确计算 7 p)ZlQ.d#Y 2.5 相干性 8 ]_BG"IR!.. 2.6 参考文献 10 $!I$*R& 3 Essential Macleod的快速预览 10 6o;lTOes 4 Essential Macleod的特点 32 z!Kadqns 4.1 容量和局限性 33 62EJ# q[ 4.2 程序在哪里? 33 M
_U$I7 4.3 数据文件 35 S=aXmz< 4.4 设计规则 35 `@.YyPxX\ 4.5 材料数据库和资料库 37 o\]e}+1[o 4.5.1材料损失 38 <O$'3_S"D 4.5.1材料数据库和导入材料 39 |0f\>X I 4.5.2 材料库 41 #`"' 4.5.3导出材料数据 43 6X|KKsPzX 4.6 常用单位 43 \g4\a?i 4.7 插值和外推法 46 -I=}SZ 4.8 材料数据的平滑 50 kq%`9,XE 4.9 更多光学常数模型 54 (%0X\zvu/ 4.10 文档的一般编辑规则 55 oU~V0{7g 4.11 撤销和重做 56 `*oLEXYN 4.12 设计文档 57 c<&+[{| 4.10.1 公式 58 1Y9Ye?~jd 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ObM5v rEk| 4.10.3 沉积密度 59 A v2 _A 4.10.4 平行和楔形介质 60 Tao lX*$5 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 )%j)*Ymz; 4.10.4 性能 61 R:.7c(s 4.10.5 保存设计和性能 64 q=nMZVVlF( 4.10.6 默认设计 64 +}+hTY$a 4.11 图表 64 zx'`'t4~ 4.11.1 合并曲线图 67 Olxb`x
4.11.2 自适应绘制 68 "\_}"0H 4.11.3 动态绘图 68 c7rYG] 4.11.4 3D绘图 69 n@mUQ6 4.12 导入和导出 73 D[-Ct 4.12.1 剪贴板 73 u|:VQzPd- 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 %!.rP 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 VGvOwd)E 4.13 背景 77 ]lO$oO 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 rz7yAm 4.15 生成Rugate 84 [\.>BK 4.16 参考文献 91 %ANPv = 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 h,p&/oU4U 5.1 Jobs 92 ^cAJCbp7 5.2 创建一个新Job(工作) 93 O3BU.X1'% 5.3 输入材料 94 /Cg/Rwl 5.4 设计数据文件夹 95 HdnSs0/ 5.5 默认设计 95 d?{2A84S 6 细化和合成 97 &0C!P=-p 6.1 优化介绍 97 / 9;Pbxn 6.2 细化 (Refinement) 98 50R+D0^mh 6.3 合成 (Synthesis) 100 ^#t<ILUa 6.4 目标和评价函数 101 J2cNwhZ 6.4.1 目标输入 102 11-uJVO~* 6.4.2 目标 103 vCmh3TQ 6.4.3 特殊的评价函数 104 eD(a
+El} 6.5 层锁定和连接 104 +_}2zc4 6.6 细化技术 104 R;.WOies4 6.6.1 单纯形 105 (@#Lk"B 6.6.1.1 单纯形参数 106 w6yeX<!ll 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 7r;A
wa 6.6.2.1 Optimac参数 108 plIx""a^h 6.6.3 模拟退火算法 109 AdYQhF## 6.6.3.1 模拟退火参数 109 :|A db\b 6.6.4 共轭梯度 111 O0l;Qi 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 >WEg8'#O 6.6.5 拟牛顿法 112 $ta#]>{ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 *Xnq1_K} 6.6.6 针合成 113 52 A=c1kb 6.6.6.1 针合成参数 114 R"=M5 6.6.7 差分进化 114 F>Oh)VL,Ev 6.6.8非局部细化 115 .KLuGb3JJ 6.6.8.1非局部细化参数 115 N|)V/no 6 6.7 我应该使用哪种技术? 116 gjWH
}(K 6.7.1 细化 116 W P&zF$ 6.7.2 合成 117 {2Ibd i 6.8 参考文献 117 [aC9vEso! 7 导纳图及其他工具 118 &tOD 7.1 简介 118 bDNd
m- 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 >dGYZfqD 7.2.1 四分之一波长规则 119 Ol@ZH_ 7.2.2 导纳图 120 tSYnc7 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
p[GyQ2k) 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 Dw[Q,SE 7.5 斜入射导纳图 141 9|m L 7.6 对称周期 141 Y|~>(
7.7 参考文献 142 D-!%L<< 8 典型的镀膜实例 143 E;Hjw0M'k 8.1 单层抗反射薄膜 145 z~5'p(|@f 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 el%Qxak`" 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 )1,&YJM*6l 8.4 W-膜层 148 I$LO0avvH2 8.5 V-膜层 149 /{va< |