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Z:VqBqK 内容简介 wB6ILTu1 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 N&`VMEB)k 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 c@RMy$RTF 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 mzufl:-= <3dmY= 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 sY4sq5'! 目录 Ha l,%W~e Preface 1 Bl5*sfjG 内容简介 2 Lpw9hj| 目录 i E#t;G:+A 1 引言 1 YfBb=rN2s 2 光学薄膜基础 2 (Dr g 2.1 一般规则 2 ]>R|4K_ 2.2 正交入射规则 3 V[-4cu,Ph^ 2.3 斜入射规则 6 Mq-QWx"P 2.4 精确计算 7 3F' {JP 2.5 相干性 8 <vx/pH)f 2.6 参考文献 10 L8K=Q 3 Essential Macleod的快速预览 10 7n*,L5%?]4 4 Essential Macleod的特点 32 s`*
'JM< 4.1 容量和局限性 33 ]3tg|?%B 4.2 程序在哪里? 33 .Ap-<FB 4.3 数据文件 35 Fw!wSzsk3 4.4 设计规则 35 u.(
WW(/N 4.5 材料数据库和资料库 37 :[:5^R 4.5.1材料损失 38 ^|^ek 4.5.1材料数据库和导入材料 39 fj
X~"U 4.5.2 材料库 41 |cpBoU 4.5.3导出材料数据 43 cjzhuH/y 4.6 常用单位 43 |FZ)5 4.7 插值和外推法 46 6~8A$: 4.8 材料数据的平滑 50 zoXCMBg[ 4.9 更多光学常数模型 54 1PWs">*( 4.10 文档的一般编辑规则 55 q[4{Xh 4.11 撤销和重做 56 z -|gw.y 4.12 设计文档 57 &6fNPD(| 4.10.1 公式 58 OE87&Cl"{t 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 :0,q>w 4.10.3 沉积密度 59 }qy,/<R 4.10.4 平行和楔形介质 60 ,Y&LlB 2 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 }X{#=*$GQ 4.10.4 性能 61 ,bT|:T@ny 4.10.5 保存设计和性能 64 L3:dANG 4.10.6 默认设计 64 7'wt/9 4.11 图表 64 2N_8ahc 4.11.1 合并曲线图 67 n:JWu0,h 4.11.2 自适应绘制 68 ;h[p " 4.11.3 动态绘图 68 3`PPTG 4.11.4 3D绘图 69 `f.okqBAh 4.12 导入和导出 73 XMb]&VvH 4.12.1 剪贴板 73 xU$A/!oK 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 N6wea] 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 6^U8Utx 4.13 背景 77 P3|_RHIb 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 q{v:T}Q|A 4.15 生成Rugate 84 zbH Nj(~ 4.16 参考文献 91 3xS+Pu\) 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 &phers 5.1 Jobs 92 Cz=HxU80J 5.2 创建一个新Job(工作) 93 zfvMH"1
5.3 输入材料 94 X._skq 5.4 设计数据文件夹 95 A4RA5N/} 5.5 默认设计 95 OiI[w8 6 细化和合成 97 &YQ 6.1 优化介绍 97 pME17 af 6.2 细化 (Refinement) 98 tL0<xGI5^ 6.3 合成 (Synthesis) 100 <a/TDW 6.4 目标和评价函数 101 \_?A8F 6.4.1 目标输入 102 lej-,HX 6.4.2 目标 103 (_S`9Z8= 6.4.3 特殊的评价函数 104 :s8^nEK 6.5 层锁定和连接 104 ; MU8@?yN 6.6 细化技术 104 uC{qaMQ 6.6.1 单纯形 105 .!uXhF' 6.6.1.1 单纯形参数 106 eQh@.U*S) 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 {)j~5m.,/o 6.6.2.1 Optimac参数 108 hdky:2^3 6.6.3 模拟退火算法 109 -#0(Jm' 6.6.3.1 模拟退火参数 109 V~j:!=b%v 6.6.4 共轭梯度 111 P{YUW~ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 rQ~7BlE 6.6.5 拟牛顿法 112 D$C >ZF 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 3vx5dUgl, 6.6.6 针合成 113 \Eq,4-q 6.6.6.1 针合成参数 114 [ kI|Thx 6.6.7 差分进化 114 f681i(q" 6.6.8非局部细化 115 on?<3eED 6.6.8.1非局部细化参数 115 (Fc\*Vn 6.7 我应该使用哪种技术? 116 RbPD3&. 6.7.1 细化 116 Ore>j+ 6.7.2 合成 117 yW::` 6.8 参考文献 117 ^)$(Fe< 7 导纳图及其他工具 118 r)Q/YzXx* 7.1 简介 118 8K: RoR 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 -$W#bqvz^ 7.2.1 四分之一波长规则 119 p;;4b@ 7.2.2 导纳图 120 a=(D`lQ8 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 }yQ&[Mt 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 W+HiH`Qb] 7.5 斜入射导纳图 141 +NML>g#F~z 7.6 对称周期 141 XY1D< |