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X obiF 内容简介 i\2MphS Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 : Ey 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Zb-TCS+3l 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 (Z.K3 oLk>|J 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 !Qrlb>1z- 目录 Z<En3^j` Preface 1 #QZg{ 内容简介 2 oe`oUnN 目录 i '1ff| c!x9 1 引言 1 N::_JH?^= 2 光学薄膜基础 2 JXBW0|8b 2.1 一般规则 2 9?gLi!rd 2.2 正交入射规则 3 K>Fo+f 2.3 斜入射规则 6 |U1X~\"" 2.4 精确计算 7 ;E:ra_l 2.5 相干性 8 v"O{5LM" 2.6 参考文献 10 .Xo, BEjE/ 3 Essential Macleod的快速预览 10 A)040n 4 Essential Macleod的特点 32 N:0/8jmmO 4.1 容量和局限性 33 3nd02:GF 4.2 程序在哪里? 33 Um;ReJ8z 4.3 数据文件 35 /#9O{) 4.4 设计规则 35 sBS\S 4.5 材料数据库和资料库 37 ckP&N:tC 4.5.1材料损失 38 g63:WX-\ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 s7 O?)f f 4.5.2 材料库 41 tbAN{pX 4.5.3导出材料数据 43 u%5B_<90V 4.6 常用单位 43 a~OCo 4.7 插值和外推法 46 ")ow,r^" 4.8 材料数据的平滑 50 Sl^HMO 4.9 更多光学常数模型 54 c G?RisSZ 4.10 文档的一般编辑规则 55 E8jdQS|i 4.11 撤销和重做 56 V;=SncUb 4.12 设计文档 57 6h}f^eJ:K, 4.10.1 公式 58 6;dB 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 y2\, L 4.10.3 沉积密度 59 {4CkF\ 4.10.4 平行和楔形介质 60 P`[6IS#\S 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 S#!PDg 4.10.4 性能 61 {\`#,[ 4.10.5 保存设计和性能 64 9g"a`a?c 4.10.6 默认设计 64 V. 'EP 4.11 图表 64 vrGRZa 4.11.1 合并曲线图 67 )oG_x{ 4.11.2 自适应绘制 68 fbNVmjb$) 4.11.3 动态绘图 68 azPFKg+ 4.11.4 3D绘图 69 )eY3[>` 4.12 导入和导出 73
NJs )2 4.12.1 剪贴板 73 )Y
Qtrc\91 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 W)<us?5Ec5 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 nXb;&n% 4.13 背景 77 hX$k8 o0 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Sq-mH=rs] 4.15 生成Rugate 84 "J, ErnM 4.16 参考文献 91 0mH>fs 4 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 q3T'rw%Eh 5.1 Jobs 92 n8A*Y3~R 5.2 创建一个新Job(工作) 93 nW{).
P 5.3 输入材料 94 vNd4Fn)H 5.4 设计数据文件夹 95 E$4\Yc)(AL 5.5 默认设计 95 :v
Pzw! 6 细化和合成 97 ~(-B%Az 6.1 优化介绍 97 w80g)4V+ 6.2 细化 (Refinement) 98 |6"zIHvtc 6.3 合成 (Synthesis) 100 0#G&8*FMN 6.4 目标和评价函数 101 q,^^c1f 6.4.1 目标输入 102 3Q~ng2Wv% 6.4.2 目标 103 477jS6 ^e& 6.4.3 特殊的评价函数 104 I Vq9z 6.5 层锁定和连接 104 N02N
w(pi 6.6 细化技术 104 dW,$yH_ 6.6.1 单纯形 105 t{Q9Kv 6.6.1.1 单纯形参数 106 ;?yd;GOt) 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 My:wA;# 6.6.2.1 Optimac参数 108 fE|([` ! 6.6.3 模拟退火算法 109 PD:"
SfV,G 6.6.3.1 模拟退火参数 109 FoInJ(PDH 6.6.4 共轭梯度 111 n_v|fxF1 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ?%iAkV 6.6.5 拟牛顿法 112
xdXt 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ka[]pY 6.6.6 针合成 113 d;
oaG (e 6.6.6.1 针合成参数 114 +[V?3Gdb 6.6.7 差分进化 114 ;5q=/ 6.6.8非局部细化 115 y_Bmd 6.6.8.1非局部细化参数 115 +g/y)] AP 6.7 我应该使用哪种技术? 116 `Q,moz 6.7.1 细化 116 g.s~Ph- G 6.7.2 合成 117 06]J] 6.8 参考文献 117 D5]T.8kX(7 7 导纳图及其他工具 118 ^$6EO)< 7.1 简介 118 Z[FSy-;" 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 )4D |sN 7.2.1 四分之一波长规则 119 *t3fbD 7.2.2 导纳图 120 S$=])^ dur 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 +'N?`l6< 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 =sG C 7.5 斜入射导纳图 141 /V2Ih 7.6 对称周期 141 U9y[b82 7.7 参考文献 142 Mf<Pms\F 8 典型的镀膜实例 143 R}#?A%,* 8.1 单层抗反射薄膜 145 <I&X[Sqp 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 J3oH^ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 -Z-|49I/mN 8.4 W-膜层 148 (m|p|rL 8.5 V-膜层 149 4B d[r7 8.6 V-膜层高折射基底 150 KaauX
m 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 }<[@)g.h. 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 }{n[_:[7 8.9 四层抗反射薄膜 153 `$AX!,<!G 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 ~Ub'5M 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ,*+F*:o(m 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 {<v?Z_!68 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 'Wn'BRXq3 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 <2fZYt vt 8.15十五层宽带抗反射膜 159 ^GD"aerNr 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 quTM|>=_R 8.17 1/4波长堆栈 162 N41)?-7F 8.18 陷波滤波器 163 &j<B22t! 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Xat>d>nJ] 8.20 褶皱 165 kOfbO'O9 8.21 消偏振分光器1 169 ~dkS-6q~Q 8.22 消偏振分光器2 171 ;/XWX$G@ 8.23 消偏振立体分光器 172 L09YA 8.24 消偏振截止滤光片 173 QgqR93Ic 8.25 立体偏振分束器1 174 2TXrVaM 8.26 立方偏振分束器2 177 7.,C'^ci 8.27 相位延迟器 178 bz[U< |