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3p#BEH<re 内容简介 Ncsk~=[ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 @V71%D8{ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 f1TYQ?e 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 2qe]1B; 'D17]Lp~. 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 Fv2U@n6'v 目录 rLJjK$_x Preface 1 P=PVOt@
b 内容简介 2 bYB:Fe=2 目录 i xI,7ld~ 1 引言 1 $x|4cW2 2 光学薄膜基础 2 HG:9yP<,o 2.1 一般规则 2 K %Qj<{) 2.2 正交入射规则 3 I>(-&YbC 2.3 斜入射规则 6 O YayTKxN 2.4 精确计算 7 JF-ew"o<E 2.5 相干性 8 Yb=Z`) 2.6 参考文献 10 U[WR?J4~LX 3 Essential Macleod的快速预览 10 ,n\'dMNii 4 Essential Macleod的特点 32 >gGdzL 4.1 容量和局限性 33 }S}9Pm,: 4.2 程序在哪里? 33 e'L$g-;>4b 4.3 数据文件 35 6Cz%i6) 4.4 设计规则 35 ~Lf>/w 4.5 材料数据库和资料库 37 NI33lp$V 4.5.1材料损失 38 '?j,oRz^T 4.5.1材料数据库和导入材料 39
v+qHH8 4.5.2 材料库 41 e!.r- v9 4.5.3导出材料数据 43 E!}~j 4.6 常用单位 43 VFjNrngl 4.7 插值和外推法 46 J4>k9~q 4.8 材料数据的平滑 50 Mr
u 4.9 更多光学常数模型 54 +y\mlfJ.-b 4.10 文档的一般编辑规则 55 CZ.XEMN\ 4.11 撤销和重做 56 #(f- cK 4.12 设计文档 57 6gN>P%n 4.10.1 公式 58 'Nn>W5#)) 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Kta7xtu 4.10.3 沉积密度 59 #5/.n.X" 4.10.4 平行和楔形介质 60 OF/DI)j3 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 6O#
xV:Uc< 4.10.4 性能 61 iqh"sx{5bp 4.10.5 保存设计和性能 64 M<VZISu)dy 4.10.6 默认设计 64 G@I/Dy 4.11 图表 64 ,~^BoH} 4.11.1 合并曲线图 67 M@?,nzs
K 4.11.2 自适应绘制 68 04wO9L; 4.11.3 动态绘图 68 HDV$y=oHh 4.11.4 3D绘图 69 vivU4:uH3 4.12 导入和导出 73 y`Km96Ui 4.12.1 剪贴板 73 Hb|y`O k 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 6p1)wf.J 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 |\iJ6m;a 4.13 背景 77 /By`FW Y 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 +ZU@MOni 4.15 生成Rugate 84 f )K(la^' 4.16 参考文献 91 l7M![Ur 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 f{j(H?5 5.1 Jobs 92 JMIS*njq^ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 >wJt# ZB 5.3 输入材料 94 3I%F,-r 5.4 设计数据文件夹 95 n\G88)Dv`V 5.5 默认设计 95 8
DE%ot 6 细化和合成 97 =V(|3?N 6.1 优化介绍 97 hm+,o_+ 6.2 细化 (Refinement) 98 .6xIg+ 6.3 合成 (Synthesis) 100 -|aNHZr 6.4 目标和评价函数 101 "- XJZ;5 6.4.1 目标输入 102 3Sclr/t 6.4.2 目标 103 0 CFON2I 6.4.3 特殊的评价函数 104 7m+d;x2 6.5 层锁定和连接 104 f1}am< 6.6 细化技术 104 #k*P/I~ 6.6.1 单纯形 105 %tC3@S 6.6.1.1 单纯形参数 106 i!k5P".o^ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 /ig'p53jL 6.6.2.1 Optimac参数 108 \yNe5 6.6.3 模拟退火算法 109 1e(QI)
~ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ^geC?m 6.6.4 共轭梯度 111 sn6:\X<[ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 0z1UF{{ 6.6.5 拟牛顿法 112 _b(y"+k 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 uBXl ltU 6.6.6 针合成 113 J0Ik@ 6.6.6.1 针合成参数 114 '"QN{ja 6.6.7 差分进化 114 k~+(X|!5w 6.6.8非局部细化 115 ^N`bA8 6.6.8.1非局部细化参数 115 {u4=*>?G 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ZN]LJ4|xu 6.7.1 细化 116 pz]T9ol~ 6.7.2 合成 117 c4AkH| 6.8 参考文献 117 JVx
,1lth 7 导纳图及其他工具 118 VM [U&g<8n 7.1 简介 118 !W3bHy:C" 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 )of?!>'S[ 7.2.1 四分之一波长规则 119 \gE6KE<?p 7.2.2 导纳图 120 WUnmUW[/ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 X;D"}X4(E 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 Pm*N!:u 7.5 斜入射导纳图 141 ; M%n=+[O 7.6 对称周期 141 ds9L4zfO 7.7 参考文献 142 ]J
aV +b'O 8 典型的镀膜实例 143 vsU1Lzna6@ 8.1 单层抗反射薄膜 145 }&I^1BHZs 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 8H})Dq%d 7 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 H*M )<"X 8.4 W-膜层 148 ]IZn#gnM 8.5 V-膜层 149 z%cpV{Nu 8.6 V-膜层高折射基底 150 lm
1Mz 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 7Ne`F(c 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 MsL*\)*s 8.9 四层抗反射薄膜 153 9Nkr=/I"P 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 3TS(il9A 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 .2V`sg.! 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 :UrS@W^B 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 ">LX>uYmX- 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 wh~g{(Xvq 8.15十五层宽带抗反射膜 159 OE4hGxG 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 `J(im 8.17 1/4波长堆栈 162 ee0)%hc1t 8.18 陷波滤波器 163 wgeR%#DW 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 nM?mdb 8.20 褶皱 165 }%;o#!<N(@ 8.21 消偏振分光器1 169 tAM t7p- 8.22 消偏振分光器2 171 x?unE@?\S 8.23 消偏振立体分光器 172 MI,b`pQ 8.24 消偏振截止滤光片 173 N7b+GqYpF> 8.25 立体偏振分束器1 174 v[O }~E7' 8.26 立方偏振分束器2 177 !&k}YF 8.27 相位延迟器 178 ^lp#j;Df 8.28 红外截止器 179
{"([p L 8.29 21层长波带通滤波器 180 w>]?gN?8Fe 8.30 49层长波带通滤波器 181 0L5n<< |