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 OZ`cE5"i  内容简介  &}DfIP<  Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 a`wjZ"}'[  《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 2ZK]}&yC  薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 x`6MAZ    ')xOL=w  讯技科技股份有限公司 2015年9月3日&bTCTDZh 目录 b0~r/M;J
 Preface 1 
'|H+5#
 内容简介 2 KjGu	!B
 目录 i ebA:Sq:w
 1  引言 1 }geb959
 2  光学薄膜基础 2 yY VR]H H
 2.1  一般规则 2 6A"$9sj6
 2.2  正交入射规则 3 Nj9A-*0g6N
 2.3  斜入射规则 6 m]qw8BoU`F
 2.4  精确计算 7 gWj-@o\
 2.5  相干性 8 /WQ.,a
 2.6 参考文献 10 Zc7;&cz
 3  Essential Macleod的快速预览 10 l>6tEOXt
 4  Essential Macleod的特点 32 J[}H^FR
 4.1  容量和局限性 33 R3B+vLGX
 4.2  程序在哪里? 33 oN032o?S
 4.3  数据文件 35 '/O:@P5qY
 4.4  设计规则 35 %`]+sg[i
 4.5  材料数据库和资料库 37 x/,;:S
 4.5.1材料损失 38 Yjoe|
 4.5.1材料数据库和导入材料 39 4 OPY
 4.5.2 材料库 41 NK|UeL7ght
 4.5.3导出材料数据 43 ZvRa"j
 4.6  常用单位 43 r;Sk[Y5#
 4.7  插值和外推法 46 sq$v6x	sl
 4.8  材料数据的平滑 50 eiK_JPF A-
 4.9 更多光学常数模型 54 53t_#Yte
 4.10  文档的一般编辑规则 55 
7)2K6<q
 4.11 撤销和重做 56 2yA)SGri
 4.12  设计文档 57 bZxN]6_
 4.10.1  公式 58  +M"j#H
 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 #/>TuJc
 4.10.3  沉积密度 59 UA<Fxt
 4.10.4 平行和楔形介质 60 kmC@\xTp
 4.10.5  渐变折射率和散射层 60 KF(H
>gs
 4.10.4  性能 61 PK]3uh
 4.10.5  保存设计和性能 64 J,}h{-Xy`
 4.10.6  默认设计 64 +a5F:3$
 4.11  图表 64 H )ej]DXy
 4.11.1  合并曲线图 67 bYsX?0T!p
 4.11.2  自适应绘制 68 5Zq
hyv=
 4.11.3  动态绘图 68 |62` {+
 4.11.4  3D绘图 69 4!dc/K
 4.12  导入和导出 73 J?O0ixU
 4.12.1  剪贴板 73 4l 67B]o
 4.12.2  不通过剪贴板导入 76 P%2v(
 4.12.3  不通过剪贴板导出 76 TIGtX]`
 4.13  背景 77 6H |1IrG
 4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 cx[^D,usf~
 4.15  生成Rugate 84 ^_]ZZin
 4.16  参考文献 91 {SV/AN
 5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 rUI?{CV
 5.1  Jobs 92 9@|52dz%
 5.2  创建一个新Job(工作) 93 &jJu=6	U
B
 5.3  输入材料 94 "D'e
 5.4  设计数据文件夹 95 /p
!A:8
 5.5  默认设计 95 PYCN3s#Gi
 6  细化和合成 97 a{`hAI${
 6.1  优化介绍 97 = wz}yfdrC
 6.2  细化 (Refinement) 98 &5 "!0
 6.3  合成 (Synthesis) 100 i.mv`u	Dm
 6.4  目标和评价函数 101 <K0epED
 6.4.1  目标输入 102 
\0)jWCK
 6.4.2  目标 103 .OdtM
Xy
 6.4.3  特殊的评价函数 104 u`'"=Y_E
 6.5  层锁定和连接 104 hU$aZ
 6.6  细化技术 104 )ce 6~
 6.6.1  单纯形 105 p!pf2}6Fd
 6.6.1.1 单纯形参数 106 ]$/oSa/
 6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 _ $a3lR
 6.6.2.1 Optimac参数 108 	81Z;hO"~
 6.6.3  模拟退火算法 109 bv4umL	/
 6.6.3.1 模拟退火参数 109 flCT]ZR
 6.6.4  共轭梯度 111 x?L[*N_ml
 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 N`W[Q>n
 6.6.5  拟牛顿法 112 YPGM||
 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 +[G9PP6
 6.6.6  针合成 113 )Q1>j	2&
 6.6.6.1 针合成参数 114 i.E2a)
 6.6.7 差分进化 114 W\l&wR
 6.6.8非局部细化 115 %0GwO%h},
 6.6.8.1非局部细化参数 115 6=f)3!=
 6.7  我应该使用哪种技术? 116 .lcp5D[(
 6.7.1  细化 116 @}
Ig*@
 6.7.2  合成 117 :-RB< Lj
 6.8  参考文献 117 pA!-spgX
 7  导纳图及其他工具 118 QXb2jWz
 7.1  简介 118 c!\Gj|
 7.2  薄膜作为导纳的变换 118 ]?}>D?5
 7.2.1  四分之一波长规则 119 @_do<'a
 7.2.2  导纳图 120 JVoC2Z<
 7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 Jj=qC{]
 7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 <@Q27oEuA
 7.5  斜入射导纳图 141 HTL6;87w+]
 7.6  对称周期 141 e0(/(E:
 7.7  参考文献 142 nI3p`N8j*
 8  典型的镀膜实例 143 27!FB@k-
 8.1  单层抗反射薄膜 145 $M}"u[Qq
 8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 MG=E
6:
 8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 `jeATxWv
 8.4  W-膜层 148 xeF>"6\
 8.5  V-膜层 149 YYT;a$GTo
 8.6  V-膜层高折射基底 150 'APx
 8.7  V-膜层高折射率基底b 151 Pxl, "
 8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 Z:{|
?4
 8.9  四层抗反射薄膜 153 `Abd=1nH
 8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ,SIS3A>s
 8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 n.@HT"
 8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 *tv&
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