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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    E% Ko[G  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 +HD2]~{EkL  
    {7 ](-  
    8M BY3F  
    KmqgP`Cu  
    设计任务 H6KBXMYO  
    5B3sRF}  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 Fa{[kJ8z  
    e#WASHZN  
    UA4MtTp`  
    n S Vr,wU  
    光栅级次分析模块设置 )U8=-_m  
                           @Yw42`> !s  
    i@%a!].I  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 zW[HGI6w  
    Sg\+al7  
    y~VLa  
    a,n#E!zT?w  
    &F'n >QT9q  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 tU>7 jo[-p  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 $2Bll5!]  
    'S9jMyZrZ  
    OhM_{]*  
    衍射分束器表面  DD[<J:6  
    _~ 2o  
     KcpQ[6\  
    WP^wNi ~>  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 x}{O9LiR  
    {Z>Mnw"R  
    wzY{ii  
    r =]$>&  
    ^5k~ 7F.  
    8LY^>.  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) 9j 0o)]  
    crgVedx~}  
    V~$?]Z%_  
    fd&>p  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 bH%d*  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 E0u&hBd3_  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 I(z16wQ  
    [88PCA:  
    *{O[}  
    s+h}O}RV  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 Bt(nm> Ng  
    NuXII-  
    0Ld"df*  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 6yC4rX!a  
    |:L}/onK  
    TrQUhmS/!  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 T5dnj&N ]  
    M5N #xgR  
    ^3QJv{)Q  
                设计与评估结果            相位功能设计 t"vkd  
                结构设计TEA评价 7s Gf_`Z  
    FMM评估            高度标度(公差) N_l_^yD  
    F4IU2_CnPD  
    通用设置 <driD'=F  
     k =O  
    v z&88jt  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 4v9d& m!<  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 O0eM*~zI  
    O .jCDAP  
    纯相位传输设计 x }]"jj2x  
    | 3`8$-  
    VL|Z+3L  
    @E>I<j,D  
    结构设计 Mt@Ma ]!  
    !.499H3  
    y~Mu~/s  
    I ^[[*Bh*C  
    7"OJ,Mx%  
            更深的分析 B`)bo}h  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 gJ^taUE  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 {vQ:4O!:  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 }L=Qp=4  
    7;pQ'FmZJ  
    ZX'3qW^D  
    2WE01D9O  
    使用TEA进行性能评估 M C y~~DL  
    ^z51f>C  
    p =-~qBw  
    m|v$F,Lv  
    使用FMM进行性能评估 5<P6PHdY  
    ARG8\qU  
    )_6W@s  
    [GcW*v  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 g8@F/$HY  
    i1*0'x  
    |7${E^u  
    x~K79Mya  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 o'8nQ Tao  
    7xfS%'=y"  
    !7p&n3dz  
    ?# RhHD  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 :>F3es`  
    k$>5v +r0  
     
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