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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    2)O-EAn  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 1=fP68n  
    <5oG[1j  
    ')ZM# :G  
    tqdw y.  
    设计任务 ,^]yU?eU  
    19.+"H  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 yk1.fxik'  
    (8bo"{zI  
    I$Z8]&m  
    FdT@}  
    光栅级次分析模块设置 yXg #<H6V  
                           /%W&zd=%#  
    Qx$C oY  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 4~;x(e@S  
    }bwH(OOS  
    ?!PpooYK  
    <B,z)c  
    # tN#_<W  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 `/WX!4eR,  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 $w,&h:.p  
    d9'gH#f?  
    P)VysYb?  
    衍射分束器表面 $+#Lq.3,  
    >Q159qZ  
    :nk$?5ib  
    zq(R!a6  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 $9_yD&&  
    XYeuYLut  
    nYfZ[Q>v  
    #0yU K5J  
    x3dP`<   
    {yPJYF_l  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) xMck A<E  
    Y!M&8;>  
    ?Q`u\G3.m  
    X?p.U  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 okl*pA)  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 -Re4G78%  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 -b?yzg, 8  
    gpo+-NnG  
    n\ l$R!zr  
    s\7]"3:wD  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 -kFPmM;  
    %hEhZW{:  
    JqX+vRY;dd  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 F\Qukn  
    w 0V=49  
    Sb9O#$89  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 l]pHj4`uv  
    )0RznFJ+X  
    ^U[c:Rz  
                设计与评估结果            相位功能设计 eiiI Wr_7  
                结构设计TEA评价 !KYX\HRW  
    FMM评估            高度标度(公差) @Yv+L)  
    ^ Tr )gik  
    通用设置 DOk(5gR  
    BQWe8D  
    s<}d)L(  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 t%xD epFQ  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 STfcx] L  
    dnZA+Pa  
    纯相位传输设计 _A[k&nO!&J  
    q4'Vb  
    hcQky/c\#b  
    ;r**`O  
    结构设计 B~[}E]WEK  
    1Wz -Z  
    Rds_Cd C  
    0N" VOEvG  
    m2j&v$  
            更深的分析 QX1rnVzg0  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 sBsf{%I[{  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 F@+FXnz  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 L)0j&  
    **].d;~[l  
    WAzYnl'p  
    }ZP;kM$g  
    使用TEA进行性能评估 BqF%2{  
    W.B;Dy,Y  
    @W{VT7w  
    =th(Hdk17  
    使用FMM进行性能评估 ZmJ!ZKKch  
    A,P_|  
    Z9TUaMhF  
    "ggViIOw&  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 (JgW")M`cY  
    4| 6<nk_  
    zc}qAy'<  
    F|rJ{=x  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 %syFHUBw  
    N2 vA/  
    _kgGz@/p  
    ?0ezr[`.  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 H(MCY3t  
    ?Aewp$Bj  
     
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