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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    /f[Ek5/-0  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 0ZjT.Ep  
    {}$rN@OM$  
    1)= H2n4)  
    ?1ey$SSU]  
    设计任务 H7'42J@  
    ^# $IoW  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 Dd1k?  
    6 >)fNCe`  
    ]S%_&ZMCM  
    iAH,f5T  
    光栅级次分析模块设置 9W=(D|,,  
                           &MpLm&  
    a Y)vi$;]  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 :\~>7VFg  
    7SHllZ  
    TIJH} Ri  
    XdJD"|,h  
    ^P9mJ:  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 (n kg  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 ~S('\h)1  
    0cG[<\qT  
    2-'_Nwkl*  
    衍射分束器表面 ~a_hOKU5  
    Y)k"KRW+  
    h> bjG  
    JAHg_!  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 sN1H{W  
    2@MpWj4  
    Y A,. C4=s  
    yr},pB  
    ^!B]V>L-  
    3YLK?X8  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) h1q 3}-  
    f1:>H.m`  
    oqvu8"  
    }m<+tn3m  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 cy@oAoBq  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 QyA^9@iVs  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 bDDP:INm.  
    dXDyY  
    N $>Ml!J  
    w(bvs&`{uC  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 EJ {vJZO  
    r4u ,I<ZbH  
    b6S"&hs  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 :Jyr^0`J  
    "d-vs t5  
    NdJ]\>5oN,  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 !QdX+y<re  
    " :e <a?  
    ]foS.D,  
                设计与评估结果            相位功能设计 roZn{+f  
                结构设计TEA评价 jA^yUd-  
    FMM评估            高度标度(公差) vV"YgN:  
    +9LzDH  
    通用设置 E<LH-_$  
    +mG"m hF  
    .&5 3sJ0{  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 J_+2]X7n  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 \=RV?mI3?  
    >Ch2Ep  
    纯相位传输设计 a:P+HU:  
    4NRj>y  
    iaMl>ua  
    (Qw>P42J  
    结构设计 xX%{i0E  
    .HTRvE`X  
    DCa=o  
    ^VzhjKSu  
    CNV^,`FX  
            更深的分析  ~9YEb  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 rLeQB p'  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 zBca$Vp  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 V9KRA 1  
    a-#$T)mmfj  
    Jl\U~i  
    I7h v'3u  
    使用TEA进行性能评估 L8E4|F}  
    "8) %XSb  
    h+_:zWU  
     f^}n#  
    使用FMM进行性能评估 uu-M7>+  
    uQ ]ZMc  
    ^Et^,I:`  
    asQ^33g z  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 "\lO Op^-  
    Bvj  
    _^?_Vb  
    >C{8}Lg-.  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 Ya jAz5N  
    VeEa17g&  
    f\hQ>MLzt  
    N.|zz)y  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 25 U+L  
    ,9KnC=_y  
     
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