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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    :(tSL{FO  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 [P#^nyOh(  
    R:=C  
    . 2_t/2  
    `L0aQ$'>z  
    设计任务 ,Nl]rmI  
    2{naSiaq  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 UJ' +Z6d  
    9D74/3b*  
    !M:m(6E1  
    B@!a@0,,_  
    光栅级次分析模块设置 _i [.5  
                           $$C5Q;7w!  
    0 [6llcuj  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 Yo0%5 noz  
    +kCVi  
    f M 8kS  
    dIv/.x/V  
    '>FJk`iI  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 :&$4&\_F  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 M (dVY/ i  
    YLk; ^?  
    js )G   
    衍射分束器表面 }%k,PYe/  
    <LM<,  
    3}O.B r|  
    i gzISYC_  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 Cnf;5/  
    bu"Jb4_a>  
    @ [_I|  
    QI>yi&t  
    p-V#nPb  
    F=   
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) : 4$Ex2  
    S8j;oJ2 d  
    &rj6<b1A  
    s%]-Sw9  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 tF)K$!GR[  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 %z! w- u+  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 9Vk61x6  
    ia|^>V>-  
    >VP\@xt(R[  
    L]0+ u\(  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 4@#1G*OO  
    S4<@ji  
    Y%qhgzz?/  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 r5[om$|*  
    `h5HA-ud  
    en7i})v\".  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 "Gcr1$xG8!  
    D+rDgrv  
    !Dkz6B*  
                设计与评估结果            相位功能设计 n]4)~ZIAU  
                结构设计TEA评价 bf3LNV|  
    FMM评估            高度标度(公差) #l~ d  
    dv4)fG]W;_  
    通用设置 IC[SJVH;  
    P>euUVMPz4  
    .}ZX~k&P  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 DLyHC=%{+h  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 eFXxkWR)  
    0]8+rWp|Nz  
    纯相位传输设计 8+a/x#b-  
    ]Ke|wRQD  
    &.kg8|s{  
    f&`v-kiAn=  
    结构设计 DS>s_3V  
    y=9a2 [3Dz  
    I>/`W  
    KGi@H%NN  
    2 T{PIJg3  
            更深的分析 SfJ/(q  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。  g/+M&k$  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 aC3\Hs  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 i BJ*6orz  
    )2YU|  
    xx;'WL,g  
    nIph[Vs-Z  
    使用TEA进行性能评估 1sc #!^Oo  
    7u5B/M!  
    j K[VEhs  
    e/;Ui  
    使用FMM进行性能评估 E\m?0]W|  
    w])~m1yW  
    }J`{g/  
    ~R)w 9uq  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 rF~q"9  
    '4Z%{.;  
    G&C)`};  
    *B:{g>0  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 qx0o,oZN!  
    N0 ?O*a  
    ~w]1QHA'f  
    xDADJ>u2K  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 ^D4b\mF  
    }f&7<E  
     
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