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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    Uqb]&2  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 "l9aBBiu  
    UfPHV%Wd  
    gnjhy1o  
    +'-.c"  
    设计任务 wMj #.Jh  
    s'oNW  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 pu+Q3NfR  
    SJ<v< B  
    TYb$+uY  
    \hZ%NL j  
    光栅级次分析模块设置 3F@P$4!#l  
                           vsZ?cd  
    &b`W<PAc?4  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 PCHspe9!y  
    Y)DX   
    e).;;0  
    Y#XRn _2D  
    QxdC[t$Lp  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 Qj;{Z*l%+  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 (/N&_r4x  
    aY#?QjL  
    ON){d!]uJ  
    衍射分束器表面 &=BzsBh  
    TKv!wKI  
    eu9*3'@A  
    iGu%_-S  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 @anjjC5a~  
    gWGDm~+  
    w\YS5!P,V  
    %ACW"2#(  
    Mh4MaLw  
    ]5c(:T F  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) >#x[qX  
    ro\ oL  
    U:C:ugm  
    6<<"9mxK  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 5EcVW|(  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 j *G: 8Lg  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 H{vKk  
    ~}}<+JEEO  
    ^]nLE]M  
    Rbf6/C  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 #%\0][Xf  
    5 tQz!M  
    mGj)Zrx>  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 #mw !_]  
    oNyYx6q:Q  
    hOU H1m.  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 $TXxhd 6  
    0bDc 4m  
    *uhQP47B  
                设计与评估结果            相位功能设计 0X5cn 0L^  
                结构设计TEA评价 M% \ T5  
    FMM评估            高度标度(公差) &,k!,<IF  
    3- Kgz  
    通用设置 );7 d_#  
    j#n ]q{s4  
    5]N0p,f  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 9kH~=`:?  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 X3l>GeUi  
    Q+T#J9Y  
    纯相位传输设计 E]OexRJ^i  
    y9 {7+]  
    pT]hPuC  
    UhDQl%&He  
    结构设计 #T_!-;(Z  
    Uz^N6q  
    (@+pz/  
    $72eHdy/yl  
    (XO=W+<'  
            更深的分析 SKL4U5D{  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 )=[\YfK  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 K6IT$$g  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 yS W$zA,  
    Q"XDxa'7"  
    9&eY<'MgP  
    ;{sZDjev>  
    使用TEA进行性能评估 L1SKOM$  
    N>H@vt~  
    sN[}B{+  
    j ~-N2b6z  
    使用FMM进行性能评估 O2{["c e  
    |IcW7(  
    o72r `2  
    %Rc#/y  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 `MOw\Z)..  
    aj&L ZDD6  
    Z!"-LQJ  
    7 m{lOR  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 f8:nKb>nq$  
    5^g*  
    =0g!Q   
    g-sNYd%?a  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 t`Z'TqP R  
    H0afu)$,  
     
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