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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    ,x (?7ZW>  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 {lv@V*_Y0  
    ,3+#?H  
    ),DLrGOl  
    )DR/Xu;b  
    设计任务 o03Y w)*  
    [g<rzhC~=  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 r.WQ6h/eZ5  
    z89!\Q  
    H3Ws$vl9n  
    0oT~6BGm  
    光栅级次分析模块设置 <c; U 0! m  
                           },eV?eGj  
    _ tba:a(  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 >#u9W'@|  
    (:|g"8mQm  
    qcVmt1"  
    jWpm"C  
    H6o_*Y  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 3UR'*5|'  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 CdZS"I  
    M9C v00&  
    JE~;gz]  
    衍射分束器表面 Vi 9Kah+  
    }Od=WQv+  
    c_~tCKAZ   
    rS|nO_9f  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 %fJ~ 3mu  
    n{*A<-vL  
    uO^,N**R#  
    lVptA3F  
    }.L:(z^L,Y  
     Iz_#wO  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) .]XBJc  
    }uFV\1  
    'QOV!D  
    q1Sr#h|  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 +,q#'wSQG  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 9z'(4U  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 r"4&.&6  
    NG+%H1!$_  
    D~Rv"Hh  
    FlyRcj  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 M&SY2\\TB  
    <^n@q f}  
    r?%,#1|$$  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 Nu,t,&B   
    x'iBEm  
    Xs Ey8V  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 ;659E_y>  
    $z,rN\[  
    MwE^.6xl{  
                设计与评估结果            相位功能设计 =38c}(  
                结构设计TEA评价 kNg{  
    FMM评估            高度标度(公差) @v~<E?Un  
    =a $7^d  
    通用设置 v"x'rx#  
    1$n!Lj=5  
    nd)`G$gL  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 ` st^i$A  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 _m@+d>f_  
    2{A/Fbk  
    纯相位传输设计 lz:+y/+1  
    FIN0~ 8  
    ,<O|#`?"@G  
    p?,T%G+gqO  
    结构设计 m?y'Y`  
    h[& \ OD,P  
    LTZ~Id-)P  
    9jJ:T$}  
    ekPn`U  
            更深的分析 .2f0e[J  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 QI4a@WB]ok  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 )YPu t.  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 #9/S2m2\YG  
    7J|e L yj  
    RD6`b_]o  
    A 6j>KTU  
    使用TEA进行性能评估 MT^krv(G  
    ]]6  
    !{S HlS  
    55V&[>|K5  
    使用FMM进行性能评估 !=p^@N7  
    !glGW[r/7  
    &\5%C\0Z<  
    Eemk2>iP?  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 &d6  
    9$=o({  
    oLc  
    en8l:INX  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 ]}9D*V  
    9t"/@CH{  
    EViDMp"  
    tW \q;_DSr  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 icXeB_&cS  
    yr q){W  
     
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