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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    jjs-[g'}  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 \Ew2@dF{O  
    -7lJ  
    /dCZoz~~T  
    ?qdG)jo=  
    设计任务 &iuc4"'  
    3)=$BSC%  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 \aG>(Mr  
    R|_?yV[  
    xi-^_I  
    YoXXelO&  
    光栅级次分析模块设置 #<)u%)`  
                           yNO5h]o  
    0L|A  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 G.9?ApG9  
    .L8S_Mz  
    #T+%$q [:  
    )@Ly{cw   
    (CEJg|,  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 nF05p2Mh  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 <pz;G}  
    ?QZ\KY  
    ;]|Z8#s  
    衍射分束器表面 bd9]'  
    ^>[Z~G($  
    NoV2<m$  
    @ %kCe>r  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 WPLAh_fe  
    iN_G|w[d  
    m39 `f,M  
    " GgK,d}%  
    7kHEY5s "  
    i9_ZK/*  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) nx=Zl:Q}  
    w$pBACX  
    5PG%)xff*  
    T0v;8E e  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 JhIgq W2  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 {p+7QlgK  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 ]7Tjt A.\q  
    JZ'`.yK:  
    MWu67">"  
    &ciU`//`  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 0d~>zKho  
    jCxw|tmgq  
    #"=_GA^.{  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 B<x)^[<v  
    Y;4nIWe JL  
    8" XbW7^o  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 1 @tVfn}  
    LS*^TA(I[  
    W/OZ}ky}^  
                设计与评估结果            相位功能设计 22)2o lU  
                结构设计TEA评价 aPWlV= oG  
    FMM评估            高度标度(公差) (%D*S_m'  
    +eg$Z]Lht  
    通用设置 HI*xk  
    XOAZ  
    K FvNsqd  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 M S)(\&N  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 a 39Kl_\  
    T}jryN;J5  
    纯相位传输设计 ppP7jiGo  
    icOh/G=N;  
    VnAJOR7lrx  
    80U07tJ  
    结构设计 3V>2N)3`A  
    +pURF&Pr  
    v `9IS+Z  
    E`}KVi57  
    CXwDG_e  
            更深的分析 QK)"-y}"g  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 bsO78a~=P  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 x >hnH{~w  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 X`YAJG  
    dcew`$SJp  
    ?aR)dQ  
    96x0'IsaG  
    使用TEA进行性能评估 GdVq+,Ge  
    }D-h=,];  
    Y5M>&}N  
    f^z/s6I0  
    使用FMM进行性能评估 ,{!~rSq-l  
    Q[O[,Rk  
    O RAKg.49  
    3C{3"bP  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 wyvrNru<l4  
    H48`z'o  
    LT']3w  
    {P ZN J 2~  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 t=J WD2  
    eAR]~ NiW  
    9 &a&O Z{  
    %9Br  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 AC :cV='  
    W=fs"<  
     
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