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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    yE\dv)(<  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 z}" Xt=G?  
    wd/"! A4(  
    k3 65.nc  
    wjr1?c  
    设计任务 c%|18dV  
    KV!!D{VS`@  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 m),3J4(q  
    \*5_gPj!d  
    nEZo F  
    j^g^=uau  
    光栅级次分析模块设置 1i.t^PY  
                           !]W}I  
    vB:_|B  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 Iaq7<$XU  
    O%(E 6 n  
    R9/(z\'}  
    s5s'$|h"  
    6+MZ39xC  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 \s.c.c*eh;  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 ~olta\|  
    !Ol>![  
    7,sslf2%K  
    衍射分束器表面 r&G=}ZMO  
    w2!5Cb2  
    v$O%U[e<  
    nJ.<yrzi  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 -m&8SN  
    8h&Ed=gi  
    /A U& X  
    fNVNx~E  
    =]pcC  
    xp395ub6  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) -!dL <  
    9` /\|t|V  
    wX3x.@!:  
    =%4vrY `  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 "g)@jqq:>  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 +%$'( t s  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 d$uh .?F5  
    YGBVGpE9  
    DQ{Yr>J  
    ( aGwe@AS  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 A~CQ@  
    Z/-!-  
    MYzyg  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 : kVEB<G  
    $e=pdD~  
    H0Q.; !^  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 &></l| hY  
    1D42+cy  
    /7$3RV(  
                设计与评估结果            相位功能设计 t7rz]EN  
                结构设计TEA评价 5I!EsW$sY  
    FMM评估            高度标度(公差) \}0J%F1  
    T@[(FVA N  
    通用设置 2=3pV!)4}  
    4s?x 8oAy  
    aZ%  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 -[cl]H)V  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 jP{LMmV  
    9/rX%  
    纯相位传输设计 #tyHjk  
    @za X\  
    qB`zyd8yu  
    ^^[MDjNy@  
    结构设计 >&K1+FSmyJ  
    bgW=.s  
    $a|DR  
    Sm;EWz-?  
    y*,3P0*z  
            更深的分析 %m:T?![XO  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 sK~d{)+T  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 *5$$C&@o9  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 :T5p6:  
    _y Q*  
    {/]Ks8`Dm  
    J1I"H<}-6  
    使用TEA进行性能评估 .6Swc?  
    |k~\E|^  
    uf;^yQi  
    B_w;2ZuA  
    使用FMM进行性能评估 #un#~s 7Q  
    @Oe!*|?mS  
    5gP#V K  
    X4emhB  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 3%Jg' Tr+  
    5b9v`6Kq  
    GWZ0!V  
    \S(:O8_"68  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 k,>sBk 8  
    ,bRvj8"M  
    (`}O!;/E}  
    e-;$Iv  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 "R-1 G/  
    ^Z7])arA  
     
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