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;`Ch2b1+ 内容简介 "VOWV3Z Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 V,%5
hl'& 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 {?M*ZRO' 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 y8 u)Q p[+me o 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 Yoym5<xE 目录 ?z36mj"`o Preface 1 6je%LHhL 内容简介 2 Bd]DhPhJ 目录 i ~k_zMU-1 1 引言 1 L,ey3i7a\ 2 光学薄膜基础 2 rnrx%Q 2.1 一般规则 2 #1lS\! 2.2 正交入射规则 3 #~qp8
w 2.3 斜入射规则 6 WX$^[^=HC 2.4 精确计算 7 #]hkQo 2.5 相干性 8 wtick~) 2.6 参考文献 10 a[9OtZX< 3 Essential Macleod的快速预览 10 I&@@v\$* 4 Essential Macleod的特点 32 =1B&d[3; 4.1 容量和局限性 33 K%#C+`Ij 4.2 程序在哪里? 33
F nRxc 4.3 数据文件 35 +mF 2yh 4.4 设计规则 35 a5+v)F/= 4.5 材料数据库和资料库 37 @ dU3d\!} 4.5.1材料损失 38 m<HjL 4.5.1材料数据库和导入材料 39 tQ<2K*3] 4.5.2 材料库 41 ju6_L< 4.5.3导出材料数据 43
x a,LV 4.6 常用单位 43 %R5MAs&-5 4.7 插值和外推法 46 R$3+ 01j| 4.8 材料数据的平滑 50 PH=8'GN 4.9 更多光学常数模型 54 F4l6PGxF&\ 4.10 文档的一般编辑规则 55 \O4=mJ 4.11 撤销和重做 56 yodrX&" 4.12 设计文档 57 545xs`Q_ 4.10.1 公式 58 `SbX`a0p2 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 *qOCo_=P8 4.10.3 沉积密度 59 n8ya$bc 4.10.4 平行和楔形介质 60 yc}t(*A5 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 Q%h
o[KU 4.10.4 性能 61 +Rd{ ?)2~ 4.10.5 保存设计和性能 64 U}h
|Zk 4.10.6 默认设计 64 &BR?;LD 4.11 图表 64 -$p-o
Z) 4.11.1 合并曲线图 67 Bnc 4.11.2 自适应绘制 68 c>k6i?u:X7 4.11.3 动态绘图 68 LKG|S<s 4.11.4 3D绘图 69 P"VLGa 4.12 导入和导出 73 _!vbX
mb 4.12.1 剪贴板 73 OH~qJ< 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 =l_"M 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 M:M<bz Vu 4.13 背景 77 ~hX'FV 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 9e6{( 4.15 生成Rugate 84 X28WQdP,7 4.16 参考文献 91 sZ$ ~abX 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 c9k,Dc 5.1 Jobs 92 +t6m>IBu 5.2 创建一个新Job(工作) 93 Y'R1\Go- 5.3 输入材料 94 tr+~@]I+ 5.4 设计数据文件夹 95 t)+dW~g 5.5 默认设计 95 a}{! %5 6 细化和合成 97 'D{abm0 6.1 优化介绍 97 !(o2K!v0 6.2 细化 (Refinement) 98 $SgD|
9 6.3 合成 (Synthesis) 100 );LwWKa 6.4 目标和评价函数 101 v#G ^W 6.4.1 目标输入 102 Hn.UJ4V 6.4.2 目标 103 34+}u,= 6.4.3 特殊的评价函数 104 KfS^sT 6.5 层锁定和连接 104 tx-bzLo\ 6.6 细化技术 104 +r"$?bw' 6.6.1 单纯形 105 6dlPS{H#U 6.6.1.1 单纯形参数 106 [V~bo/n 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 b@Cvs4 6.6.2.1 Optimac参数 108 aP gG+tu 6.6.3 模拟退火算法 109 bp_@e0 6.6.3.1 模拟退火参数 109 sP!qv"u 6.6.4 共轭梯度 111 "yk%/:G+ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 [?2mt`g 6.6.5 拟牛顿法 112 aKO@_R,: 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 WDR!e2G 6.6.6 针合成 113 -OxHQ 6.6.6.1 针合成参数 114 tDVdl^# 6.6.7 差分进化 114 WdnP[x9 6.6.8非局部细化 115 5#PhaVc 6.6.8.1非局部细化参数 115 ,j<"~"]
= 6.7 我应该使用哪种技术? 116 I'hQbLlG 6.7.1 细化 116 $%'z/'o! 6.7.2 合成 117 @YELqUb* 6.8 参考文献 117 MN4}y5 7 导纳图及其他工具 118 Y#,MFEd 7.1 简介 118 e^TF.D?RS 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 [OSUARm
v 7.2.1 四分之一波长规则 119 1g+<`1=KT 7.2.2 导纳图 120 4{pa`o3 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 9OBPFF 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 I 3PnyNZ 7.5 斜入射导纳图 141 =G :H)i 7.6 对称周期 141 'cv/"26# 7.7 参考文献 142 5**xU+& 8 典型的镀膜实例 143 JZ
[&: 8.1 单层抗反射薄膜 145 +l\Dp 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 Heu@{t.[!D 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 4j5 "{ 8.4 W-膜层 148 w.\:I[ 8.5 V-膜层 149 ej `$-hBBV 8.6 V-膜层高折射基底 150 -u{:39y{n 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 ikC;N5Sw 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 !RI&FcK 8.9 四层抗反射薄膜 153 $}@ll^ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 S6
*dp68 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 Rx.0P6s 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 6gXc-}dp 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 )C[8#Q-: 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 wpdT " 8.15十五层宽带抗反射膜 159 `4MPXfoBL 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 RD^o& |