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{Bk[rCl 内容简介 ./-5R|fN Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 +O"!qAiK 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 m!gz3u]rN 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
Us)Z^s NokU)O ;x 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日
DH[p\Wy' 目录 SbND
Y{5RO Preface 1 ?}Z1bH 内容简介 2 ed]=\Key 目录 i GD&uQ`Y5 1 引言 1 p09HL%~R 2 光学薄膜基础 2 f~t:L,\, 2.1 一般规则 2 `EEL1[:BR 2.2 正交入射规则 3 A^nvp!_ 2.3 斜入射规则 6 Y#]+Tm(+ 2.4 精确计算 7 }d[ kxo 2.5 相干性 8 !Xh=k36 2.6 参考文献 10 L(/e&J@>< 3 Essential Macleod的快速预览 10 Y4OPEo 5o 4 Essential Macleod的特点 32 qt"G[9; 4.1 容量和局限性 33 ."TxX.&HE 4.2 程序在哪里? 33 8{|8G-Mi 4.3 数据文件 35 [8P:?nDDL 4.4 设计规则 35 !SC`D])l 4.5 材料数据库和资料库 37 NC8t)
X7 4.5.1材料损失 38 -0d0t! 4.5.1材料数据库和导入材料 39 OPetj.C/a 4.5.2 材料库 41 aB*Bz]5;E 4.5.3导出材料数据 43 }HL]yDO 4.6 常用单位 43 m- %E-nr 4.7 插值和外推法 46 <>n0arAn 4.8 材料数据的平滑 50 a Fc1|.Nm 4.9 更多光学常数模型 54 6 +Sxr 4.10 文档的一般编辑规则 55 }^4Xv^dW>g 4.11 撤销和重做 56 %OtFHhb 4.12 设计文档 57 Eav[/cU 4.10.1 公式 58 H ;7(}:. 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 0v6)t.]s 4.10.3 沉积密度 59 u~r=)His 4.10.4 平行和楔形介质 60 pe0F0Ruy 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 HpR]q05d 4.10.4 性能 61 ;5wn67' 4.10.5 保存设计和性能 64 f"B3,6m 4.10.6 默认设计 64 \K_ET> ! 4.11 图表 64 w:??h4lt 4.11.1 合并曲线图 67 #&cI3i 4.11.2 自适应绘制 68 Gn22<C/ 4.11.3 动态绘图 68
,ZKr.`B 4.11.4 3D绘图 69 h&|[eZt?F 4.12 导入和导出 73 ];} Wfl 4.12.1 剪贴板 73 &w 4?)# 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 Hh%I0# 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 7@C<oy_bb 4.13 背景 77 /;{P}-H`ei 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ?42<J%p
4.15 生成Rugate 84 yxonRV$& 4.16 参考文献 91 +QB"8- 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 +~St !QV% 5.1 Jobs 92 6T>mW#E& 5.2 创建一个新Job(工作) 93 B*qi_{Gp 5.3 输入材料 94 pb^i^tA+A 5.4 设计数据文件夹 95 2^XGGB0 5.5 默认设计 95 Z<U6<{b 6 细化和合成 97 OHv[#xGuV? 6.1 优化介绍 97 `{4i)n%e& 6.2 细化 (Refinement) 98 FRcy`) 6.3 合成 (Synthesis) 100 K*\'.~[6 6.4 目标和评价函数 101 yhlFFbU 6.4.1 目标输入 102 Gk967pC 6.4.2 目标 103 %/EVUN9= 6.4.3 特殊的评价函数 104 RFKtr 6.5 层锁定和连接 104 w^(<N7B3T 6.6 细化技术 104 H!vax)%-\ 6.6.1 单纯形 105 agkA}O 6.6.1.1 单纯形参数 106 eD-#b| 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 d[r#-h>dS 6.6.2.1 Optimac参数 108 ]5BX:% 6.6.3 模拟退火算法 109 }{M#EP8q+ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 fz;iOjr>
6.6.4 共轭梯度 111 |
H!28h 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 M]<?k]_p 6.6.5 拟牛顿法 112 832v"kCD 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ()`7L|(`;q 6.6.6 针合成 113 9s_vL9u 6.6.6.1 针合成参数 114 L9-h;] x! 6.6.7 差分进化 114 Ok{*fa.PK 6.6.8非局部细化 115 tzZ63@cm 6.6.8.1非局部细化参数 115 jNe`;o 6.7 我应该使用哪种技术? 116 Kfm5i Q 6.7.1 细化 116 @HT% n 6.7.2 合成 117 sfLMkE 6.8 参考文献 117 Z,`iO%W 7 导纳图及其他工具 118 EJ@?h(O 7.1 简介 118 K )[]fm 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 b`L%t:u{d 7.2.1 四分之一波长规则 119 s~X+*@. 7.2.2 导纳图 120 d#6`&MR 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 '"y|p+=j: 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 $m7?3/YG 7.5 斜入射导纳图 141 )64@2~4y 7.6 对称周期 141 ttXXy3G# 7.7 参考文献 142 yPM3a7-Bm 8 典型的镀膜实例 143 NxSu3e~PS 8.1 单层抗反射薄膜 145 :z}MIuf 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 %509\;el 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 I[b}4M6E 8.4 W-膜层 148
(]_ 1 8.5 V-膜层 149 ?P4w]a 8.6 V-膜层高折射基底 150 YiYV>gaf"H 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 HfcL%b%G8 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 b:=TB0Fx?n 8.9 四层抗反射薄膜 153 Zkx[[gzL 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 17D"cP 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 qL5{f(U4< 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 "nm FzN 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 ?!wgH9?8 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 "8'@3$>R= 8.15十五层宽带抗反射膜 159 ]DZE% 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 U;bK!& |