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S#-wl2z 内容简介 v~T7` Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 26dUA~|KJ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 @WQK>-=(3 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 i]=&
dWXstb:[ 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 :U
d 目录 v?0r`<Mn Preface 1 kdxz ! 内容简介 2 5aBAr 目录 i Tx1vL 1 引言 1 -*~CV:2iq- 2 光学薄膜基础 2 3)ma\+< 6 2.1 一般规则 2 +vNZW@_$D 2.2 正交入射规则 3 hY*0aZ|( 2.3 斜入射规则 6 zVi15P$ 2.4 精确计算 7 Z1ALq5 2.5 相干性 8 =\,uy8HX 2.6 参考文献 10 'S<%Xm 3 Essential Macleod的快速预览 10 '=E3[0W 4 Essential Macleod的特点 32 K*IxUz( 4.1 容量和局限性 33 [L6w1b, 4.2 程序在哪里? 33 o7TN,([W 4.3 数据文件 35 l{:a1^[>y 4.4 设计规则 35 @v}B6j b; 4.5 材料数据库和资料库 37 jSOS}!= 4.5.1材料损失 38 dLvJh#`o 4.5.1材料数据库和导入材料 39 @)>D))+ 4.5.2 材料库 41 aZet0?Qr 4.5.3导出材料数据 43 {/LZcz[ 4.6 常用单位 43 :^'O}2NP 4.7 插值和外推法 46 T#
lP!c 4.8 材料数据的平滑 50 FZ|CqD"# 4.9 更多光学常数模型 54 !j1[$% =# 4.10 文档的一般编辑规则 55 `k;KBW 4.11 撤销和重做 56 5tv<8~:K 4.12 设计文档 57 C{Asp 4.10.1 公式 58 X 6lH|R 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 '~ 4pl0TWc 4.10.3 沉积密度 59 tu>{ 4.10.4 平行和楔形介质 60 `p0ypi3hn 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 KtB!"yy# 4.10.4 性能 61 a`E*\O'd 4.10.5 保存设计和性能 64 wQ+dJ3b$ 4.10.6 默认设计 64 HPQ/~0$ 4.11 图表 64 kvGCbRC 4.11.1 合并曲线图 67 :Pq.,s 4.11.2 自适应绘制 68 Fl{WAg 4.11.3 动态绘图 68 D-IR!js ] 4.11.4 3D绘图 69 ?X9]HlH 4.12 导入和导出 73 0rokR&Y-d 4.12.1 剪贴板 73 C}?0`!Cc% 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 zSv^<`X3 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 0IT@V5Gdj 4.13 背景 77 3+xy4G@L 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 y^Vw`-e 4.15 生成Rugate 84 DjCx~@ 4.16 参考文献 91 p T[gdhc 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 _M,lQ~ 5.1 Jobs 92 `Zz uo16 5.2 创建一个新Job(工作) 93 C+F*690h 5.3 输入材料 94 Qn:kz*: 5.4 设计数据文件夹 95 _2hXa!yO 5.5 默认设计 95 @!Hr|k| 6 细化和合成 97 b-@\R\T 6.1 优化介绍 97 P20|RvE 6.2 细化 (Refinement) 98 ,>LRa 6.3 合成 (Synthesis) 100 "Vd_CO 6.4 目标和评价函数 101 K3mAXC,d 6.4.1 目标输入 102 Zt@Z=r:& 6.4.2 目标 103 0nW F 6.4.3 特殊的评价函数 104 Ep ~wWQh 6.5 层锁定和连接 104 =y%rG :! 6.6 细化技术 104 X6RQqen3: 6.6.1 单纯形 105 uXQ >WI@eF 6.6.1.1 单纯形参数 106 ]M,06P>? 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ?mRE'# 6.6.2.1 Optimac参数 108 Eff\Aq{ 6.6.3 模拟退火算法 109 W W "i 6.6.3.1 模拟退火参数 109 .~=HgOJ 6.6.4 共轭梯度 111 ~!+ _[uJ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Nm]%
} 6.6.5 拟牛顿法 112 :DkAQ-<~ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 qJ8-9^E,L 6.6.6 针合成 113 |G=[5e^s[ 6.6.6.1 针合成参数 114 BH@b1} 6.6.7 差分进化 114 PI|`vC|yy& 6.6.8非局部细化 115 8NimZ( 6.6.8.1非局部细化参数 115 8
#oR/Nt 6.7 我应该使用哪种技术? 116
FA>1x*;c 6.7.1 细化 116 =qoRS0Qa 6.7.2 合成 117 (U87}}/l 6.8 参考文献 117 SFjU0*B$ 7 导纳图及其他工具 118 Y?Vz(udD
7.1 简介 118 GVd48 * 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 EZ#gp^$ 7.2.1 四分之一波长规则 119 6~5$s1Yc 7.2.2 导纳图 120 &1)xoZ'\ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 }X$l\pm 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 'I/h(
7.5 斜入射导纳图 141 CJNG) p 7.6 对称周期 141 ;R[&pDx 7.7 参考文献 142 +T_ p8W+j 8 典型的镀膜实例 143 ,EhVSrh)_4 8.1 单层抗反射薄膜 145 @R:#" 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 +lp{#1q0 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 sm s1%%~ 8.4 W-膜层 148 M%=P)cC 8.5 V-膜层 149 &v#`t~ 8.6 V-膜层高折射基底 150 17py).\ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 pZ+j[! 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 izt^Wi| 8.9 四层抗反射薄膜 153 d$1#< |