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 +2}cR66%  内容简介  ^)I}#  Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 D[?;+g/  《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Xdo\DQn  薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 6)*B%$?x    fQ~TZ:UrU  讯技科技股份有限公司 2015年9月3日l
U8pX$ 目录 [f!
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-T
 Preface 1 rfYa<M Qc
 内容简介 2 %p$XK(6
 目录 i de)4)EzUP
 1  引言 1 [7d(PEQL`
 2  光学薄膜基础 2 %8h=_(X\7
 2.1  一般规则 2 6wj o:I
 2.2  正交入射规则 3 S9]I[4
 2.3  斜入射规则 6 \Vroz=IT:
 2.4  精确计算 7 h# KSKKNW
 2.5  相干性 8 c61OT@dZEA
 2.6 参考文献 10 8)=(eI$
 3  Essential Macleod的快速预览 10 iw=e"6V
 4  Essential Macleod的特点 32 2O*At%CzW
 4.1  容量和局限性 33 ZI;*X~h
 4.2  程序在哪里? 33 od5nRb
 4.3  数据文件 35 leb/D>y
 4.4  设计规则 35 s]OZ+^Z
 4.5  材料数据库和资料库 37 fP5i3[T
 4.5.1材料损失 38 r5ldK?=k+*
 4.5.1材料数据库和导入材料 39 %8|lAMTY7/
 4.5.2 材料库 41 t&EizH$
 4.5.3导出材料数据 43 {:*G/*1[.
 4.6  常用单位 43 /*{'p!?
 4.7  插值和外推法 46 `B4Ilh"d
 4.8  材料数据的平滑 50 yn$1nt4
 4.9 更多光学常数模型 54 2>o^@4PnZ
 4.10  文档的一般编辑规则 55 HR"clD\{Di
 4.11 撤销和重做 56 )^AZmUYZ
 4.12  设计文档 57 C?>d$G8
 4.10.1  公式 58 d'ZB{'[8p
 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 1.k=ji$D0
 4.10.3  沉积密度 59 JVkuSIR>
 4.10.4 平行和楔形介质 60  |;xEKnF
 4.10.5  渐变折射率和散射层 60 =}Zl
E
 4.10.4  性能 61 mRRZ/m?A(
 4.10.5  保存设计和性能 64 F-rhxJd
 4.10.6  默认设计 64 u"(NN9s
 4.11  图表 64 :Ae#+([V
 4.11.1  合并曲线图 67 Hv/5)
 4.11.2  自适应绘制 68 Md@x2Ja
 4.11.3  动态绘图 68 }BU%<5CQ
 4.11.4  3D绘图 69 )Z1&`rv
 4.12  导入和导出 73 
m (MQ
 4.12.1  剪贴板 73 -dO8Uis$
 4.12.2  不通过剪贴板导入 76 NfPWcK[
 4.12.3  不通过剪贴板导出 76 u&uFXOc'
 4.13  背景 77 ;$zvm`|:
 4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ;`LG WT-<F
 4.15  生成Rugate 84 tc[Ld#
 4.16  参考文献 91  VBPtM{g
 5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 ,cS#
 5.1  Jobs 92 9x!kvB6
 5.2  创建一个新Job(工作) 93 CEkUXsp
 5.3  输入材料 94 mz%l4w?'
 5.4  设计数据文件夹 95 iY$iL<
 5.5  默认设计 95 qpjZ-[UC
 6  细化和合成 97 AVw oOvJ
 6.1  优化介绍 97 .O'~s/h
 6.2  细化 (Refinement) 98 }Vob)r{R@
 6.3  合成 (Synthesis) 100 f~\H|E8(
 6.4  目标和评价函数 101 LEPTL#WT1
 6.4.1  目标输入 102 ><D2of|
 6.4.2  目标 103 =E]tEi
 6.4.3  特殊的评价函数 104 tt2
S.j
 6.5  层锁定和连接 104 7F0J*M
 6.6  细化技术 104 0Zwx3[bq6K
 6.6.1  单纯形 105 /eH37H
 6.6.1.1 单纯形参数 106 HM0&%
 6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 }(!Uq
 6.6.2.1 Optimac参数 108 (|Gwg \r
 6.6.3  模拟退火算法 109 u9KT_`
)
 6.6.3.1 模拟退火参数 109 Z;a)P.l.>
 6.6.4  共轭梯度 111 EC8Z. Uu
 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 -O?HfQ
 6.6.5  拟牛顿法 112 Qx,#Hj
 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 |[iO./zP
 6.6.6  针合成 113 aY?VP?BL
 6.6.6.1 针合成参数 114 ;@ixrj0u
 6.6.7 差分进化 114 #GlFm?/6K/
 6.6.8非局部细化 115 }=R0AKz!Cv
 6.6.8.1非局部细化参数 115 R/"-r^j
 6.7  我应该使用哪种技术? 116 S-o)d
 6.7.1  细化 116 "1^tVw|
 6.7.2  合成 117 y[.lfW?)
 6.8  参考文献 117 .rO~a.kG
 7  导纳图及其他工具 118 "Hz%0zP&
 7.1  简介 118 )#i"hnYpQ
 7.2  薄膜作为导纳的变换 118 us?q^>u
 7.2.1  四分之一波长规则 119 
0LL65[
 7.2.2  导纳图 120 mxF+Fp~
 7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 2IW!EUR
 7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 +C7E]0!r
 7.5  斜入射导纳图 141 DFQ`(1Q
 7.6  对称周期 141 Q njK<}M9
 7.7  参考文献 142 ^j${#Q
 8  典型的镀膜实例 143 HAI)+J
 8.1  单层抗反射薄膜 145 WgR%mm^
 8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 C^,baCX
 8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 #tHYCSr]
 8.4  W-膜层 148 /cx'(AT
 8.5  V-膜层 149 a@jM%VZ
 8.6  V-膜层高折射基底 150 IFew3!{\
 8.7  V-膜层高折射率基底b 151 wMN;<
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