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gaZu;t2u 内容简介 OCBgR4I Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 hhCrUn" 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ^\4h<M 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 6\g cFfo ;V *l.gr'2 ^hZ0IM
PoG-Rqe 目录 w9< R#y[A Preface 1 Uq^#r iq 内容简介 2 Y^$X*U/q%U 目录 i {>hC~L?6 1 引言 1 pKpUXfQu 2 光学薄膜基础 2 ,-8"R`UI8 2.1 一般规则 2 n\*!CXc 2.2 正交入射规则 3 au:
fw 2.3 斜入射规则 6 3G}x;Cp\D 2.4 精确计算 7 A%KDiIA 2.5 相干性 8 H[,i{dD 2.6 参考文献 10 a7r%X - 3 Essential Macleod的快速预览 10 TO]@
Zu1 4 Essential Macleod的特点 32 ,!#*GZ.ix 4.1 容量和局限性 33 2mVD_ s[` 4.2 程序在哪里? 33 QdF5Cwf4 4.3 数据文件 35 6-$jkto 4.4 设计规则 35 WW4vn|0v 4.5 材料数据库和资料库 37 Br1&8L-|% 4.5.1材料损失 38 9K{%vK 4.5.1材料数据库和导入材料 39 ,(qRc(Ho 4.5.2 材料库 41 lr>oYS0 4.5.3导出材料数据 43 BJ$9vbhZN 4.6 常用单位 43 dCi?SIN 4.7 插值和外推法 46 #U!
_U+K 4.8 材料数据的平滑 50 oM2l-[- 4.9 更多光学常数模型 54
P5a4ze 4.10 文档的一般编辑规则 55 V58wU:li 4.11 撤销和重做 56 ORe(]I`Z 4.12 设计文档 57 R!\_rc1/ 4.10.1 公式 58 !h"Kq>9T 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Qu?R8+"KS 4.10.3 沉积密度 59 =RA / 4.10.4 平行和楔形介质 60 LClNxm2X 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 \F1_lq;K 4.10.4 性能 61 dP#|$1 4.10.5 保存设计和性能 64 (eI5_`'VC 4.10.6 默认设计 64 i2E)P x 4.11 图表 64 !=;+%C&8y 4.11.1 合并曲线图 67 `^u>9v-+' 4.11.2 自适应绘制 68 zM bN;tu 4.11.3 动态绘图 68 dgR
g>)V 4.11.4 3D绘图 69 "-e
\p lKj 4.12 导入和导出 73 ;X?}x%$ 4.12.1 剪贴板 73 N60rgSzI 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 s)noo 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 8ja$g, 4.13 背景 77 b LlKe50 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 K0-ypU*P 4.15 生成Rugate 84 "+kL)] 4.16 参考文献 91 PDJr<E? 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 B~ ]k#Ot) 5.1 Jobs 92 <sWprR 5.2 创建一个新Job(工作) 93 4 !i$4 5.3 输入材料 94 6IBgt!=, 5.4 设计数据文件夹 95 W5EDVPur 5.5 默认设计 95 kpJ@M%46
6 细化和合成 97 0Vlk;fIh 6.1 优化介绍 97 ?I6fye7 6.2 细化 (Refinement) 98 CJ1 7n 6.3 合成 (Synthesis) 100 JlH&?? 6.4 目标和评价函数 101 En~5"yW5>] 6.4.1 目标输入 102 ;YA(|h< 6.4.2 目标 103 o<|cA5f\ 6.4.3 特殊的评价函数 104 qaY1xPWz" 6.5 层锁定和连接 104 $bW3_rl%X 6.6 细化技术 104 Ov5" 6.6.1 单纯形 105 7E!IF>` 6.6.1.1 单纯形参数 106 }SX,^|eN 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 [$qyF|/K`n 6.6.2.1 Optimac参数 108 *@Lp`thq 6.6.3 模拟退火算法 109 }+)fMZz 6.6.3.1 模拟退火参数 109 vMA]j>> 6.6.4 共轭梯度 111 Sh/T , 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 <v)1<*I 6.6.5 拟牛顿法 112 KC/=TSSXd. 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 D?;"9e% 6.6.6 针合成 113 >"|B9Woc 6.6.6.1 针合成参数 114 gRCdY8GH 6.6.7 差分进化 114 *^g:P^4 6.6.8非局部细化 115 4lr(,nPRD 6.6.8.1非局部细化参数 115 l n{e1':$" 6.7 我应该使用哪种技术? 116 4]yOF_8h 6.7.1 细化 116 J2::'Hw*s 6.7.2 合成 117 SQ44 6.8 参考文献 117 wP6Fl L 7 导纳图及其他工具 118 A0o-:n Fu 7.1 简介 118 [<2<Y 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 '10oK {m$ 7.2.1 四分之一波长规则 119 !Y$h"<M 7.2.2 导纳图 120 fmQ_P.c 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 Yk)."r& |