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maa$kg8U*! 内容简介 Yf/e(nV Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 "G,,:H9v 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 E;9J7Q
4 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 X{(?p=] j5og}Pq: n^b CrvD
K#'$_0. 目录 $:# :"
Preface 1 %YbL%i|U 内容简介 2 |KZX_4 目录 i
?!<Q8= 1 引言 1 -ssmj8:Q\| 2 光学薄膜基础 2 mkfDDl2 GP 2.1 一般规则 2 }/#*opcv 2.2 正交入射规则 3 )\PX1 198 2.3 斜入射规则 6 O jNOvh&N 2.4 精确计算 7 |i~-,:/-Y 2.5 相干性 8 ;nJ2i?" 2.6 参考文献 10 ^)GaVL^"5 3 Essential Macleod的快速预览 10 Z9MR"!0 4 Essential Macleod的特点 32 ]Yf^O @<<> 4.1 容量和局限性 33 !@wUARQ 4.2 程序在哪里? 33 U|{ 4=[ 4.3 数据文件 35 CU*TY1% 4.4 设计规则 35 =CD.pw)B1 4.5 材料数据库和资料库 37 {'[VL;k 4.5.1材料损失 38 +0j{$MPZ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 h_\(
$" 4.5.2 材料库 41 2b,edJVt? 4.5.3导出材料数据 43 ]N;nq 4.6 常用单位 43 dh.{lvlX| 4.7 插值和外推法 46 zY7M]Az 4.8 材料数据的平滑 50 edCVIY'1 4.9 更多光学常数模型 54 zb4{nzX= 4.10 文档的一般编辑规则 55 [8q`~S%-] 4.11 撤销和重做 56 H "5,To 4.12 设计文档 57 )MLbE-@ 4.10.1 公式 58 J7C?Z 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 x!vyjp 4.10.3 沉积密度 59 <L11s%5- 4.10.4 平行和楔形介质 60 >,tJq% 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 <}h<By) 4.10.4 性能 61 PkZ1Db 4.10.5 保存设计和性能 64 c~ vql4 4.10.6 默认设计 64 $Ff6nc= 4.11 图表 64 y\(xYB>T 4.11.1 合并曲线图 67 AWPgrv/ 4.11.2 自适应绘制 68 SIKaDIZ 4.11.3 动态绘图 68 \jV2":[%c 4.11.4 3D绘图 69 /er{sKVX< 4.12 导入和导出 73 tQYV4h\Qj 4.12.1 剪贴板 73 8~yP?#p 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 ^i2>Ax&T 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 Y0-?"R8 4.13 背景 77 K"|~D0Qgo 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 vM]5IHqeE 4.15 生成Rugate 84 x7G)^ 4.16 参考文献 91 avM8-&h 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 5O]ZX3z> 5.1 Jobs 92 ]Hq,Pr_+ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 :?LNP3} 5.3 输入材料 94 98| v.d 5.4 设计数据文件夹 95 R,["w98a 5.5 默认设计 95 6v]`s 6 细化和合成 97 KaS*LDzw 6.1 优化介绍 97 K7.ayM 0 6.2 细化 (Refinement) 98 - US>]. 6.3 合成 (Synthesis) 100 .w _BA) 6.4 目标和评价函数 101 2L[!~h2 6.4.1 目标输入 102 OwPHp&{ Y 6.4.2 目标 103 yB/F6/B~ 6.4.3 特殊的评价函数 104 8z7eL>) 6.5 层锁定和连接 104 QVkji7)ZT 6.6 细化技术 104 ?b'(39fj 6.6.1 单纯形 105 b/JjA 6.6.1.1 单纯形参数 106 xdDe@G;" 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 [`s.fkb8 6.6.2.1 Optimac参数 108 _TmKn!Jw 6.6.3 模拟退火算法 109 \,n
X/f 6.6.3.1 模拟退火参数 109 nUVk;0at 6.6.4 共轭梯度 111 n%RaEL 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 &OE-+z 6.6.5 拟牛顿法 112 pDJN}XtjT 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ;@Z1y 6.6.6 针合成 113 @Q{:m)\ 6.6.6.1 针合成参数 114 m8x?`Gw~jw 6.6.7 差分进化 114 Nu3IYS5& 6.6.8非局部细化 115 [{#TN 6.6.8.1非局部细化参数 115 f%1\1_^g 6.7 我应该使用哪种技术? 116 Anpp`>}N 6.7.1 细化 116 trjeGSt& 6.7.2 合成 117 :w
Y%= 6.8 参考文献 117 Z%LS{o~LK. 7 导纳图及其他工具 118 5D?{dA:Rq 7.1 简介 118 ]Ol
w6W?% 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 CS*lk!C 7.2.1 四分之一波长规则 119 l-20X{$m: 7.2.2 导纳图 120 q[W@.[2y) 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 Wd(|w8J{a 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 8 $H\b &u 7.5 斜入射导纳图 141 PY4a3dp
U 7.6 对称周期 141 3D5adI<aq" 7.7 参考文献 142 bA$ElKT 8 典型的镀膜实例 143 tn _\E/Q 8.1 单层抗反射薄膜 145 7h!nt=8Y 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 #nft{AN 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 B-L@ 0gH 8.4 W-膜层 148 oa5L5Zr,A 8.5 V-膜层 149 =w8 0y' 8.6 V-膜层高折射基底 150 wv\"(e7( 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 Yt:%)&50}- 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 "?<`]WG\ 8.9 四层抗反射薄膜 153 EG & |