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m+ #G* 内容简介 .Pux F Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 6r[pOl: 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 "ZmxHMf 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 UM0#S} Cwji,* >}u#KBedE
t!>0^['g4 目录 vJ&35nF& Preface 1 4~WSIR- 内容简介 2 i9peQ61{ 目录 i I6S>*V 1 引言 1 ?~]mOv> 2 光学薄膜基础 2 n~i^+pD@ 2.1 一般规则 2 Ku3NE-) 2.2 正交入射规则 3 !8RJHMX& 2.3 斜入射规则 6 !Uhc jfq`e 2.4 精确计算 7 7a.iT-* 2.5 相干性 8 V@1,((,l 2.6 参考文献 10 qs9r$o.\l 3 Essential Macleod的快速预览 10 cn9=wm\\ 4 Essential Macleod的特点 32 :`4LV 4.1 容量和局限性 33 i2LN`5k 4.2 程序在哪里? 33 +>%AG&Pc 4.3 数据文件 35 bW3Ah?0N 4.4 设计规则 35 i}))6 4.5 材料数据库和资料库 37 ^vOEG;TR<- 4.5.1材料损失 38 160BgFM 4.5.1材料数据库和导入材料 39 =v{ R(IX% 4.5.2 材料库 41 X{h[ 4.5.3导出材料数据 43 D2\Ep L/ 4.6 常用单位 43 |CBJ8],mT 4.7 插值和外推法 46 z qd1G(tO 4.8 材料数据的平滑 50 QxBH{TG 4.9 更多光学常数模型 54 :a( Oc'T 4.10 文档的一般编辑规则 55 7?
="{; 4.11 撤销和重做 56 h?GE-F 4.12 设计文档 57 W:2]d 4.10.1 公式 58 .e5rKkkT 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 #"o`'5 4.10.3 沉积密度 59 3b<;y% 4.10.4 平行和楔形介质 60 ^4{{ +G)j 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 6(q8y(.` 4.10.4 性能 61 !B#tJD 4.10.5 保存设计和性能 64 G[P<!6Id!p 4.10.6 默认设计 64 !zfV(& 4.11 图表 64 7TZ,bD_ 4.11.1 合并曲线图 67 pWb8X}M 4.11.2 自适应绘制 68 VB4ir\nF 4.11.3 动态绘图 68 ZYz8ul$E 4.11.4 3D绘图 69 1.a:iweN 4.12 导入和导出 73 RRGs:h@; 4.12.1 剪贴板 73 .5#+)] l 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 :&s8G* 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 (T.g""N~` 4.13 背景 77 3C#Sr6 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 [Lf8*U" 4.15 生成Rugate 84 *o=( w5
4.16 参考文献 91 h<BTu7a`r 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 z,SNJIsx 5.1 Jobs 92 tz%H1` 5.2 创建一个新Job(工作) 93 BR~+CBH 5.3 输入材料 94 w|ct="MG 5.4 设计数据文件夹 95 $oi8<8Y 5.5 默认设计 95 SCq3Kh 6 细化和合成 97
8oJp_sw 6.1 优化介绍 97 QU@CPME 6.2 细化 (Refinement) 98 /J&_ZDNV~ 6.3 合成 (Synthesis) 100 3+I"Dm, 6.4 目标和评价函数 101 k_ijVfI9 6.4.1 目标输入 102 x0q`Uc 6.4.2 目标 103 0-Wv$o[ 6.4.3 特殊的评价函数 104 j<A; i 6.5 层锁定和连接 104 bX+"G}CRP 6.6 细化技术 104 :2;c@ uj 6.6.1 单纯形 105 PkF'#W% 6.6.1.1 单纯形参数 106 ^=w){]G 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 3MHByT% 6.6.2.1 Optimac参数 108 z s[zB# 6.6.3 模拟退火算法 109 a &hj| 6.6.3.1 模拟退火参数 109 qB3=wFI 6.6.4 共轭梯度 111 =o4McV} 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 {
b7%Zd3- 6.6.5 拟牛顿法 112 !f#[4Xw 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ]Q{MF- EKj 6.6.6 针合成 113 9Ljd
or 6.6.6.1 针合成参数 114 8?t}S2n2 6.6.7 差分进化 114 G 2FD'Sf 6.6.8非局部细化 115 kBrU%[0O 6.6.8.1非局部细化参数 115 /6#i$\ j 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ^W[3RiG 6.7.1 细化 116 `q?@ Ob& 6.7.2 合成 117 Cvtz&dH 6.8 参考文献 117 Xxs0N_va& 7 导纳图及其他工具 118 bbFzmS1 7.1 简介 118 - !s=`9o 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 `xFgYyiQd 7.2.1 四分之一波长规则 119
lD?]D& 7.2.2 导纳图 120 ob7hNo# 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 +HY.m+T 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 3xpygx9 7.5 斜入射导纳图 141 :ZU-Vi.b 7.6 对称周期 141 jN sM&s, 7.7 参考文献 142 X%Ta?(9|.^ 8 典型的镀膜实例 143 A{\!nq_~N 8.1 单层抗反射薄膜 145 O29GPs 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 c4FU@^Vv 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 r%` |kN 8.4 W-膜层 148 8|IlJiJ~v 8.5 V-膜层 149 6Vy4]jdT5 8.6 V-膜层高折射基底 150 Ly`FU) 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 ^ V8?6E 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 5`1p
? 8.9 四层抗反射薄膜 153 a O(&< 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 L7$1 rO< 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 )|L#i2?: 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 Yq-7! 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 QPp>%iE@ 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
BPC> 8.15十五层宽带抗反射膜 159 $Q*^c"& 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 J8PZVeWx 8.17 1/4波长堆栈 162 F!ra$5u 8.18 陷波滤波器 163 fBct%M 3 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 p|'Rm]&jb 8.20 褶皱 165 4>te>[ 8.21 消偏振分光器1 169 "l
1z@ 8.22 消偏振分光器2 171 =42NQ{%@; 8.23 消偏振立体分光器 172 ya/pn
qS 8.24 消偏振截止滤光片 173 p!2t/XIM 8.25 立体偏振分束器1 174 *^.OqbO[U 8.26 立方偏振分束器2 177 qJ<Ghd`8v 8.27 相位延迟器 178 3("E5lI(g: 8.28 红外截止器 179 e>< |