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Ug/b;( dJ' 内容简介 L9@nx7D Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 =ove#3 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 aCQAh[T 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 oh|Q&R o4U9jU4<" f`T#=6C4|
Y\s@'UoVN 目录 L,BuzU[1S Preface 1 QO~!S_FRH 内容简介 2 '?4B0= 目录 i iXI >>9 1 引言 1 0ZTT^2R 2 光学薄膜基础 2 n%A)#AGGc 2.1 一般规则 2 ?3[as<GZ8 2.2 正交入射规则 3 67^?v)| 2.3 斜入射规则 6 ?m0|>[j 2.4 精确计算 7 FK<1SOE 2.5 相干性 8 \Gg6&:Ua 2.6 参考文献 10 Ubv<3syR' 3 Essential Macleod的快速预览 10 uvi+#4~G 4 Essential Macleod的特点 32 *{6{ZKM 4.1 容量和局限性 33 TF2'-"2Y 4.2 程序在哪里? 33 C`Zz\DNG@ 4.3 数据文件 35 n2cb,b/7 4.4 设计规则 35 ^i:%0"[*^i 4.5 材料数据库和资料库 37 w6aq/m"' 4.5.1材料损失 38 Q3T@=z2j% 4.5.1材料数据库和导入材料 39 8(]*J8/wt 4.5.2 材料库 41 +K {J*
n 4.5.3导出材料数据 43 g\:(1oY 4.6 常用单位 43 &]tZ6 4.7 插值和外推法 46 ]2Zl\}GwY 4.8 材料数据的平滑 50 ?NWc3 . 4.9 更多光学常数模型 54 Jpm=V*P 4.10 文档的一般编辑规则 55 DxoW,GW 4.11 撤销和重做 56 lk;4l Z 4.12 设计文档 57 $b OiP 4.10.1 公式 58 aYW9C<5 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 @Jr:+|v3B 4.10.3 沉积密度 59 '*lVVeSiFw 4.10.4 平行和楔形介质 60 ^ZuwUuuf 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 "n'kv!?\ 4.10.4 性能 61 }LeizbU 4.10.5 保存设计和性能 64 a]\l:r 4.10.6 默认设计 64 m) QV2n 4.11 图表 64 -?nr q <3 4.11.1 合并曲线图 67 ZD ~ra7 4.11.2 自适应绘制 68 0 7b=Zhh 4.11.3 动态绘图 68 kn%i#Fz 4.11.4 3D绘图 69 (X zy~l< 4.12 导入和导出 73 maTQ0GX 4.12.1 剪贴板 73 zi%Ql|zI~ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 {#y~ Qk;T 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 4 '"C8vw. 4.13 背景 77 }2%L
0 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Vq$8!#~w 4.15 生成Rugate 84 A1g.ww: 4.16 参考文献 91 C8Ja>o2' 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 z;iNfs0i$ 5.1 Jobs 92 ]sLdz^E3D 5.2 创建一个新Job(工作) 93 y90wLU9f 5.3 输入材料 94 _59f.FsVR 5.4 设计数据文件夹 95 "rA-u)Te 5.5 默认设计 95 g|TWoRx: 6 细化和合成 97 H Q :Y: 6.1 优化介绍 97 D| |)H 6.2 细化 (Refinement) 98 N1iP!m9Q 6.3 合成 (Synthesis) 100 |tN:o=
6 6.4 目标和评价函数 101 D,\hRQ 6.4.1 目标输入 102 vB<9M-sa0 6.4.2 目标 103 F
~SA3M: 6.4.3 特殊的评价函数 104 0uL*-/| 6.5 层锁定和连接 104 P"[\p|[U 6.6 细化技术 104 z94#:jPmG 6.6.1 单纯形 105 `:.a5 6.6.1.1 单纯形参数 106 e1Q
6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 |W*#N8IP 6.6.2.1 Optimac参数 108 \r1nMw 3& 6.6.3 模拟退火算法 109 r(j :C%?}C 6.6.3.1 模拟退火参数 109 G,!{Q''w 6.6.4 共轭梯度 111 .fAHP
5- 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 YJGP8 6.6.5 拟牛顿法 112 [[#zB-| 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 |BBo 6.6.6 针合成 113 +I3j2u8L 6.6.6.1 针合成参数 114 BEtFFi6ot 6.6.7 差分进化 114 ;F|8#! ( 6.6.8非局部细化 115 X'{o/U. 6.6.8.1非局部细化参数 115 nc3usq 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ,n{R,]y\ 6.7.1 细化 116 2q4-9vu 6.7.2 合成 117 ZZM;%i-B 6.8 参考文献 117 m*|G2 7 导纳图及其他工具 118 !&},h= 7.1 简介 118 Dy&{PeE! 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 &$bcB]C\3 7.2.1 四分之一波长规则 119 KwNOB _ 7.2.2 导纳图 120 =%SH2kb 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 +#L'gc 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 bgeJVI 7.5 斜入射导纳图 141 v]\T&w%9 7.6 对称周期 141 |G)P
I`BH 7.7 参考文献 142 W2{4s
1 8 典型的镀膜实例 143 ivg W[] 8.1 单层抗反射薄膜 145 {b|V;/ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 h t3P@; 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 WCY5F 8.4 W-膜层 148 Th
X6e 8.5 V-膜层 149 SohNk9u[8 8.6 V-膜层高折射基底 150 [>LO'}% 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 }Te+Rv7{E 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 .P#t"oW} 8.9 四层抗反射薄膜 153 i0u`J 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 K5 EJ#1ov 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 *B)10R 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 yU>ucuF 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 >}B53.;.k 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 jx'hxC'3 8.15十五层宽带抗反射膜 159 ^HU>fkSk 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 EMPujik- 8.17 1/4波长堆栈 162 dVMLn4[,MA 8.18 陷波滤波器 163 $9h^tP'CV 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 =zR9^k 8.20 褶皱 165 M< H+$}[ 8.21 消偏振分光器1 169 Wr@q+Whq 8.22 消偏振分光器2 171 0v#p4@Z 8.23 消偏振立体分光器 172 5S[:;o 8.24 消偏振截止滤光片 173 '|}H,I{ 8.25 立体偏振分束器1 174 MP_/eC ; 8.26 立方偏振分束器2 177 ?69E_E 8.27 相位延迟器 178 E5?$=cL? 8.28 红外截止器 179 cT@H49#uB 8.29 21层长波带通滤波器 180 V/xjI< |