-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-02-27
- 在线时间1930小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
_:(RkS!x 内容简介 [6+iR Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 @\{L%y%a0 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 KO*# ^+g 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 )Fe6>tE SP}!v5. Y#aL]LxZE
&Pk #v 目录 yjcZTvjJ Preface 1 3y#0Lb-y 内容简介 2 T22
4L.? 目录 i 1Q[I $=-F 1 引言 1 ['~E _z 2 光学薄膜基础 2 6-"@j@l5< 2.1 一般规则 2 ..FEyf 2.2 正交入射规则 3 V{#8+ 2.3 斜入射规则 6 "==fWf 2.4 精确计算 7 ].AAHu5 2.5 相干性 8 5"~F#vt 2.6 参考文献 10 B{}<DP. 3 Essential Macleod的快速预览 10 ZLP)i;Az 4 Essential Macleod的特点 32 FM{^ND9x 4.1 容量和局限性 33 .DX 4.2 程序在哪里? 33 tVI6GXH 4.3 数据文件 35 :%&|5Ytb 4.4 设计规则 35 n 0/<m. 4.5 材料数据库和资料库 37 ??Lda=' 4.5.1材料损失 38 Gm`#0)VC 4.5.1材料数据库和导入材料 39 pCacm@(hG 4.5.2 材料库 41 V{A_\ 4.5.3导出材料数据 43 kZb #k# 4.6 常用单位 43 RA];hQI? 4.7 插值和外推法 46 azK7kM~ 4.8 材料数据的平滑 50 K_SURTys 4.9 更多光学常数模型 54 -hd@<+;E 4.10 文档的一般编辑规则 55 dG8_3T}i 4.11 撤销和重做 56 *'i9 4.12 设计文档 57 RpmOg
4.10.1 公式 58 e]9Z]a2 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 LE@<)}Au^ 4.10.3 沉积密度 59 0|i3#G_~ 4.10.4 平行和楔形介质 60 K*!qt(D& 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 \\R$C 4.10.4 性能 61 }Quk n 4.10.5 保存设计和性能 64 7.mYzl-F( 4.10.6 默认设计 64 MpNgp)%> 4.11 图表 64
R$|"eb5 4.11.1 合并曲线图 67 ,1K`w:uhS 4.11.2 自适应绘制 68 L'?7~Cdls 4.11.3 动态绘图 68 {sOW DM5 4.11.4 3D绘图 69 * :kMv;9 4.12 导入和导出 73 634OH*6 4.12.1 剪贴板 73 mb\"qD5 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 n g,&;E 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 >0X_UDAWz 4.13 背景 77 ,=IGqw 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 @S<6#zR 4.15 生成Rugate 84 7Gwo:s L 4.16 参考文献 91 drwD3jx0xv 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 S+ 3lX7 5.1 Jobs 92 d1qvS@ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 ljP<WD 5.3 输入材料 94 ` n#Db 5.4 设计数据文件夹 95 "@^^niSFl 5.5 默认设计 95 "Snt~:W> 6 细化和合成 97 o#K*-jOfiH 6.1 优化介绍 97 x
DiGN Jc 6.2 细化 (Refinement) 98 le|Rhs%Z% 6.3 合成 (Synthesis) 100 g\2/Ia+/@ 6.4 目标和评价函数 101 agGgj>DDd 6.4.1 目标输入 102 ;5p;i8m 6.4.2 目标 103 %,UTFuM` 6.4.3 特殊的评价函数 104 |!q,J 6.5 层锁定和连接 104 ]r\FC\n6e 6.6 细化技术 104 R>D [I. 6.6.1 单纯形 105 9;7|MPbR 6.6.1.1 单纯形参数 106 i5 0c N<o 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 l`<1Y| 6.6.2.1 Optimac参数 108 "wR1=&gk 6.6.3 模拟退火算法 109 QOR92}yC 6.6.3.1 模拟退火参数 109 (fun,(R6" 6.6.4 共轭梯度 111 XiMd|D 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 tMiy`CPh 6.6.5 拟牛顿法 112 \0veld 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 7G+E+A5o& 6.6.6 针合成 113 lyD=n 6.6.6.1 针合成参数 114 _iF*BnmN 6.6.7 差分进化 114 ~s{
V!)0 6.6.8非局部细化 115 Y#t9DhzFWo 6.6.8.1非局部细化参数 115 (M 2hK[ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 9e*o$)j_ 6.7.1 细化 116 %-KgR 6.7.2 合成 117 8ZF!}kb0F 6.8 参考文献 117 }X/>WiGh: 7 导纳图及其他工具 118 4YSVy2x 7.1 简介 118 Alk+MwjR 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 W#@6e')d 7.2.1 四分之一波长规则 119 IP 7.2.2 导纳图 120 Vq599M:)V 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 M`&78j 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 DkEf;P 7.5 斜入射导纳图 141
8'ut[ 7.6 对称周期 141 \1O
wZ@ 7.7 参考文献 142 .lAPlJOO 8 典型的镀膜实例 143 skYHPwJdW 8.1 单层抗反射薄膜 145 =pBr_pGz= 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 q 2P_37 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 S6<#] 6Z 8.4 W-膜层 148 7_R[=t 8.5 V-膜层 149 zZW5M^z8 8.6 V-膜层高折射基底 150 "%YVAaN 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 ceuEsQ} 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 Ss3~X90!*B 8.9 四层抗反射薄膜 153 vScEQS$> 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 j 8)*'T 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 =$y;0]7Lwi 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 Q@uWh: 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 R=3|(R+kA 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 ~d3|zlh 8.15十五层宽带抗反射膜 159 _<GXR
? 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 &Oc
`|r* 8.17 1/4波长堆栈 162 bcUSjG> 8.18 陷波滤波器 163 jwg*\HO,s 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 "g*`G< |