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D 内容简介 }@R*U0*E Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 <#c/uIN 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 $^[^]Q 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 re\pE2&B 1|U8DK 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 7RE'KH_$ 目录 PH6!T/2[ Preface 1 rd#O ] 内容简介 2 'Ipp1a
Z_M 目录 i nQy %av$ 1 引言 1 o*\Fj}l- 2 光学薄膜基础 2 <$ H-/~Y 2.1 一般规则 2 yL ?dC"c 2.2 正交入射规则 3 %3ieR}:/e& 2.3 斜入射规则 6 s2`:NS 2.4 精确计算 7 2h:*lV^ 2.5 相干性 8 tCoT-\Q 2.6 参考文献 10 #* KmPc+ 3 Essential Macleod的快速预览 10 )21yD1"6 4 Essential Macleod的特点 32 wtm= 4.1 容量和局限性 33 &\w:jI44Bs 4.2 程序在哪里? 33 =Fu~ 0Wc 4.3 数据文件 35 o3=2`BvJ 4.4 设计规则 35 c-?2>%;(V 4.5 材料数据库和资料库 37 qKL:#ny 4.5.1材料损失 38 1$A7BP 4.5.1材料数据库和导入材料 39 |3ob1/)p0 4.5.2 材料库 41 71)DLGL 4.5.3导出材料数据 43 AEUXdMo 4.6 常用单位 43 'h]sq{ 4.7 插值和外推法 46 s,~p}A%0 4.8 材料数据的平滑 50 m+3U[KKvG 4.9 更多光学常数模型 54 r]6X 4.10 文档的一般编辑规则 55 !Z0p94L 4.11 撤销和重做 56 reO^_q' 4.12 设计文档 57 T/9`VB%N 4.10.1 公式 58 u)NmjW 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 xRTr@ 4.10.3 沉积密度 59 N\f={O8E 4.10.4 平行和楔形介质 60 dc]D 8KX 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 xoT|fgb 4.10.4 性能 61 szZ8-Y 4.10.5 保存设计和性能 64 f>i" j 4.10.6 默认设计 64 !%8|R]d 4.11 图表 64 ` D9sEt_/ 4.11.1 合并曲线图 67 ,o?yS>L_r 4.11.2 自适应绘制 68 *F_ dP 4.11.3 动态绘图 68 FF} A_ZFY 4.11.4 3D绘图 69 x{|`q9V~ N 4.12 导入和导出 73 {(00,6M)i 4.12.1 剪贴板 73 udld[f. 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 et-<ib<lY 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ";>>{lYA. 4.13 背景 77 BZdryk:S 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 <
.\2Ec 4.15 生成Rugate 84 S|_} 0 4.16 参考文献 91 mh5ozv$ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 zfexaf! 5.1 Jobs 92 `8D)j>Yh~ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 D=!e6E<>@ 5.3 输入材料 94 i!tF{'*%# 5.4 设计数据文件夹 95 fc,^H& 5.5 默认设计 95 ]TTQ;F 6 细化和合成 97 P.j0 Xlof 6.1 优化介绍 97 Q*GJREC 6.2 细化 (Refinement) 98 s{30#^1R 6.3 合成 (Synthesis) 100 #JLxM/5^1~ 6.4 目标和评价函数 101 Uiz#QGt 6.4.1 目标输入 102 O=A(x m# 6.4.2 目标 103 q|EE
em 6.4.3 特殊的评价函数 104 eHt |O~ 6.5 层锁定和连接 104 3%J7_e' 6.6 细化技术 104 Gv$}>YJ 6.6.1 单纯形 105 ~?BN4ptc 6.6.1.1 单纯形参数 106 F~C9,`#Wf@ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 Mu~DB:Y9e 6.6.2.1 Optimac参数 108 W/?\ 8AE 6.6.3 模拟退火算法 109 (:TZ~"VY 6.6.3.1 模拟退火参数 109 q|r/%[[!o 6.6.4 共轭梯度 111 L{i,.aE/nO 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 +OTNn@!9 6.6.5 拟牛顿法 112 mv0JD( 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 'u)zQAaw. 6.6.6 针合成 113 n}T;q1 6.6.6.1 针合成参数 114 LYV\|a{Y 6.6.7 差分进化 114 <O]TM-h 6.6.8非局部细化 115 a2vZ' 6.6.8.1非局部细化参数 115 'T_Vm%\) 6.7 我应该使用哪种技术? 116 3u tJlD 6.7.1 细化 116 2b` 3"S 6.7.2 合成 117 |+|q`SwJ 6.8 参考文献 117 L6jD4ec8 7 导纳图及其他工具 118 I8%2tLVY 7.1 简介 118 zdh&,!] F6 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ;t_'87h$y 7.2.1 四分之一波长规则 119 1(;_1@P 7.2.2 导纳图 120 WF!u2E+ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 S.Z2gFE&tu 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ~$@~X*K~ 7.5 斜入射导纳图 141 .0gF&>I} 7.6 对称周期 141 w:0=L`<Eu 7.7 参考文献 142 3<L>BakD 8 典型的镀膜实例 143 7w_cKR1; 8.1 单层抗反射薄膜 145 #$ Q2ijT0 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 6(FkcC$G 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 {~lVe GBp 8.4 W-膜层 148 2VY.#9vl 8.5 V-膜层 149 &E(KOfk# 8.6 V-膜层高折射基底 150 <%~`!n,t0 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 js~?y|e8k 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 R54wNm@ 8.9 四层抗反射薄膜 153 C@7<0w 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 (
\ \BsK 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 x_yQoae
8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 tzKIi_2 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 .ZzxW 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 , '_y@9?I 8.15十五层宽带抗反射膜 159 Ns*&;x9 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 qMj'% 5/ 8.17 1/4波长堆栈 162 0j--X?- 8.18 陷波滤波器 163 tt=JvI9> 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ]3%(
'8/ 8.20 褶皱 165 VPAi[<FzOG 8.21 消偏振分光器1 169 $}* bZ~ 8.22 消偏振分光器2 171 ?)#qBE ] 8.23 消偏振立体分光器 172 !pwY@}oL 8.24 消偏振截止滤光片 173 =gYKAr^p5 8.25 立体偏振分束器1 174 U< |