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2022新书强烈推荐 _=w=!U&W =+e;BYD#! 内容简介 ~N2 [j Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 V" 5rIk 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 @M*5q# s 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 2J(,Xf WAr6Dv,8 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 ?.I1"C,#VJ 目录 ,=6;dT Preface 1 5IG#-Q(6sp 内容简介 2 6.v)q,JL 目录 i \n0Gr\: 1 引言 1 mqQ//$Y
2 光学薄膜基础 2 &>@EfW]( 2.1 一般规则 2 q_6<}2m,U 2.2 正交入射规则 3 !O,`Z`T? 2.3 斜入射规则 6 9@(V!G 2.4 精确计算 7 c5Hm94,p 2.5 相干性 8 cTJG1'm 2.6 参考文献 10 EU7mP
MxJ 3 Essential Macleod的快速预览 10 Nrp1`qY 4 Essential Macleod的特点 32 ]gb?3a}A 4.1 容量和局限性 33 B?XqH_=0L 4.2 程序在哪里? 33 -1F+,+m 4.3 数据文件 35 j&?@:Zg v 4.4 设计规则 35 w##$SaTI 4.5 材料数据库和资料库 37 ~<_PjV 4.5.1材料损失 38 cZ/VMQEr 4.5.1材料数据库和导入材料 39 @}e5T/{X}T 4.5.2 材料库 41 L6pw'1' 4.5.3导出材料数据 43 DTV"~>@ 4.6 常用单位 43 $Jy1=/W& 4.7 插值和外推法 46 vP&JL~ 4.8 材料数据的平滑 50 \g;-q9g;O 4.9 更多光学常数模型 54 s4\_%je<v 4.10 文档的一般编辑规则 55 ~p/1
9/ 4.11 撤销和重做 56 n ^C"v6X
4.12 设计文档 57 pL'+sW 4.10.1 公式 58 i\k>2df 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 8z"*CJ@ 4.10.3 沉积密度 59 8<g9 ~L 4.10.4 平行和楔形介质 60 *p%=u>?& 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 U{.y X7 4.10.4 性能 61 @X>Oj . 4.10.5 保存设计和性能 64 =I9RM9O< 4.10.6 默认设计 64 *1b)Va8v* 4.11 图表 64 w>gB&59r 4.11.1 合并曲线图 67 w'D=K_h 4.11.2 自适应绘制 68 #ANbhHG 4.11.3 动态绘图 68 GZqy.AE, 4.11.4 3D绘图 69 6<C|O- 4.12 导入和导出 73 O9 [Dae{i 4.12.1 剪贴板 73 ;l=ZW 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 kEM|;&=_ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 0)-yLfTn 4.13 背景 77 m&8'O\$ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 EJ`"npU
4.15 生成Rugate 84 /aD3E"Op 4.16 参考文献 91 LYyOcb[x 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 OuF%!~V 5.1 Jobs 92 s8 0$ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 EAXbbcV 5.3 输入材料 94 Vq<\ixRi 5.4 设计数据文件夹 95 ;sn]Blpq 5.5 默认设计 95 6` @4i'. 6 细化和合成 97 ify}xv 6.1 优化介绍 97 rOd~sa-H 6.2 细化 (Refinement) 98 N3g\X 6.3 合成 (Synthesis) 100 zU,Qph
,< 6.4 目标和评价函数 101 )> |x 2q 6.4.1 目标输入 102 avo[~ `. 6.4.2 目标 103 RW04>oxVn 6.4.3 特殊的评价函数 104 5WvtvSO 6.5 层锁定和连接 104 K_sHZ 6.6 细化技术 104 &;Jg2f%. 6.6.1 单纯形 105 u
=%1%p, 6.6.1.1 单纯形参数 106 "WE*ED 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 8C>\!lW" 6.6.2.1 Optimac参数 108 {:0TiOP5x 6.6.3 模拟退火算法 109 +:?"P<' 6.6.3.1 模拟退火参数 109 V1Opp8 6.6.4 共轭梯度 111 1z$K54Mj 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 V*w~Sr% 6.6.5 拟牛顿法 112 `suEN@^ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 [=q&5'FY0 6.6.6 针合成 113 CDU$Gi 6.6.6.1 针合成参数 114 9(
"<NB0y 6.6.7 差分进化 114 RO+N>Wkt 6.6.8非局部细化 115 J}'a|a@bk 6.6.8.1非局部细化参数 115 ^TF71uo 6.7 我应该使用哪种技术? 116 /f0*NNSat- 6.7.1 细化 116 I=G-(L/& 6.7.2 合成 117 hYS}PE 6.8 参考文献 117 r0fxEYze& 7 导纳图及其他工具 118 E\Et,l#|LY 7.1 简介 118 AeN$AqQd/ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 c Y(2}Ay 7.2.1 四分之一波长规则 119 :sL?jGk\ 7.2.2 导纳图 120 78fFAN` 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 VHihC]ks, 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 mxfmK +'_ 7.5 斜入射导纳图 141 K r DG 7.6 对称周期 141 A,;V|jv9 7.7 参考文献 142 Uop`) 8 典型的镀膜实例 143 VW/ICX~"d 8.1 单层抗反射薄膜 145 E6Uiw]3 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 g`9`/ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 LX2Re
]& 8.4 W-膜层 148 fS#I?!*} 8.5 V-膜层 149 Zt LZW/` 8.6 V-膜层高折射基底 150 ]]^eIjg>a6 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 a*(,ydF|L 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 I->BDNk 8.9 四层抗反射薄膜 153 gql^Inx< 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 64R~ $km 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 [.j&~\AG 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 _ ,~D]JYE 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 bD ADFitSo 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 O
!
iN 8.15十五层宽带抗反射膜 159
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krjs0 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 KqhE=2, 8.17 1/4波长堆栈 162 d;FOmo4 8.18 陷波滤波器 163 &~{0@/ 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 H05xt$J 8.20 褶皱 165 YM.Q?p4g 8.21 消偏振分光器1 169 5|_El/G 8.22 消偏振分光器2 171 ; &i |