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2022新书强烈推荐 K5+!(5V~ \)s3b/oap 内容简介 2:n|x5\H Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 3v G 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 5GUH;o1m 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 7~lB}$L 4&H+hN{3 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 yvS^2+jW 目录 i~ROQMN1 Preface 1 ZG!x$yi$ 内容简介 2 j@_nI~7f} 目录 i zAu}hVcW 1 引言 1 F1/6&u9I 2 光学薄膜基础 2 gnYnL8l`J 2.1 一般规则 2 dkf}),Z F 2.2 正交入射规则 3 i~(#S8U4d 2.3 斜入射规则 6 [gTQ- 2.4 精确计算 7 .M}06,- 2.5 相干性 8 Y<de9Z@ 2.6 参考文献 10 M44_us 3 Essential Macleod的快速预览 10 E#8J+7 4 Essential Macleod的特点 32 AK%=DVkM 4.1 容量和局限性 33 dzpj9[ 4.2 程序在哪里? 33 xqU^I5Z 4.3 数据文件 35 ;;D%
l^m+ 4.4 设计规则 35 h#v L5At 4.5 材料数据库和资料库 37 a =9vS{ 4.5.1材料损失 38 B<rPvM7a 4.5.1材料数据库和导入材料 39 XlE$. 4.5.2 材料库 41 1g+LF[*-~ 4.5.3导出材料数据 43 VvzPQ k 4.6 常用单位 43 $Gr4sh!cE 4.7 插值和外推法 46 IQo]9Lx 4.8 材料数据的平滑 50 \-DM-NrZ1U 4.9 更多光学常数模型 54 "<7$2! 4.10 文档的一般编辑规则 55 qT
5WaO) 4.11 撤销和重做 56 t- !h
X/ 4.12 设计文档 57 ojiM2QT}m 4.10.1 公式 58 @+[Y0_ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 eOO!jrT: 4.10.3 沉积密度 59 ux)< &p. 4.10.4 平行和楔形介质 60 IJ+O),' 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 5R$=^gE 4.10.4 性能 61 ftDVxKDE?S 4.10.5 保存设计和性能 64 Oz_b3r 4.10.6 默认设计 64 i.B$?cr~ 4.11 图表 64 k*A4;Bm 4.11.1 合并曲线图 67 [^cs~
n4 4.11.2 自适应绘制 68 -Pv P 4.11.3 动态绘图 68 rGQ86L< 4.11.4 3D绘图 69 4Sd+"3M 4.12 导入和导出 73 /<(R 4.12.1 剪贴板 73 l#mqV@?A~ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
J(H??9(s 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 _:oMyK' 4.13 背景 77 H&"_} 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 $Ui]hA-:?y 4.15 生成Rugate 84 (, ;MC/l 4.16 参考文献 91 sE(X:[Am 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 <FMuWHY 5.1 Jobs 92 @ J?-a m> 5.2 创建一个新Job(工作) 93 F#zQQ)(Pf 5.3 输入材料 94 o{s4.LKK 5.4 设计数据文件夹 95 bcGn8 5.5 默认设计 95 p\4h$." 6 细化和合成 97 ;,[EJR^CI 6.1 优化介绍 97 LR
8e|H0 6.2 细化 (Refinement) 98 TXY 6.3 合成 (Synthesis) 100 /v<e$0~s< 6.4 目标和评价函数 101 $Qx(aWE0 6.4.1 目标输入 102 %3#b6m~ 6.4.2 目标 103 =|DkD-
O 6.4.3 特殊的评价函数 104 3|z;K,`Fw 6.5 层锁定和连接 104 0B#rqTEKu 6.6 细化技术 104 x`j_d:C~G 6.6.1 单纯形 105 %'K+$ 6.6.1.1 单纯形参数 106 _dH[STT 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 'Q^G6'(SaK 6.6.2.1 Optimac参数 108 +'{:zN5m 6.6.3 模拟退火算法 109 S1 R #] 6.6.3.1 模拟退火参数 109 Lx4H/[$6D 6.6.4 共轭梯度 111 d1C/u@8^ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 "N=&4<]I5 6.6.5 拟牛顿法 112 zmrX%!CW 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 P17]}F`` 6.6.6 针合成 113 K~9 jin 6.6.6.1 针合成参数 114 (RI>aDGRH 6.6.7 差分进化 114 ]VO,}
` 6.6.8非局部细化 115 3l41r[\ 6.6.8.1非局部细化参数 115 }VJ hw*s 6.7 我应该使用哪种技术? 116 =qVAvo' 6.7.1 细化 116 8k*k 6.7.2 合成 117 {#d`&] 6.8 参考文献 117 [{Klv&>_/ 7 导纳图及其他工具 118 ]2u7?l 7.1 简介 118 0Zp<=\!; 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 f(zuRM^5 7.2.1 四分之一波长规则 119 =r@ie>*U 7.2.2 导纳图 120 g*\v}6
h 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ).@)t:uNa 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 +LU ). 7.5 斜入射导纳图 141 07E".T%Ts 7.6 对称周期 141 iI/'!85 7.7 参考文献 142 j2C^1:s@m 8 典型的镀膜实例 143 rUJSzLy 8.1 单层抗反射薄膜 145 d&3I>E$UP 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 Vo58Nz:% 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 GO&R |