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2022新书强烈推荐 h&:6S ?/^x)Nm 内容简介 CGJ>j}C Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 1|xo4fmV 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 OK=ANQjs( 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 )dZ1$MC[ jinXK 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 }tUr
V 目录 #EX NS r Preface 1 gWHjI3; 内容简介 2 s.j cD 目录 i @w@ `-1 1 引言 1 s!\Gi5b 2 光学薄膜基础 2 Cw]bhaG
g 2.1 一般规则 2 u13v@<HGc 2.2 正交入射规则 3 T,fDH!a 2.3 斜入射规则 6 +]jJ: V 2.4 精确计算 7 8Xk,Nbcqt 2.5 相干性 8 pJPP6Be< 2.6 参考文献 10 ,S\AUUt% 3 Essential Macleod的快速预览 10 k{w 4 Essential Macleod的特点 32 ]:F?k#c 4.1 容量和局限性 33 :ej`]yK | 4.2 程序在哪里? 33 LQ.0"6oj 4.3 数据文件 35 ^fxS=Qs+ 4.4 设计规则 35 y`p(}X`> 4.5 材料数据库和资料库 37 B5H=# 4.5.1材料损失 38 H"J>wIuGX 4.5.1材料数据库和导入材料 39 'v'=t<wgl 4.5.2 材料库 41 E _j=v
\ 4.5.3导出材料数据 43 9Ts r g 4.6 常用单位 43 &xMQ 4.7 插值和外推法 46 K:8.
Dvn 4.8 材料数据的平滑 50 vC ISd
4.9 更多光学常数模型 54 rEG!A87Zz 4.10 文档的一般编辑规则 55 g,d'&r"JWt 4.11 撤销和重做 56 /F7X"_(H 4.12 设计文档 57 NGOyd1$7N 4.10.1 公式 58 Q"b62+03 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 rz]M}!>k 4.10.3 沉积密度 59 oiNt'HQ2/ 4.10.4 平行和楔形介质 60 1n|K 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ]sG^a7Z.X 4.10.4 性能 61 T$Rj/u
t1 4.10.5 保存设计和性能 64 ]O.Z4+6w 4.10.6 默认设计 64 k#pNk7;MZ 4.11 图表 64 A_JNj8<6r 4.11.1 合并曲线图 67 7/GL@H 4.11.2 自适应绘制 68 >*S ;z+!& 4.11.3 动态绘图 68 >\5I B5'j 4.11.4 3D绘图 69 h^=9R6im 4.12 导入和导出 73 &VfMv'%x 4.12.1 剪贴板 73 e{7"7wn= 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 R1NwtnS 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 f~Q]"I8w 4.13 背景 77 ZIikDih1 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 d0 qc%.s 4.15 生成Rugate 84 1]]#HTwX 4.16 参考文献 91 'NDDj0Y 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 JWo). 5.1 Jobs 92 !+Us) 'L 5.2 创建一个新Job(工作) 93 nh?~S` 5.3 输入材料 94 8$C?j\J|* 5.4 设计数据文件夹 95 d td}P~ 5.5 默认设计 95 N/i {j.= 6 细化和合成 97 4]mAV\1 6.1 优化介绍 97 dPCn6 6.2 细化 (Refinement) 98 (H-}z`sy/@ 6.3 合成 (Synthesis) 100 4oA9|}<FR 6.4 目标和评价函数 101 Lm"zW>v 6.4.1 目标输入 102 \1mTKw)S 6.4.2 目标 103 Cso-WG, 6.4.3 特殊的评价函数 104 Gfy9?sa 6.5 层锁定和连接 104 {axMS yp; 6.6 细化技术 104 Z]x)d|3; 6.6.1 单纯形 105 wH N5H 6.6.1.1 单纯形参数 106 drK &
6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 Z"Byv.yq b 6.6.2.1 Optimac参数 108 U t'r^ 6.6.3 模拟退火算法 109 KW-g $Ma 6.6.3.1 模拟退火参数 109 v"J7VF2 6.6.4 共轭梯度 111 /j:fc?yv 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Ch,%xs.)G 6.6.5 拟牛顿法 112 /XZ\Yy= 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 2(iv+<t 6.6.6 针合成 113 bFtzwa5Gc 6.6.6.1 针合成参数 114 ] R-<v&O 6.6.7 差分进化 114 u[~= a5:4 6.6.8非局部细化 115 )9'Zb`n 6.6.8.1非局部细化参数 115 mdy+ >e< 6.7 我应该使用哪种技术? 116 _5&LV2 6.7.1 细化 116 j#[%-nOT 6.7.2 合成 117 CWW|? 6.8 参考文献 117 O)?
7 导纳图及其他工具 118 _yP02a^2 7.1 简介 118 |+r5D4]e 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 )W.Y{\D0 7.2.1 四分之一波长规则 119 Kb,#Ot 7.2.2 导纳图 120 2"C,u V@F! 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 6V^KOG 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ,J ZM%f 7.5 斜入射导纳图 141 'ghwc:Og|% 7.6 对称周期 141 {H[3[ 7.7 参考文献 142 sm96Ye{O{ 8 典型的镀膜实例 143 0|D
l/1 8.1 单层抗反射薄膜 145 3JcI}w 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 UgAG2 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 C:$pAE( 8.4 W-膜层 148 ^dCSk== 8.5 V-膜层 149 )!jX$bK 8.6 V-膜层高折射基底 150 !:|[?M.` 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 (3fU2{sm 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 :Yy8Ie# 8.9 四层抗反射薄膜 153 1H]E:Bq 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 5KvqZ1L 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 XbMAcgS 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 2#g4R 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 d 0CFMy6 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 n,.t~ 8.15十五层宽带抗反射膜 159 j3yz"-53e 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 'W]oQLD^R 8.17 1/4波长堆栈 162 AagWswv{Bf 8.18 陷波滤波器 163 >$dkA\&p |