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2022新书强烈推荐 g~U<0+&yw% 85$ WH 内容简介 {,1>( Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 }R%*J 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 X_!km-{ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 AMASh* Pz\ByD 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 )2# qi/ 目录 ym_as8A*Q Preface 1 N1$PW~)Y 内容简介 2 {&L^|X 目录 i *!E~4z= 1 引言 1 cc>b#&s 2 光学薄膜基础 2 "zkQu 2.1 一般规则 2 `VvQems 2.2 正交入射规则 3 rz&'wCiOO 2.3 斜入射规则 6 Q [C26U 2.4 精确计算 7 h<bhH=6~ 2.5 相干性 8 K;w2qc.+ 2.6 参考文献 10 KP
6vb@(6 3 Essential Macleod的快速预览 10 ><xmw= 4 Essential Macleod的特点 32 qM6hE.J 4.1 容量和局限性 33 %I{>H%CjE 4.2 程序在哪里? 33 $G{j[iLY 4.3 数据文件 35 l<+PA$+}} 4.4 设计规则 35 'X6Z:dZY 4.5 材料数据库和资料库 37 C+"c^9[ 4.5.1材料损失 38 FBvh7D.hV 4.5.1材料数据库和导入材料 39 oE6`]^^ 4.5.2 材料库 41 !"&-k:|g 4.5.3导出材料数据 43 wLb:FB2 4.6 常用单位 43 wm Ie x 4.7 插值和外推法 46 :U/]*0b 4.8 材料数据的平滑 50 `&'{R<cL 4.9 更多光学常数模型 54 Ab>Kf r# 4.10 文档的一般编辑规则 55 UFu0{rY_ 4.11 撤销和重做 56 H=w):kL| 4.12 设计文档 57 2`j{n\/ 4.10.1 公式 58 0pG +yec 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ^,FG9 4.10.3 沉积密度 59 `'>~(8&zE 4.10.4 平行和楔形介质 60 ru6M9\h* 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 nK)1.KVN 4.10.4 性能 61 uPapINj 4.10.5 保存设计和性能 64 6VuyKt 4.10.6 默认设计 64 u;!h 4.11 图表 64 d{t@+}0.u 4.11.1 合并曲线图 67 4:^MSgra 4.11.2 自适应绘制 68 t;/uRN*. 4.11.3 动态绘图 68 0
f$96sl 4.11.4 3D绘图 69 _}ii1fLv 4.12 导入和导出 73 m#i4_F=^b 4.12.1 剪贴板 73 !]Qk?T~9- 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 VBS}2>p 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 60cQ3.e 4.13 背景 77 *uf)t,% 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 "\T-r 2 4.15 生成Rugate 84 =wW M\f`= 4.16 参考文献 91 S'W,AkT 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 uv8kea .( 5.1 Jobs 92 ~d1=_p:~T 5.2 创建一个新Job(工作) 93 c
q[nqjC= 5.3 输入材料 94 aG#d41O 5.4 设计数据文件夹 95 e$WAf`* 5.5 默认设计 95 8 hhMuh 6 细化和合成 97 J\w4N", 6.1 优化介绍 97 Ea][:3 6.2 细化 (Refinement) 98 GDe,n 6.3 合成 (Synthesis) 100 *s-s1v 6.4 目标和评价函数 101 *o\AP([@ 6.4.1 目标输入 102 /$]S'[5uF 6.4.2 目标 103 BD;T>M 6.4.3 特殊的评价函数 104 EJMd[hMhe 6.5 层锁定和连接 104 (aC=,5N 6.6 细化技术 104 &|}QdbW 6.6.1 单纯形 105 <[-{:dH,5 6.6.1.1 单纯形参数 106 KdYR?rY 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 oXqJypR 2 6.6.2.1 Optimac参数 108 ?U[6X|1 6.6.3 模拟退火算法 109 SZLugyZ2Y 6.6.3.1 模拟退火参数 109 1gcWw, / 6.6.4 共轭梯度 111 _-TW-{7bh 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 0^nF: F 6.6.5 拟牛顿法 112 @mv
G=:k 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 q
:~/2<o 6.6.6 针合成 113 O(2c_! d 6.6.6.1 针合成参数 114 BqHqS 6.6.7 差分进化 114 +boL?Ix+ 6.6.8非局部细化 115 QV HI}3~ 6.6.8.1非局部细化参数 115 !iNwJ|0 6.7 我应该使用哪种技术? 116 K(PSGlI f 6.7.1 细化 116 m;hp1VO) 6.7.2 合成 117 4)k-gKS* 6.8 参考文献 117 1KGf @u%-1 7 导纳图及其他工具 118 tKcC{ 7.1 简介 118 MBw;+'93qf 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 C'y2!Q/" 7.2.1 四分之一波长规则 119
!sEhjJV^7 7.2.2 导纳图 120 >i >|] 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 =T6 ~89 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 8Dtpb7\o 7.5 斜入射导纳图 141 3.hFYA w 7.6 对称周期 141 )u28:+8 7.7 参考文献 142 IHi[3xf< 8 典型的镀膜实例 143 WQ8 "Jj?k6 8.1 单层抗反射薄膜 145 vqQ)Pu?T 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 X$1YvYsID 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 v<g~EjzCf 8.4 W-膜层 148 ,ayJgAD 8.5 V-膜层 149 #_aq@)Fd 8.6 V-膜层高折射基底 150 SiaW; ks 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 D}X6I#U'/ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 sR83e|4I 8.9 四层抗反射薄膜 153 yEbo`/ ]b 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 4%8den,| 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 .I_<\h7 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
Y/I)ECm 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 Qc?W;Q+ 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 z_lKq}^~6 8.15十五层宽带抗反射膜 159 g] }! 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 1P1h);*Z 8.17 1/4波长堆栈 162 3 )#Nc| 8.18 陷波滤波器 163 l4U*Lv>
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 f~Pce||e 8.20 褶皱 165 0L8fpGJ 8.21 消偏振分光器1 169 !
}e75=x 8.22 消偏振分光器2 171 U*\K<fw 8.23 消偏振立体分光器 172 5Rs#{9YE 8.24 消偏振截止滤光片 173 }0]uA|lH* 8.25 立体偏振分束器1 174 na~ FT[3C 8.26 立方偏振分束器2 177 Ri_2@U- 8.27 相位延迟器 178 @#N7M2/ 8.28 红外截止器 179 UjoA$A!Od; 8.29 21层长波带通滤波器 180 ty#6% 8.30 49层长波带通滤波器 181 ?< |