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高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 "
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orHVL 2
KK 5utj$ha2 建模任务 #4cuNX5m% O^:Pr8|{J &kO4^ A 概述 |}mBW@ah 7Q[P •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 g|r •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 9d2$F9]:o 9MXauTKI
Rwy:.)7B$q R
jAeN#,? 光线追迹仿真 ?_tOqh@in jgGn"} •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 CyXcA;H,. •单击go! ;G\rhk •获得了3D光线追迹结果。 7rr5$,Mv xMuy[)b
|x kixf4zz 2qn~A0r 光线追迹仿真 O:Z|fDQ` ~O^_J) •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 ~;`i&s •单击go! J J3vC •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 (wA|lK3 {u5)zVYC,U
sY#K=5R (8EZ,V: 场追迹仿真 ?3zx?>sG mV4} - •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 OVivJx •单击go! em W#ZX .g|pgFM? Tw`l4S& Aw|3W ] 场追迹仿真(相机探测器) W&yw5rt** @ ?%"nK •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 >5N}ZIN •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 @rJ#Dr j1d=$'a "
/3c1{%B\ zf S<X 场追迹仿真(电磁场探测器) BF@VgozW •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 H R
V/ A #IXQ;2%E +22[ h@ '"KK|]vJ 场追迹仿真(电磁场探测器) k&?QeXW 5_i&}c23Vn •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 aY?}4Bx +X- k)9
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