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高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 s*"Yi~
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8VbH Z9Q 建模任务 _|VWf 8?\ {fwA=J9%KS  J^}w,r *= 概述 i%1ny`Q E5-f{Qc •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 {`2R<O •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 G+k [. $$U Mc-Pq
 ~hubh!d= z:R clDm 光线追迹仿真 XS$5 TNI qTbY'V5 A •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 l>l)m-;O •单击go！ : ) !X%2 _ •获得了3D光线追迹结果。 mcbr3P m!{}Y]FZn
 l s5s}X -P|EV|8= 光线追迹仿真 Oeua<,]Z~ r?{$k3Vl •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 "`b"PQ<x •单击go！ q1 :Y]Rbe •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 eY3l^Su1 HPc7Vo (
 R|7yhsJq, HK@LA3 场追迹仿真 4vri=P 2% h'{}eYb+ •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 5F@7A2ZR •单击go！ ]1A"l!yf VieX 5  |K},f,
)&G
uZ 场追迹仿真（相机探测器） 7qfo%n" 6pkZ8Vp: •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 %s.hqr,I •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 MA\^<x_?L} "AN2K
 g.AMCM?z }E=:k&IDPB 场追迹仿真（电磁场探测器） %O 5
k+~9 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 "][MCVYP B{ fP j9Y0  ]+1?T)<!
@"BvyS,p 场追迹仿真（电磁场探测器） VE4Z;Dr"
1WGcv O)< •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 EJ$- ML6V,V/e
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