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    [技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-06-28
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 abo=v<mR  
    eL3 _Lz  
    (Pc>D';{S  
    +x]/W|5  
    建模任务 g~hMOI?KK^  
    2<D| {  
    ]$smFF  
    概述 10S I&O  
    erH,EE^-x<  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 -.Wcz|  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 us.#|~i<h  
    VF`!ks  
    7^dr[.Q[*  
    \^)i!@v  
    光线追迹仿真 }c/p;<  
    >Hf{Mx{<  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 2KLMFI.F  
    •单击go! !se1W5ke#  
    •获得了3D光线追迹结果。 eiMP:  
    >wW{ $  
    O= S[ n  
    Qs1p  
    光线追迹仿真 ocGrB)7eD  
    L FWp}#%  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 YBt=8`r  
    •单击go! 9nFL70  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 2Q6;SF"Z  
    ng}C$d . I  
    $qD\ku;'  
    sVHF\{<  
    场追迹仿真 $nt&'Xnv  
    X4%uY  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 KqI:g*H'x7  
    •单击go! :-?ZU4)  
    ?+zFa2J  
    C19N0=  
    En\@d@j<u  
    场追迹仿真(相机探测器) P~a@{n*8  
    DNGyEC  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 Y 9$jJ1V  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 T5:Q_o]  
    eoiz]L  
    od=hCQ1 >  
    yCQvo(V[F  
    场追迹仿真(电磁场探测器) OxHcoNrz  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 QuR} 6C  
    ^lp=4C9  
    ?I+{S  
    vl:~&I&y;R  
    场追迹仿真(电磁场探测器) m.lR]!Y=w  
    VhO+nvd*W  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 <$s6?6P  
    mG~k f]Y  
    /EjXyrn2  
    C^ZoYf8+"m  
     
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