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    [技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-06-28
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 xQzXl  
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    建模任务 }An;)!>(nF  
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    w8-L2)Q}I  
    概述 '/F~vSQsR  
    ??Dv\yLZI  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 tkhEjTZ  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 )B Xl|V,  
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    ^}hSsE  
    Eqt>_n8  
    光线追迹仿真 2ZQ|nwb7  
    rK cr1VFy  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 \ id(P3M  
    •单击go! S2 YxA  
    •获得了3D光线追迹结果。 h &IF ?h  
    +PHuQ  
    ?h ym~,  
    El3Ayd3  
    光线追迹仿真 <``krPi  
    yTU'voE.|  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 (FNX>2Mv  
    •单击go! BlfW~l'mx  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 ?B:],aztf  
    lJBZ0  
    ;UWp0d%  
    7e<\11uI]a  
    场追迹仿真 IS }U2d,W  
    \'Ca%j  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 vXc gl  
    •单击go! m\J" P'=  
    _." X# }W  
    wEbO|S+K1  
    ]4&B*]j  
    场追迹仿真(相机探测器) uGS^*W$  
    o(Ro/U(Wu  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。  1O@ cev;  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 v 1Jg8L=  
    AG,;1b,:81  
    m:5bb 3  
    [$%0[;jtS  
    场追迹仿真(电磁场探测器) uWerC?da  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 azp XE  
    vTYgWR,h  
    ZUeA&&{  
    >U') ICD~  
    场追迹仿真(电磁场探测器)   [IW6F  
    3})0p  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 /pnQKy.  
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    @NJJ  
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