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高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 FOPfob[ @}, |i*H/
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}Um 5)5$h]Nz> 建模任务 BiY-u/bH9a 'FNnFm n!aA< 概述 R$XHjb) }VU^ 8D •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 7xF)\um •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 "D\>oFu jgvzp
r` B(ucE nxWm 光线追迹仿真 uTShz3 M)F_$
ICE- •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 ,.kJF4s& •单击go! OV
G|WC •获得了3D光线追迹结果。 mjQZ"h0 ) $`}~
z*a-=w0 vp32}zeD 光线追迹仿真 ')Q c;?J •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 A"e4w? •单击go! h;+{0a •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 p4F%FS:` z''ejq
$7QGi|W*k oE.Ckz~*d 场追迹仿真 &6^ --cc $`A{-0=x\U •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 qzj.N$9] •单击go! "MvSF1 vbD"" sYq:2Wn>8Q hgj ]Jr 场追迹仿真(相机探测器) D6dliU?k M}!
qH.W •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 zv7)JH7EV& •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 \#h{bnx %[4u #G`
=F2`X#x_j /F$E)qN7n 场追迹仿真(电磁场探测器) eZoAy[ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 86pA+c+U ?n]adS{ d5>EvK U ken.#>w 场追迹仿真(电磁场探测器) }[{9u#@# #bJp)&LO •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 q@G}Hjn VbDk44X.W
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