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高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 o;}o"-s VsFRG;:\U
&6h,' U :Z,zWk1| 建模任务 I~EJctOG (tys7og$' $33wK 概述 ~r+;i,,X ge*f<#|0U- •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 z;D[7tT •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 `N;JM3 ck j%0D:jOY]
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sZW5 ("ql//SL 光线追迹仿真 W
A-\2 IOomBy: •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 Xbe=_9l&p •单击go! ^_n(>$
EK •获得了3D光线追迹结果。 Nn>Oq+: c#Y/?F2p
0.qnbDw_ \'x.DVp 光线追迹仿真 $zKf>[K m?0caLw< •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
~p<w>C9 •单击go! /c6:B5G •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 <BEM`2B !UDTNF?1
V 9bn &C6Z-bS" 场追迹仿真 yp9vgUs \W4|.[ •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 \AQ*T`Dq •单击go! "w7wd5h k>SPtiAs jI[Y< (F ; "V'<dn 场追迹仿真(相机探测器) usc"m huQ {Dup k0'( •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 {el[W,CT# •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 O4t0 VL$ _X;xW#go
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\I"n~h^_ 场追迹仿真(电磁场探测器) @kBy|5 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 POB6#x rU/8R'S QN)EPS:y /3#) 场追迹仿真(电磁场探测器) _D.4=2@|l8 { 0?^ $R8j •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 l^!raoH]q I' [gGK4F
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