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    [技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-06-28
    高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 (90/,@6 6l  
    147QB+cE  
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     50^ux:Uv+N  
    建模任务 Pb#M7=J/  
    ^}_Ka//k  
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    概述 t<!;shH,s  
    -Uwxmy+  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 ai{>rO3 }I  
    •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 7Q}pKq]P  
    t~) P1Lof\  
     :aesG7=O  
    Yq+ 1kA  
    光线追迹仿真 *2G6Q g F  
    !@ ^6/=  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 ')y2W1  
    •单击go！ FE~D:)Xj'?  
    •获得了3D光线追迹结果。 $.SBW=^V  
    'a ['lF  
     zR"c j  
    )/T[Cnx.Nc  
    光线追迹仿真 ZEP?~zV\A  
    m9 h '!X<  
    •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 UlYFloZ  
    •单击go！ g4IF~\QRVi  
    •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 8QrpNSj4  
    52w@.]  
     CL=%eSsuD  
    WAa45G  
    场追迹仿真 q&3 ;e4  
    VI0wul~M  
    •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 [FO4x`  
    •单击go！ pHV^K v#  
    YV O$`W^N  
    Re$h6sh  
     sdFHr4  
    场追迹仿真（相机探测器） x< A-Ws{^V  
    V(MYReaPC]  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 i\i%Wi Rl  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 ]juPm8eF  
    <xI<^r'C9e  
     nf.Ox.kM)  
    Y{YbKKM  
    场追迹仿真（电磁场探测器） De?VZ2o9"  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 -'! J?~  
    T+kV~ w{  
    I Dohv[#  
     i?x gV_q;  
    场追迹仿真（电磁场探测器） 1[%3kY-h  
     k# [!; <  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 q~ H>rC(\  
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      YKyno?m  
    cS ~OxAS  
     
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