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高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 +#@)C?G,TF y7Sey;
qh)10*FB L5{DWm~@ 建模任务 ZOIx+%/Vd# sCrOdJ6| e{RhMjX<D 概述 .KeZZLH xC}9W6 •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 zMI_8lNz •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 zu52]$Vj
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L!l`2[F| "MX9h }7 光线追迹仿真 eWw#
T^ e0&x?U*/ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 J&w'0 •单击go! b>]MZhLJe •获得了3D光线追迹结果。 q37d:Hp "'@>cJ=
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}KAc *k^'xL 光线追迹仿真 _GF{Duxh >\s8S}p •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 +>Xe_ •单击go! tsf)+`vt •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 tH^]`6"QUa 15dbM/Gj
k[<Uxh% -Ed<Kl 场追迹仿真 2T&n6t$p ]mZN18# •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 G W@g •单击go! 0E^6"nt7N Nay&cOz 5!V%0EQqw S(
Vssi|y 场追迹仿真(相机探测器) SpJIEw =,w(D~ps •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 QFX/x •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 AR?1_]"= @{LD_>R
J]4pPDm FhJtiw@ 场追迹仿真(电磁场探测器) <4%cKW0 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 mK_2VZj& t;/s^-} tcD DX'S J<h!H 场追迹仿真(电磁场探测器) }_|qDMk+ W<tw],M-# •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 3Q:Hzq G 45aFH}w:
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