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    [技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-06-28
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 !Yx9=>R  
    p<#WueR[  
    OQt_nb#z`{  
    ?1\rf$l8  
    建模任务 }E626d}uA  
    =FXO1UZ!  
    EHByo[  
    概述 s!* m^zx  
    ay}} v7)GM  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 E/MD]ox  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 ?kfLOJQ:I  
    Gh3b*O_,  
    j2A Z.s  
    L;d(|7BVv  
    光线追迹仿真 BeAkG_uG  
    1"pvrX}  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 SGi(Zkc  
    •单击go! dtHB@\1  
    •获得了3D光线追迹结果。 ~(Wq 5<v  
    kk6Af\NZ  
    r+6=b"  
    oWg"f*  
    光线追迹仿真 k+ Shhe1  
    &z!yY^g  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 L1'R6W~%dN  
    •单击go! ~ ;CnwG   
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 G.CkceWRn  
    9F[k;Uw  
    koQ\]t'*As  
    {9>LF  
    场追迹仿真 R(jp  
    O}Y& @V%4k  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 kzq3-NTV  
    •单击go! s,&tD WU  
    XxXMtiZ6  
    HV_5 +  
    8UY[$lc  
    场追迹仿真(相机探测器) /l o;:)AiP  
    AUZ^XiK  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 K"lZwU\:On  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 b#ih= qE  
    ;- ~}g7$  
    vUtA@  
    3zdm-5R.b  
    场追迹仿真(电磁场探测器) -+9,RtHR7  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 X8l|^ [2F  
    Y 6B7qp  
    A.`) 0dV  
    -M{.KqyW  
    场追迹仿真(电磁场探测器) Qf HJZ7K.4  
    y2nwDw(xF  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 a#Yo^"*1  
    Jat|n97$  
    CF|4, K)  
    {3s=U"\  
     
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