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    [技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-06-28
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 <T_3s\  
    MLWHO$C~T  
    tY)L^.*7  
    h0PDFMM<  
    建模任务 {fXkbMO|  
    NpH8=H9  
    9[.HWe,  
    概述 2`f{D~w  
     \(\a=  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 LE8<JMB  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 9z#8K zXg  
    L )JB^cxf  
    ps{4_V-3u  
    *cb|9elF^  
    光线追迹仿真 rt+4-WuK>  
    7H3v[ f^Q  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 OXQ*Xpc  
    •单击go! $wUYK%.  
    •获得了3D光线追迹结果。 Jp=qPG|  
    *I]]Ogpq=  
    G)7U &B  
    &O' W+4FAc  
    光线追迹仿真 A%8 Q}s$<s  
    XJ<"S p  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 z0}j7ns]  
    •单击go! ='m$ O  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 SxRJ{m~  
    uFWA] ":is  
    W[&nQW$E  
    k$kE5kh,S  
    场追迹仿真 roS" q~GS,  
    oYu xkG  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 FSEf0@O:  
    •单击go! =7Ud-5c  
    eft=k}  
    W22S/s  
    rbd0`J9fq  
    场追迹仿真(相机探测器) X/4CXtX^  
    +M=h+3hw](  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 >+%#m'Y&&  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 px;~20$e  
    UdO8KD#r3  
    d7V/#34  
    lM\dK)p21O  
    场追迹仿真(电磁场探测器) i<ES/U\  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 [7@blU  
    HJl?@& l/  
    1mmL`M1  
    MJ:c";KCq0  
    场追迹仿真(电磁场探测器) e)e(f"t6Q  
    nd' D0<%  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 M1Q&)am  
    !BoGSI  
    fV"Y/9}(  
    ;?Pz0,{h  
     
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