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    [技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-06-28
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 *-2u0%  
    f F?=W  
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    建模任务 |g@1qXO3  
    F$)Ki(m q  
    Tmq:,.^}  
    概述 klPc l[.w  
    REw!@Y."  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 WFtxEIrl3j  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 .t\5H<z  
    {<bByHT!  
    _,5(HETE2  
    ?!Y2fK=h0  
    光线追迹仿真  Y]P]^3  
    DI+kO(S  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 N1_nBQF )  
    •单击go! I9_tD@s"(  
    •获得了3D光线追迹结果。 ns@b0'IF]  
    *&LVn)@[`  
    k0%4&pU  
    Uc \\..Cf  
    光线追迹仿真 PZQ}G*p3  
    8eL[ ,uw  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 ]e R1 +Nl  
    •单击go!  u"tv6Qp  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 w+ bMDp  
    oMcX{v^"  
    r%F{1.  
    iugTXZ(  
    场追迹仿真 iz>a0~(K  
    HnrT;!C~  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 6 :J @  
    •单击go! M++*AZ  
    Ot5 $~o  
    ~,.Agx  
    aHS.U^2  
    场追迹仿真(相机探测器) 3. fIp5g  
    ACc.&,!IZ  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 PoQ@9 A  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 VMsAT3^w  
    KD=T04v  
    s+9q :  
    x-Yt@}6mvl  
    场追迹仿真(电磁场探测器) 19h8p>Sx0  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 zAS&L%^tV  
    jO3Z2/#  
    DtR-NzjB  
    's+ Fd~ '  
    场追迹仿真(电磁场探测器) ++BVn[1  
    D:M0_4S  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 =]E;wWC  
    mbU[fHyV  
    R2-OT5Ej  
    s9zdg"c'  
     
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