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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 0evG %!WQ;(
M5D,YC3< JBuorc 任务说明 <n0-zCf ~fr1O`8 i<-#yL5 wZ29/{, 简要介绍衍射效率与偏振理论 Q7i^VN 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 Ff|?<\x0}A 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: W(EU*~<UC sjztT<{Q^- 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 o6'`W2P 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: &bTadd%0 )5bhyzSZI 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 E-l>z% |rsu+0Mtz 光栅结构参数 pp/Cn4"w 研究了一种矩形光栅结构。 D*heYh 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 7HFw*; 根据上述参数选择以下光栅参数: \\BblzGMR 光栅周期:250 nm {DAwkJvb] 填充因子:0.5 <` HLG2 光栅高度:200 nm $YFn$.70\ 材料n_1:熔融石英(来自目录) J1g
`0XH 材料n_2:二氧化钛(来自目录) i |cSO2O+ UtY<R DOf[? vbu 3xbA]u;gp 偏振态分析 E}yl@8g:# 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 c[ga@Vy 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 v;irk<5 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 c!E+&5|n Xq,{)G%9nM X`[or:cB
q^k6.5*" 模拟光栅的偏振态 lfb]xu]O JoIffI?{(D
BIS5u4 ,C!MHn^$ 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: Ig*!0(v5$ 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 [Nsv]Yz 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 Vtr0=-m& 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 ]#KZ
W)M rWAJL9M Passilly等人更深入的光栅案例。 O~Pbu[C Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 |-=^5q5 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 T ^%$ $D<LND=o=
utfD$8UI cea%M3 光栅结构参数 ['e8Xz0 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 _T)dmhG 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 QzCu$ [ 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 mO(m%3 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 vSX71
1s"6 R=_
fk 光栅#1——参数 {?$-p%CF`8 假设侧壁倾斜为线性。 lL/|{A|-j 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 UW88JA0 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 o!dTB,Molr 光栅周期:250 nm c>,|[zP{ 光栅高度:660 nm E}00y%@*J 填充因子:0.75(底部) \J.PrE'(} 侧壁角度:±6° DfXXN n_1:1.46 !:'%'@uc n_2:2.08 5~5d%C^3k =I-SQI8
6p=AzojoB mhv{6v 光栅#1——结果 4en[!* 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 6av]LY K 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 |W[BqQIf lb{<}1YR0o
H<92tP4M 82O#Fe q 光栅#2——参数 mQ*:?\@ 假设光栅为矩形。 ]k-<[Z;I, 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 _VFl.U, 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 / q*n*j 光栅周期:250 nm Y&6vTU 光栅高度:490 nm KP(RK4F 填充因子:0.5 7^>UUdk( n_1:1.46 HN9!~G n_2:2.08 FJ#:RC Lnc
_)RF n}Pz: R2|v[nh 光栅#2——结果 .KSPr 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 Oc8]A=M12 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 |]kcgLqj v1*Lf/ )u ) ]#z bKRz=$P?
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