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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 o8Yq3N + mt~E&Z(A
.}Eckqkp Ibg~.>.u{ 任务说明 D$+g5u) #v; :K8 U/-k'6=M "RTv[n! 简要介绍衍射效率与偏振理论 45k.U $<| 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 UF$O@l 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: -]t>'Q? h>F"GR?U_( 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 WIabQ_ fX 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: a$\Bt_ R90#T6^ 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 (3~^zwA 9h/Hy aN 光栅结构参数 gVrfZ&XF84 研究了一种矩形光栅结构。
h_]*|[g 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 Y<V$3h 根据上述参数选择以下光栅参数: yb,X
}"Et 光栅周期:250 nm N>CNgUyP 填充因子:0.5 SLRF\mh!L 光栅高度:200 nm C80< L5\ 材料n_1:熔融石英(来自目录) >.I9S{7 材料n_2:二氧化钛(来自目录) Km,%p@`m 5WvsS(
9H F]fXS-@ c |*DkriYY 偏振态分析 |AT`(71 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 "dT"6, 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 V(8,94vm 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 FmFjRYA W GaV} @Q 0wCQPvO
[jksOC)@4 模拟光栅的偏振态 t fD7!N{ =dsEt\
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yZN~A: e)N<r 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: MiR$N 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 wWSo+40 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 3@:O1i 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 &er,Wyc( 8]oolA:^4s Passilly等人更深入的光栅案例。 IMBjI#\ Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 7t1as. 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 c&N;r|N <LzxnTx=
z~==7:Os 5S,Kq35$( 光栅结构参数 <EQaYZY= 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 bWSc&/9y 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 Fq_>}k@fI 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 ;9~
WB X" 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 !dUdz7
q]?)c 3fA+{Y8S 光栅#1——参数 1)jeawVmj 假设侧壁倾斜为线性。 H=\Tse_. 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。
2W`WOBz 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 hlZ{bO'f 光栅周期:250 nm <h;_: 光栅高度:660 nm ,RM8D)m\ 填充因子:0.75(底部) k14<E/ 侧壁角度:±6° .6LRg n_1:1.46 tC(Ma I n_2:2.08 N{~P}Sw Qc)i?Z'6
Jm#p!G+ O!^ >YvOh 光栅#1——结果 J3~%9MCJ 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 '=%`;?j 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 j*[P\Cm wu><a!3`=o
93:oXyFjD \uZ|2WG` 光栅#2——参数 !icI Rqcf= 假设光栅为矩形。 ?Z_T3/ f 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 o ABrhK 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 ^1vKhO+p$ 光栅周期:250 nm LMx/0 光栅高度:490 nm Yh!=mW!OY 填充因子:0.5 lS#:u-k n_1:1.46 vd(S&&]o1 n_2:2.08 c;Tp_e@ *9uNM@7&0 ~*"ZF-c, ('Qq"cn# 光栅#2——结果 $5.52 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 h# KSKKNW 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 c61OT@dZEA hczDu8 AIY 1sSK ep?D;g
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