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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 }m!T~XR</ 8pmWw?
.ErR-p=- Lxa<zy~b 任务说明 g6q[
I8 Qz"@<qgQy ?:PF;\U CyS.GdyP 简要介绍衍射效率与偏振理论 5"#xbvRS0H 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 787i4h:71 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: 9dg+@FS}= GyE5jh2 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 4YMUkwh 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: Ud-c+, xX Lz-(1~o 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 7n#Mh-vq -P]onD
光栅结构参数 \a:-xwUu< 研究了一种矩形光栅结构。 o>M&C
X+j$ 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 J@Nq 根据上述参数选择以下光栅参数: ZYl*-i&~? 光栅周期:250 nm <XpG5vV 填充因子:0.5 ovtZHq/ 光栅高度:200 nm K`R 材料n_1:熔融石英(来自目录) G*VcAJ[ 材料n_2:二氧化钛(来自目录) )=h+5Z>E1 Oi!uJofW `?"[u"* H|N,nkhH} 偏振态分析 n\scOM)3 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 6r5<uZ9w_X 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 [MM`#!K% 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 p6{8t} 7baQ4QY?n i;<H^\% x8rp Z 模拟光栅的偏振态 k8sjW!2 4H%Ai(F}_
"qY_O/Eg]] 5
.bU2C 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: Gy[m4n~Z5 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 d>Np; " 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 c(S66lp 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 \ N]2V(v !vSj1w Passilly等人更深入的光栅案例。 SnW>` Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 yFqB2(Dv 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 8z"*CJ@ 8<g9 ~L
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xcl8q: 光栅结构参数 dxeLu 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。
Hn,;G`{ 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 n#5%{e> 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 m:{IVvN_ 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 [,ns/*f3R
lxD~[e PeB7Q=d)K1 光栅#1——参数 g~$cnU 假设侧壁倾斜为线性。 h>'Mh;+ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 L Z#SX5N 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 ],ISWb 光栅周期:250 nm nx'D&,VX 光栅高度:660 nm .q(1 填充因子:0.75(底部) (E?X@d iu 侧壁角度:±6° PzDekyl n_1:1.46 [E|% n_2:2.08 iyf vcKO <MBpV^Y}
6{PlclI ! p{4nWeH?B 光栅#1——结果 $4&e{fLt|v 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 loFApBD=$^ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 7gcJ.,Z. r5g:#mF"
`Kq4z62V wLz@u$u? 光栅#2——参数 P+nd?:cz 假设光栅为矩形。 Z]1jg>") 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 RwptFO 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 P<A_7Ho 光栅周期:250 nm /V@9! 光栅高度:490 nm
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t@] 填充因子:0.5 <^8&2wAkJ n_1:1.46 },LO]N| n_2:2.08 v46 5Z HTU?hbG(
+Q+>{HK Pwg?a 光栅#2——结果 ~*Kk+w9H< 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 V*w~Sr% 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 L1J~D?q TO~Z6NA0 lo:{T_ay UiLiy?EJ
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