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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 rrL
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+thkx$o {BS}9jZx 任务说明 d%wy@h KqI<#hUl uz%<K(:Ov ?n0Z4 8% 简要介绍衍射效率与偏振理论 lNwqWOWy 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 do$+ Eh 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: 1;8%\r[|5^ pSC\[%K 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 a(Fx1`} 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: 6#SUfK; "7X[@xX@ 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 :kb2v1{\ f}%paE" 光栅结构参数 uZ/XI {/ 研究了一种矩形光栅结构。
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N 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 (.Th?p%>7 根据上述参数选择以下光栅参数: r|,_qNrw 光栅周期:250 nm #PJHwvr 填充因子:0.5 pcrarj 光栅高度:200 nm mN&B|KWU 材料n_1:熔融石英(来自目录) %UXmWXF4$ 材料n_2:二氧化钛(来自目录) )nM<qaI{ +$;*" o t|jp]Vp 0`y*7.Ip 偏振态分析 yRyUOTK 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 Ww&r 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 z9qF<m 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 mNk@WY_F 5"WI^"6b: ZR8%h< \~BYY|UB;W 模拟光栅的偏振态 :6[G;F7s JUpb*B_z
-%)S~R zc.r&(d 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: lK%)a +2 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 #6F|}E 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 9~5LKg7Ac 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 {\u6Cj x VYw<8AEFY Passilly等人更深入的光栅案例。 3\2^LILLO Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 &WJ;s* 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 Min{&?a 'Y22HVUX
Z/e^G f#i [O@U@bD9 光栅结构参数 #DA ,* 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 Q79WGW 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 dthtWnB@ 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 ecMpU8}rR 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 E|"QYsi.Ck
-_^#7] %{B4M#~ 光栅#1——参数 Txa
2`2t7 假设侧壁倾斜为线性。 fi 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 Xk?Y 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 5h[<!f= 光栅周期:250 nm )u=46EU_ 光栅高度:660 nm U]PsL3: 填充因子:0.75(底部) `1i\8s&O6@ 侧壁角度:±6° ;-quK%VO! n_1:1.46 #:E^($v n_2:2.08 ?.g="{5X jP31K{G?
4&<zkAMR M Ui#3o\f 光栅#1——结果 Sd *7jW? 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 'NN3XyD 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 p>1Klh:8.' TUX:[1~Nf[
i;<K)5Z 7e:7RAX 光栅#2——参数 YDaGr6y4i 假设光栅为矩形。 #&Fd16ov 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 )(h<vo)-zX 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 I#-T/1N 光栅周期:250 nm o@qI!?p& 光栅高度:490 nm L"'L@A|U 填充因子:0.5 (G 9Ku 8Y n_1:1.46 q9B5>Ye) n_2:2.08 fiQ/ &]|5 $%zM Z 2#Y5*r's\ X<uH [ 光栅#2——结果 X=[`+= 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 uiq;{!dop 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 ,ik\MSS _/5xtupxE i|N(=Z= jTN!\RH9NF
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