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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 [kC-g @ >TtkG|/U-T
le8n!Dk( @-u/('vpB 任务说明 5?2PUE,a uFECfh HYpB]<F 'f5,%e2# 简要介绍衍射效率与偏振理论 W%Ky#!\- 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 ~Jq<FVK 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: pT[C[h: 4'_uN$${$ 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 srC'!I=s>8 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: >B~p[wh0 U24?+/5D] 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 ^*Rr x r%TgZ5~u 光栅结构参数 0~^opNR 研究了一种矩形光栅结构。 V-I_SvWv\ 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 *a+~bX)18 根据上述参数选择以下光栅参数: <EpP; 光栅周期:250 nm SDJAk&Z}R 填充因子:0.5 3:);vh! 光栅高度:200 nm {mueP6Gz@J 材料n_1:熔融石英(来自目录) t;E-9`N 材料n_2:二氧化钛(来自目录) }{9E~"_[ =">O;L.xj 59ro-nA9v $7PFos%@ 偏振态分析 Oja)J-QXb 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 m qtl0P0 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 mJWl#3 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 yjN|PqtSV }R.cqk\qa^ P3@[x QbS w<V 模拟光栅的偏振态 | F:? Xt9?7J#\T
VJJw"4DJ ywCE2N<-V? 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: n_?<q{GW 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 %'t~+_ 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 v#D9yttO{ 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 kqv>rA3 [O(78n$$ Passilly等人更深入的光栅案例。 0UlaB
sv Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。
KqaeRs.u 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 e
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P1H`NOC $NJi]g|<3 光栅结构参数 R-hqaEB 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 J&Le*R' 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 &*L:4By)] 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 1<fEz 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 f{5)yZ`J*
' J]V"Z) )SUT+x(DU 光栅#1——参数 r"J1C 假设侧壁倾斜为线性。 0.|tKetHq 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 v@"xEf1n[ 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 z26zl[. 光栅周期:250 nm Y.jg
}oV 光栅高度:660 nm 9 `J `( 填充因子:0.75(底部) Q)H Vh[4 侧壁角度:±6° xdp{y=,[ n_1:1.46 ){R_o5 n_2:2.08 .U9NQwd [-1Nn}
:uhvDYp(- luLm:NWUM 光栅#1——结果 wxr93$v 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 fd*=`+P 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 ZK3?"|vhC A$fd6+{
NfS0yQPx 4$d|}ajH 光栅#2——参数 &R pQ2*4n 假设光栅为矩形。 g8!!:fdu 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 Og"50 - 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 ~SP.&>Q> 光栅周期:250 nm >x&$lT{OY 光栅高度:490 nm NzNAhlXj3 填充因子:0.5 tkV:kh< L~ n_1:1.46 9v<BO$
,a n_2:2.08 8~\Fpz|Og 8r)eiERv C6CX{IA] GAtK1%nPD 光栅#2——结果 U-X 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 !W]># Pm 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 3 +BPqhzf
QH9(l fx%'7/+ X#1So .}c
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