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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 0O,T=z[+> I,4-
-jtC>_/ Sja{$zL+W 任务说明 \y H3Y B5,QJ W* yC 7Vb
P #>m,
Cm 简要介绍衍射效率与偏振理论 Ig Vo%)n 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 DxKfWb5 R 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率:
n~)HfY
SU%rWH 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 d9-mWz(V+ 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: s w.AfRQP n^pZXb;Y 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 7XVzd]jH FfxX)p1t 光栅结构参数 &xBK\ 研究了一种矩形光栅结构。 ,d>X/kd|o 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 Vvyrty 根据上述参数选择以下光栅参数: ?)mhJ/IT 光栅周期:250 nm jxnQG A 填充因子:0.5 -M:hlwha 光栅高度:200 nm J(EaE2 材料n_1:熔融石英(来自目录) EN-H4F 材料n_2:二氧化钛(来自目录)
y^!E " ?wLdW1&PpX _D>as\dP 833%H`jQc 偏振态分析
H\=LE 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 ^0Q=#p 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 \U!@OX.R'M 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 F8[B^alAe "s>fV9YyZ )ew[ Ak| NDRW 模拟光栅的偏振态 y^X\^Kq
ke}Y2sB
e|b~[|;*= {}g %"mi# 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: bvipbf[m< 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 i!Dh&XT 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 my\o P(e\ 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。
:vYtMp a1g6}ym\ Passilly等人更深入的光栅案例。
m%oGzx+ Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 oNuPP5d[] 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 egI{!bZg'\ 6wb^*dD92
).NcLJw_ I(OAEIz 光栅结构参数 TsaW5ho<p 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 G Sz @rDGY 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 y Y>-MoF/t 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 83KfM!w 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 a[1sA12
w0 Fwd ~LawF_]6 光栅#1——参数 }rzdm9 假设侧壁倾斜为线性。 p-5Pas 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 FOCoiocPi 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 GA|/7[I} 光栅周期:250 nm 8^/+wa+G 光栅高度:660 nm 6R;) 填充因子:0.75(底部) \npz.g^c_ 侧壁角度:±6° ]urK$ n_1:1.46 eM?rc55| n_2:2.08 8yE!7$Mj >j50
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7$(_j<o` jrm0@K+<IA 光栅#1——结果 bK3B3r#$ 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 ?^LG
hdR 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 {
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$brKl8P i{gDW+N 光栅#2——参数 [O=W>l 假设光栅为矩形。 X_D6eYF 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 OuB2 x=B 矩形光栅足以表示这种光栅结构。
L~*u4 光栅周期:250 nm L)q`D2|' 光栅高度:490 nm xME(B@j 填充因子:0.5 &&;ex9 n_1:1.46 jEUx
q%BH n_2:2.08 -NAmu97V}
?E%+}P saatU;V oG!6}5 光栅#2——结果 '.pgXsC:=? 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 \WWG>OUh.U 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 csYy7uzi e\`wlaP, 49o\^<4b SijtTY#r
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