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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 p8j4Tc5tQ> 0OG
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[]ltN_ 任务说明 Pm^FSw" Lbrn8,G\ ))dqC l l v:GiA"X 简要介绍衍射效率与偏振理论 @^ta)Ev 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 m#[c]v{ 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: d5L BL'/o Or$"f3gq 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 rkWy3X{%2< 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: 'tkQz #"r_ 3 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 D0bpD :/SGB3gb1t 光栅结构参数 *B@#A4f" 研究了一种矩形光栅结构。 ,if~%'9j 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 _&gO>G,uy 根据上述参数选择以下光栅参数: @kDY c8 t9 光栅周期:250 nm .EWj eVq 填充因子:0.5 a(fiW%eFb 光栅高度:200 nm dzbbFvG 材料n_1:熔融石英(来自目录) c^H#[<6p 材料n_2:二氧化钛(来自目录) gGCr~.5 b(U5n"cdA R(_WTs9x4 .#tA .%
偏振态分析 K~-V([tWg 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 9i_@3OVl 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 >\'}&oi 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 u&={hJ&7 Lfa&JKd U74L:&yLI +6+1N)L 模拟光栅的偏振态 2\64~a^ vnbY^ASdw
u#u/uS" d7g$9&/q 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: +DefV,Ny 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 *h?}~!AjY 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 )Mflt0fp 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 d5
]-{+V+ #NMQN*J>D Passilly等人更深入的光栅案例。 peS4<MqWu Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 1=>b\"P#E 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 I%[Tosud< pox;NdX7
9.~_swkv &,Rye Q 光栅结构参数 u@Ni *)p` 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 "tmu23xQ 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 v'`qn 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 sy(bL_% 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 ^^uY)AL
(?T{^Hg Um-Xb'R*]V 光栅#1——参数 3S>rc0]6 假设侧壁倾斜为线性。 %qrUP\rn 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 4},Y0 QXw 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 +WR'\15u 光栅周期:250 nm S n~P1C 光栅高度:660 nm j{tr''yN 填充因子:0.75(底部) Q0ezeo 侧壁角度:±6° $_a/!)bP n_1:1.46 $K\;sn; |: n_2:2.08 I&1.}{G>F )g-0b@z!n
E.*wNah"U #{)mr [c| 光栅#1——结果 97>|eDc Y 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 7<8'7<X 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 ,( hP /< TEK#AR
%vG;'_gMB YWANBM(v+ 光栅#2——参数 X2np.9hie 假设光栅为矩形。 :q2RgZE 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 n-wOLH 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 ZWB3R 光栅周期:250 nm 5ry[Lgg 光栅高度:490 nm ;'!h(H 填充因子:0.5 {FC<vx{42 n_1:1.46 54s90 n_2:2.08 s9u7zqCF #aP;a-Q|k O15~\8#' b!EqYT 光栅#2——结果 3)^2X 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 %3K'[2F 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 "zIQ(|TL?d Y\(?&7Aax -HFyNk]> UG]5Dxk
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