抛光常见疵病产生原因及克服方法 )NRY9\H
印迹 Kl{2^ q>
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 jWiZ!dtUZ
2)玻璃化学稳定性不好 5*[zIKdt2
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 l Vo](#W
克 服 方 法 F0o7XUt
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 k7>* fQ89@
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 idvEE6I@
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 Df||#u=n
光圈变形 )"|' =
1)粘结胶粘结力不适 fC.-* r
2)光圈未稳定既下盘 Sq %BfP)a(
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) 2$yKa5SaX
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 Sq/M
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克 服 方 法 u3Z*hs)Z%
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 ; H_yNrwA
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 dE_BV=H{
3)刚盘定期进行检测和修正 %<O'\&!,
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 Zg5@l3w
麻点：
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产 生 原 因 VhT4c+Zs
1) 精细磨、抛光时间不够 60[f- 0X
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 hZY+dHa]
3)有粗划痕抛断后的残迹 ?'P8H^K6u
4)方形或长方形细磨后塌角 )AXTi4MNp
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 /8q7pwV
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 7 n,nODbJ
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 -9} ]J\
克 服 方 法 ^>h
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1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 z[0L?~$
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 "^;'.~@ e8
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 }/x `w
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 f";70}_
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 "}*P9-%
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 ;dRTr *
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
