抛光常见疵病产生原因及克服方法 &a%WM
印迹 \H Wcd|
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 0>,.c2) ,
2)玻璃化学稳定性不好 YSR mt/
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 sU) TXL'_!
克 服 方 法 (C8 U
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 {]wIM^$6+
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 1R0ffP]
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 U@Z>/ q
光圈变形 \~JNQ&_o
1)粘结胶粘结力不适 =N YgGEFq.
2)光圈未稳定既下盘 E,{GU
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) k: b/Gq`
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 uije#cj#O
克 服 方 法 A /q2g7My
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 )v[XmJ>H~o
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 %'Zc2h&z
3)刚盘定期进行检测和修正 Iz
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4）严格按工艺和上盘操作规程加工 y }\r#"Z`
麻点： *IC^IC:
产 生 原 因 K&=D-50%
1) 精细磨、抛光时间不够 >\V6+ $cNp
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 WfTD7?\dw
3)有粗划痕抛断后的残迹 b2N6L2~V
4)方形或长方形细磨后塌角 rh@r\ H@j
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 #
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6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 F\a]n^
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7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 >~_J q|KBB
克 服 方 法 k`Nyi )AGe
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 tAF]2VV(e
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 LO)GTyzvJ
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 vxZg &SRK
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 $@_{p*q
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 P0^c?s"I
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 ?hnx/z+uT
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
