抛光常见疵病产生原因及克服方法 @o#+5P
印迹 DMd ,8W7a
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 TJOvyz`t
2)玻璃化学稳定性不好 2+ '| kt2
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 &g0g]G21*I
克 服 方 法 \A<v=VM|
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 [M:S`{SbY
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 -;pOh;W G
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 ArzDI{1
光圈变形 h/<=u9 J
1)粘结胶粘结力不适 (A{NF(
2)光圈未稳定既下盘 Q\9K2=4
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) } 0M{A+
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 vv.PF~:
克 服 方 法 }H y ~i
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 kH?#B%N5
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 vZkXt!%)
3)刚盘定期进行检测和修正 +xj "hX>3
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 L.B~ax.|Z
麻点： XP?*=Z]
产 生 原 因 /\E [
1) 精细磨、抛光时间不够 )a cV -+{
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 w`gyE
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3)有粗划痕抛断后的残迹 +\`rmI
4)方形或长方形细磨后塌角 M"U OgS
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 M35Ax],:^
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 6 I |A- h
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 #?&0D>E ?k
克 服 方 法 3KcaT5(&
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 ;h~er6&
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 ^o d<JD4
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 'jvp Nn
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 q`Q }yE> 9
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 KcXpH]>!9
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 CWlW/>yF
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7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
