抛光常见疵病产生原因及克服方法 }q[B d
印迹 +.yT/y "
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 "Cz<d w]D
2)玻璃化学稳定性不好 ~O6\6$3b5E
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 ('[TLHP
克 服 方 法 gm)@c2?.
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 Zjh2{ :
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 v|';!p|
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干
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光圈变形 PBjmGwg7
1)粘结胶粘结力不适 v6=-g$F G
2)光圈未稳定既下盘 23]Y<->Eu<
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) z@ 35NZn
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 (5Nv8H8|
克 服 方 法 Vu8,(A7D%O
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 #q\x$
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 *m+Bu Gt|
3)刚盘定期进行检测和修正 Zyf P; &
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 S.*~C0"
麻点： /e@H^Cgo
产 生 原 因 OQ&'Dt i
1) 精细磨、抛光时间不够 \}0-^(9zd
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 \;X+ X,M
3)有粗划痕抛断后的残迹 5 `/< v^
4)方形或长方形细磨后塌角 DGESba\2+
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 |I;$M;'r&
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 :mcYZPX#
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 Xd
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克 服 方 法 0E`1HP"b
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 ay
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2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 <.K4 Jlb T
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 w 8Sv* K
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 LPd\-S_rsP
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 c3%@Wj:fo
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 pc]J[ S?P
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
