抛光常见疵病产生原因及克服方法 NABwtx >.
印迹 ve|:z
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 8 VMe#41
2)玻璃化学稳定性不好 8BnI0l=\
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 xL,; (F\^
克 服 方 法 j6wdqa9!~
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 UEeD Nl$^u
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 O ][R "5d
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 ?+S jt
光圈变形 qaK9 E@l
1)粘结胶粘结力不适 2/.E uf
2)光圈未稳定既下盘 NUVFG;
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) Y`@:L' j
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 b/N+X}VMN
克 服 方 法 T/NeoU3 p
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 8,0p14I5;
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 I$@0FSl
3)刚盘定期进行检测和修正 X) lz BM
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 =5bef8 O
麻点： {"< D$*K~
产 生 原 因
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1) 精细磨、抛光时间不够 w i,}sEoM
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 mfHZGk[[
3)有粗划痕抛断后的残迹 5c?1JH62o8
4)方形或长方形细磨后塌角 \W5fcxf
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 ZTV|rzE
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 ml=tS,
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 s)HLFdis @
克 服 方 法 rt+%&% wt
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 XV"8 R"u%Q
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 5VWyc9Q
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 b,] QfC
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 29R_?HBH
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 (=n {LMa
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 I5[HD_g:
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
