抛光常见疵病产生原因及克服方法 x kebel`%
印迹 v:$Y
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1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 t^1c^RpTb
2)玻璃化学稳定性不好 ZN?UkFnE
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 lGP'OY"Q
克 服 方 法 rhe;j/ /`
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 .EUOKPK4W
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 a<K@rg Q
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 ROHr%'owgL
光圈变形 JR j%d&^}
1)粘结胶粘结力不适 (P N!k0 Y
2)光圈未稳定既下盘 [b vI T ]Z
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) {?9s~{Dl
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 ii @O&g
克 服 方 法 fw1 g;;E
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 If_S_A c
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 RT)*H>|
3)刚盘定期进行检测和修正 ]='E&=nc
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 UC 3 4AKm
麻点： DN@T4!
产 生 原 因 !%?X% @9
1) 精细磨、抛光时间不够 -)tu$W*
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 ?q <"!U|e
3)有粗划痕抛断后的残迹 dSb|hA}@
4)方形或长方形细磨后塌角 ~sQN\]5VW
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 /0mbG !Ac
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 NVMhbpX6
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 XY8s \DK
克 服 方 法 G8lR_gD"!
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 T }X#I'Z
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 B;?"R
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 zZ|Si
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 sgo( {zA`i
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 @l^=&53T
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 y.~y*c6,g
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
