抛光常见疵病产生原因及克服方法 T1Q sW<*j
印迹 G|-\T(&J
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 hOB\n !
2)玻璃化学稳定性不好 %A62xnX
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 :@ E1Pun?
克 服 方 法 4`6c28K0?
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 %XI"<Y\yL
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 Pc(n@'m~
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 GwQZ f|
光圈变形 } xb_ s
1)粘结胶粘结力不适 1 /2V.:bg
2)光圈未稳定既下盘 /> 3
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) /S]:dDY9K
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 hDljY!P>p
克 服 方 法 RM&H!E<#
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 {jhmp\PN
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 )Ig+uDGk
3)刚盘定期进行检测和修正 6~ 7 ; o_>
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 ov`^o25f
麻点： Ug7`ez4vw
产 生 原 因 -R&E ,X7N
1) 精细磨、抛光时间不够 N^\2
_T
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 +YkW[a\4
3)有粗划痕抛断后的残迹 f6B-~x<l
4)方形或长方形细磨后塌角 (!*Xhz,(-
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 Z'Exw-ca
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 oWp}O?
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 m_m8c8{Y
克 服 方 法 rFmKmV
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 StU 4{
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 Vvm=MBgN
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 Jcz]J)|5v
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 _8Nw D_"
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 o_Jn_ 3=
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 r$GPYyHK
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
