抛光常见疵病产生原因及克服方法 ' Pbr
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印迹 yB!dp;gM{
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 [nh>vqum
2)玻璃化学稳定性不好 /x *3}oI
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 o4WDh@d5S
克 服 方 法 8{ I|$*nB
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 rvM {M/4
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 %a7$QF]
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 ^B^9KEjTz
光圈变形 # f\rt
1)粘结胶粘结力不适 [# iz/q~}
2)光圈未稳定既下盘 N$tGQ@
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) 5mR 1@
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 ia?
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克 服 方 法 ^ZCD ~P_=
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 GLODVcjf
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 E?@m?@*/
3)刚盘定期进行检测和修正 5:?! =<=
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 glw+l'@
麻点： /mZE/>&~ ,
产 生 原 因 ),!qTjD
1) 精细磨、抛光时间不够 QZ8I V>
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 xyxy` qR A
3)有粗划痕抛断后的残迹 _"{Xi2@H
4)方形或长方形细磨后塌角 }-`4D Hgq
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 E" vS $
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 !n%j)`0M
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 E*lxVua
克 服 方 法 K)P%;X
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 HbIF^LeY|R
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 R@2X3s:
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 V VCZ9MVJ
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 *NQ/UXE
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 to&m4+5?6
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 V~ _>U}
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
