抛光常见疵病产生原因及克服方法 Z=%u: K}[
印迹 b
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1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 b NtO qhi
2)玻璃化学稳定性不好 d{(Rs.GuP
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 1DL+=-
克 服 方 法 d(9Sk Xr
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 v<g#/X8
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 jv1p'qs4
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 ?duw0SZ
光圈变形 aO9\8\^
1)粘结胶粘结力不适 C:bA:O
2)光圈未稳定既下盘 66+]D4(k
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) g u' +kw
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 3W.D^^)eCV
克 服 方 法 *laFG <;
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 j.+,c#hFo
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 T2m ZkK?rA
3)刚盘定期进行检测和修正 y^kC2DS
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 >qGWDCKr
麻点： N "eK9>
产 生 原 因
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1) 精细磨、抛光时间不够 /^&$ma\
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大
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3)有粗划痕抛断后的残迹 ,5K&f\
4)方形或长方形细磨后塌角 =FFs8&PKys
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 V2tA!II-s
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 ilQ\+xR{b
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 ]x3 )OjH
克 服 方 法 ,pkzNe` F
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 09G]t1!,
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 Z vyF"4QN
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 p{SIGpbR&
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 I9U
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5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 dPgA~~
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 g K dNg U
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
