抛光常见疵病产生原因及克服方法 ZG1TR F "
印迹 %pOxt<
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹
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2)玻璃化学稳定性不好 *a\x!c"
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 ~a2|W|?
克 服 方 法 b 49h @G
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 6p&2 A
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 q {
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 hNYO+LrI)
光圈变形 eQ)*jeD
1)粘结胶粘结力不适 x 2&5 zp
2)光圈未稳定既下盘 $v2t6wS,"
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) mDp8JNJNE
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 ji4bz#/B0
克 服 方 法 QA^F P8!j
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 ?o6#i 3k#'
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 C :sgT6
3)刚盘定期进行检测和修正 ;AVIt!(L~V
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 <w*WL_P
麻点： }BT0dKx
产 生 原 因 sl@>GbnS
1) 精细磨、抛光时间不够 N<4 nb
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 98
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3)有粗划痕抛断后的残迹 F ?FfRzZ[
4)方形或长方形细磨后塌角 P~lU `.X}
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 bFL2NH 5
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 M6A0D+08
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 ; }T+ImjA
克 服 方 法 N Lx TiyQy
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 JJg;X :p
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 -~(d _
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 Z 1wtOL
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 OJA_OqVp$K
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 !fe_w5S ^
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 #1*7eANfr
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
