抛光常见疵病产生原因及克服方法 |_xZ/DT
印迹 v4nv Z6
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 {o Q(<&Aw
2)玻璃化学稳定性不好 tg4LE?nv
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 u& hDjE
克 服 方 法 m^W*[ ^p
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 !Qj)tS#Az
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 a>-}\GXTA
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 44<9zHK
光圈变形 E#IiyZ
1)粘结胶粘结力不适 a>;3
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2)光圈未稳定既下盘 x9FLr}e
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) dXf]G6
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 bUY:XmA
克 服 方 法 #U\&i`
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 0xvMR&.H
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 (Von; U
3)刚盘定期进行检测和修正 =|j*VF 2y"
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 % 8rr*l5
麻点： -+j9X;h:
产 生 原 因 \FY/eQ*07
1) 精细磨、抛光时间不够 L@d]R MNv
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 ;W$w=j:
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3)有粗划痕抛断后的残迹 Pl>nd)i`
4)方形或长方形细磨后塌角 +j)-L \
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 |,M#8NOp:
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 T_5*iwI
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 0{U ]STj
克 服 方 法 df21t^0/
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 !.tL"U~4
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 :JTRRv
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 pUCEYR
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 vk NZ -`+I
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 9^b7jw
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 |)|vG_
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
