抛光常见疵病产生原因及克服方法 o3ZqPk]al
印迹 #;lB5) oe
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 N
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2)玻璃化学稳定性不好 w vnuE<o8
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 +\ZaVi
克 服 方 法 `,7;2ZG~O
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 .wPu
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2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 aSEzh7 8
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 }rKKIF^f\S
光圈变形 r;"uk+{i
1)粘结胶粘结力不适 |'SgGg=E
2)光圈未稳定既下盘 O={
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3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) M~O$ ,dof
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 },& =r= B
克 服 方 法 66 Tx>c"H
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 4f-I,)qCBk
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 ixjhZk i<
3)刚盘定期进行检测和修正 }~bx==SF6!
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 >&-"
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麻点： mW 4{*
产 生 原 因 ';J><z{>
1) 精细磨、抛光时间不够 0Vwl\,7z9
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 VUbg{Rb)
3)有粗划痕抛断后的残迹 uupfL >h
4)方形或长方形细磨后塌角
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5)零件在镜盘上由于加工造成走动 <], ~V \m
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 ,^m;[Dl7
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 WW.amv/[a
克 服 方 法 rE5q
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1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 Y5XhV;16
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 e"u89acp
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 i4g99Kvl
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 ,Srj38p
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 bi<?m^j
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 f{j.jf l\x
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
