抛光常见疵病产生原因及克服方法 gbOCR1PBg
印迹 0jB X5
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 j%& IL0
2)玻璃化学稳定性不好 AR L
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 *M~.3$NN
克 服 方 法 fk5XvL
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 J(h3]J/Yw
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 K%{ad1$c
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 0^_MN~s(X
光圈变形 ;Gm>O7"|@
1)粘结胶粘结力不适 f\ "` 7
2)光圈未稳定既下盘 4/wwn6I}G
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) E`p'L ! z
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 WOndE=(V
克 服 方 法 6 w#n kF
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 c<qe[iyt/
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 TGWdyIk
3)刚盘定期进行检测和修正 P M~*|(fA
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 Etmo7 8e
麻点： gOE_
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产 生 原 因 c %<2z
1) 精细磨、抛光时间不够 T_L6 t66I
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 Fu0 .~w
3)有粗划痕抛断后的残迹 6 S*zzJ.0K
4)方形或长方形细磨后塌角 =Nl5{qYz^&
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 V;*p L1
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 2uu[52H8d%
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 nN{dORJlx
克 服 方 法 `
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1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 ]Ti $ztJ
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 aG3 k4
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 p~>_T7ze
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 E\e]K
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5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 >_#)3K1 y8
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 +rQg7a}
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
