抛光常见疵病产生原因及克服方法 +C)auzY7N
印迹 r} ~ l(
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹
ka&-tGg
2)玻璃化学稳定性不好 : |c,.uO
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 VrokEK*qbY
克 服 方 法 oLn| UWe_
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 b+M[DwPw
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 `<>8tZS9"
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 m`c(J1Et
光圈变形 lC1X9Op
1)粘结胶粘结力不适 NwG&uc+Q
2)光圈未稳定既下盘 ^~ 5tntb.
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) LE Y Y{G?
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 FK#>E[[
克 服 方 法 AMYoSc
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 EVj48
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 =k[!p'~jD
3)刚盘定期进行检测和修正 ]~(Ip z2NP
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 %;zWS/JhL
麻点： Z3R..v y8
产 生 原 因 *qG=p`
1) 精细磨、抛光时间不够 |"P5%k#6^>
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 *k'9 %'<
3)有粗划痕抛断后的残迹 7@Di nA!
4)方形或长方形细磨后塌角 T"Q4vk,3*J
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 BsB}noN }
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 ,oP-:q!PC
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 ;8g#"p*&
克 服 方 法 va; d[D,
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 ,h]N*Z-I"
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 _jZDSz|Y b
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 X5U! 25d]
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 oUw-l_ M]
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 7B% @f9g
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 #OWwg`AWv
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
