抛光常见疵病产生原因及克服方法 8AQ__&nT
印迹 _)kTlX:,
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 ). 3riR
2)玻璃化学稳定性不好 IhjZ{oV/@
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 ZA+w7S3
克 服 方 法 "IN[(
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 ~JQ6V?fucD
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 Bwl@Muw
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 %jJ|4\
光圈变形 D/YMovH%
1)粘结胶粘结力不适 fSF_O}kLp
2)光圈未稳定既下盘 #w@V !o
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) PH$C."Vv
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 )uu(I5St
克 服 方 法 =}g-N)^
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 QpD- %gN
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 H~
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3)刚盘定期进行检测和修正 HtV 8=.^
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 v`@M IO v
麻点： 7epi l
产 生 原 因 -v! ;
1) 精细磨、抛光时间不够 sBk|KG
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 C#LTF-$] )
3)有粗划痕抛断后的残迹 '*B%&QC -
4)方形或长方形细磨后塌角 OcLahz6
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 ;,/4Ry22j-
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 goe %'k,
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 ]P/i}R:
克 服 方 法 %xrldn%
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 I0*N
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2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 B$M4f7
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 E7q,6f3@r
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 *ze,X~8-
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 y$+=>p|d.^
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 Re+ oCJ
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
