抛光常见疵病产生原因及克服方法 *2F }e4v
印迹 d 9"4m>ymS
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 /jD' o>
2)玻璃化学稳定性不好 ej+!|97M
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 bE~lc}%
克 服 方 法 .2xkf@OP
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 oV`sCr5%
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 .&y1gh!=
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干
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光圈变形 r;z A `
1)粘结胶粘结力不适 <h({ +N
2)光圈未稳定既下盘 AK
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3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) {QID @
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 ^ d qEOW
克 服 方 法 v &n &i?
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 iq$/ 6!t
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 e^ yB9b
3)刚盘定期进行检测和修正 VzesqVx
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 "dOzQz* E
麻点： n9fk{"y'G
产 生 原 因 D 3PF(Wx
1) 精细磨、抛光时间不够 sXu]k#I^"
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 JN_#
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3)有粗划痕抛断后的残迹 -bwl~3ZTi
4)方形或长方形细磨后塌角 00i9yC8@6
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 bb{+
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 @_{"ho
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 ( yfT kBy
克 服 方 法 :9}* p@
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 9\F^\h{
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 U,'n}]=4A3
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 Y~R wsx
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 (Gc l,IW
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 s 6B@:9
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 `f'P
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
