抛光常见疵病产生原因及克服方法 5]Y ?NN,GR
印迹 7-4S'rq+
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 ;oVFcZSA
2)玻璃化学稳定性不好 /` b`ai8`8
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 $mut v=IO
克 服 方 法 tWITr
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 1_5]3+r_U-
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 9lc{{)m2)
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 p~h [4h P
光圈变形 AzFS6<_
1)粘结胶粘结力不适 9&'HhJm
2)光圈未稳定既下盘 RpU.v
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3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) l vfplA
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 b^WF
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克 服 方 法 qw}.
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1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 ONm-zRx|
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 ?Y_!Fr3V
3)刚盘定期进行检测和修正 3/EJ ^C
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 GUUd(xS {
麻点： ;!pJ %p0Sc
产 生 原 因 $Sc;
1) 精细磨、抛光时间不够 F 8 gw 3
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 l'kVi
3)有粗划痕抛断后的残迹 :zsMkdU
4)方形或长方形细磨后塌角 ?5rM'O2
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 r<EwtO+x
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 d% Nx/ DS)
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 xv 0y?#`z
克 服 方 法 4x?4[J~u[
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 s1
(U Od7}
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 PQ(/1v
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 h?-M+ Ac
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 _!^2A3c<
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 yI. hN
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 MsjC4(Xla.
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
