抛光常见疵病产生原因及克服方法 D!n x %%q
印迹 X 8212[7
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 J^)=8cy
2)玻璃化学稳定性不好 `as6IMqJD
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 ^mu Pj M+D
克 服 方 法 z{ MO~d9
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 ;LE9w^>^V
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 J\c\Ar :
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 W:* {7qJ
光圈变形 !<W^ Fh
1)粘结胶粘结力不适 Xgyi}~AoaU
2)光圈未稳定既下盘 o%. 0@W
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) z`KP
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4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 6 P U]I+
克 服 方 法 APM! xX=N
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 @]xH t&j
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 1_0\_|
3)刚盘定期进行检测和修正 Ft^ +P*
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 _W^{,*p
麻点： :Wl`8 p4]
产 生 原 因 2V)qnMxAZJ
1) 精细磨、抛光时间不够 {&d )O
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 6UnWtLE
3)有粗划痕抛断后的残迹 UhVJ ! NrT
4)方形或长方形细磨后塌角 fs;pX/:FR
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 ] R-<v&O
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 u[~= a 5:4
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 )9'Zb`n
克 服 方 法 mdy+ >e <
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 4VrL@c
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2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 3?:?dy(3z
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 :]+p#l
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 T f;:C]
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 /Ym!%11`
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 .Mu]uQUF
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
