抛光常见疵病产生原因及克服方法 bI`g|v
印迹 QZ8I V>
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 |':{lH6+1
2)玻璃化学稳定性不好 !'I8:v& D
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 }QmqoCAE~m
克 服 方 法 GA.8@3
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 1 -b_~DF
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 `GLx#=Q
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 eJX#@`K
光圈变形 SS 2%q v
1)粘结胶粘结力不适 @}Z Vtrz
2)光圈未稳定既下盘 D m9sL!
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) ! `r$"}g
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 GN>@ZdVG}#
克 服 方 法 k;W
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1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 5-A\9UC*@
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 'hf8ZEW9'
3)刚盘定期进行检测和修正 "wc<B4"
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 -n;}n:w L
麻点： 4Po_-4
产 生 原 因 i -&yH
1) 精细磨、抛光时间不够 d d;T-wa}
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 "Rl}VeDY
3)有粗划痕抛断后的残迹 LH6 vLuf
4)方形或长方形细磨后塌角 W_ ZJ0GuE(
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 wKHBAW[i]
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 A %-6`>
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 54qFfN8O
克 服 方 法 b`_Q8 J
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 y+q5UC|
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 DV{=n C
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 , u !sjx
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 :Tq ~8!s
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 I}Q2Vu<
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 XfmwVjy
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
