抛光常见疵病产生原因及克服方法 1y_{#,{>
印迹 x`%;Q@G
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 >6ch[W5k@
2)玻璃化学稳定性不好 Bh2m,=``
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 K ( 6=)
克 服 方 法 HK&F'\'}
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 |=38t8Ge&
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 I U 4[}x
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 ;=)CjC8)
光圈变形 Rl3KE)<
1)粘结胶粘结力不适 %DPtK)X1
2)光圈未稳定既下盘 ]pb;q(?^
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) r-Z'
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 Q6%m}R
克 服 方 法 0<v~J9i
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 )Cd glPK
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 7GK| A{r
3)刚盘定期进行检测和修正 "VcGr#zW
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 [ (ty{
麻点： oi "Bf7{
产 生 原 因 3tIIBOwg[
1) 精细磨、抛光时间不够 ]X?+]9Fr
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 30< dEoF
3)有粗划痕抛断后的残迹 yo
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4)方形或长方形细磨后塌角 'Q(A5zfN]Y
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 [m Wo&Ph[-
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 *GRhZ~U
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 L<8y5B ~W
克 服 方 法 m> NRIEA6
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 ~01r c
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 ,~G _3Oz
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 fRrHWE+
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 &,$A7:
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 i7f pl
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 ?m?e2{]u,
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
