抛光常见疵病产生原因及克服方法 4)^vMG&
印迹 >)^N J2Fd
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 "15=ET
2)玻璃化学稳定性不好 BSKEh"f
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 uoCGSXsi
克 服 方 法 e!Br>^8l
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 nLJBq )i
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 bnr|Y!T}Bi
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 3 ] ^'
光圈变形 @6b[GekZ<
1)粘结胶粘结力不适 o,FUfO}F
2)光圈未稳定既下盘 gI{ =0
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) ;Iq5|rzDn
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 o?wt$j-
克 服 方 法 B\[-fq
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 -!TcQzHUs
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 h<Wg 3o
3)刚盘定期进行检测和修正 =/9<(Tt %m
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 o1k#."wHr
麻点： p=B?/Sqa
产 生 原 因 L/x(RCD
1) 精细磨、抛光时间不够 Dtt-|_EMS
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 yW("G-Nm
3)有粗划痕抛断后的残迹 ([KN*OF
4)方形或长方形细磨后塌角 -:S IS`0s
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 TQJF+;%
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 Z`s!dV]e9
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 )%VCzye*{
克 服 方 法 JIxiklk
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 _|<BF
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 x=Mm6 }/
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 \_VmY!I5\
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 m*oc)x7'
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 Uh}X <d/V
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 {mSJUK?TKl
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
