抛光常见疵病产生原因及克服方法 \N!AXD
印迹 @eD):Y
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 zR1^I~
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2)玻璃化学稳定性不好 <lw`
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3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 ]iN 'x?Fo
克 服 方 法 rz wF~-m +
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 ?Z Rs\+{vG
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 &]e'KdXF
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 bJRN;g
光圈变形 5] [Ztx
1)粘结胶粘结力不适 2XFU1 AW
2)光圈未稳定既下盘 y .#")IA F
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) !%^^ \,
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 A+SE91m
克 服 方 法 ^?cz,N~
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 @R/07&lBR
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 UDL!43 K
3)刚盘定期进行检测和修正 Hyb3 ;yQ
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 Mr;E<Lj ^K
麻点： @.b+av 4J
产 生 原 因 [Sr,h0h6
1) 精细磨、抛光时间不够 "uuVy$6C
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 ]ndvt[4L
3)有粗划痕抛断后的残迹 i@P)a'W_
4)方形或长方形细磨后塌角 S4^vpY
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5)零件在镜盘上由于加工造成走动 9K5pwC\$%
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 PZE0}>z
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 1<BX]-/tP
克 服 方 法 )~+E[|
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 ]l1\? I
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 -~v|Rt
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 fBRo_CU8!
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 #JgH}|&a$
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 jX3,c%aQ5e
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 @6{~05.p
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
