抛光常见疵病产生原因及克服方法 b`?$;5
印迹 r_8[}|7;
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 $) UMRG
2)玻璃化学稳定性不好 6[r-8_
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 M4MO)MYJ
克 服 方 法 L>4!@L5)
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 &Nvva qJ
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 \UBTNY,
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 oD0WHp
光圈变形 {s ]yP_
1)粘结胶粘结力不适 o>(I_3J[p
2)光圈未稳定既下盘 l/(|rl#6
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) +M@,CbqD
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 ! bf8
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克 服 方 法 @|3PV
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 x4b.^5"`:
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 qnFi./
3)刚盘定期进行检测和修正 l B7 V4
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 K) e;*D
麻点： $K_G|Wyi
产 生 原 因 oqLM-=0<}
1) 精细磨、抛光时间不够 BKd03s=
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 :Nr y |
3)有粗划痕抛断后的残迹 df o_R
4)方形或长方形细磨后塌角 s&>U-7f x"
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 jv8di Q.
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 d A[MjOd3
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 O,$
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克 服 方 法 uT")j,tz
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 75>)1H)Xm
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 -0pAj}_2}
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 UEm~5,>$0
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 e}F 1ZJz
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 ,CGq_>Z
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 VLLE0W _]
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
