抛光常见疵病产生原因及克服方法 tuT>,BbR
印迹 +D7>$&BD
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 `_YXU
2)玻璃化学稳定性不好 F ru&-T[
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 V{jQ=<)@e
克 服 方 法 Dj?84y
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 > :o$h2
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 |7Dc7p"D
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 Z hqGUb
光圈变形 P 2-^j)
1)粘结胶粘结力不适 hn`yc7<}(u
2)光圈未稳定既下盘 77 g<`}{
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) A9 *P7
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 %#go9H(K
克 服 方 法 xG_LEk( zD
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 nXU`^< nA
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 W;Y"J_
3)刚盘定期进行检测和修正 4{PN9i
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4）严格按工艺和上盘操作规程加工 ;H' ,PjU
麻点： PHAM(iC&D
产 生 原 因 PiwMl)E|!
1) 精细磨、抛光时间不够 @\*`rl]
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 L m-f0\(
3)有粗划痕抛断后的残迹 Rb/|ae
4)方形或长方形细磨后塌角 X E#a#
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 As{Q9o5j/
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 E z1-Nx
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 wI5(`_l{G
克 服 方 法 'hGUsi
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 j.]ln}b/'+
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 #]rfKHW9
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 =I.uf
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 pyw]ydB
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 'G1~
A +
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 I]@QhCm0
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
