抛光常见疵病产生原因及克服方法 rN} {v}n
印迹 E}\^GNT
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 jw# 'f% *
2)玻璃化学稳定性不好 jlzqa7
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 U*v//@WbH
克 服 方 法 nM) ]
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 4d 9i AN
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 Qn<J@%
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 PS(9?rX#+
光圈变形 [*8w v^
1)粘结胶粘结力不适 )#i]exZ
2)光圈未稳定既下盘 Cl4y9 |
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) QTK \"
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 #.a4}ya19
克 服 方 法 6$ @Pk<w
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 b
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2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 <}N0 y*m
3)刚盘定期进行检测和修正 %^gT.DsX-
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 <F>\Vl:
麻点： $fuFx8`2W
产 生 原 因 |5$9l#e
1) 精细磨、抛光时间不够 `Z]a 6@w~
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 K' N\"Y?>
3)有粗划痕抛断后的残迹 9=
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4)方形或长方形细磨后塌角 ^/mQo`[G
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 Mz+|~'R
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 +z;xl-*[
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 `=b*g24z[N
克 服 方 法 Yca9G?^\v
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 W{ @lt}
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 ANp4yy+
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 09%q/-$
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 =<O{
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 u =#LY$
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 =5I1[p;
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
