抛光常见疵病产生原因及克服方法 5GGO:
印迹 (p<pF].
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 lSc=c-iOv
2)玻璃化学稳定性不好 l z-I[*bA
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 : [7O=[pk
克 服 方 法 K D?b|y @
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 W2'!Pc,W
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 K~B
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 Fu 5c_"!
光圈变形 [v\m)5
1)粘结胶粘结力不适 ?:G 3U\M
2)光圈未稳定既下盘 $tej~xZK
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) 4]6-)RHFB
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 s ;$f6X
克 服 方 法 `evF?t11X
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 c94 =>p6
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 I&31jn_o
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3)刚盘定期进行检测和修正 wE}Wh5
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 MzDosr3:
麻点： @w`wJ*I4,
产 生 原 因 9Vo*AK'&U
1) 精细磨、抛光时间不够 YoBe!-E
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 $sS~hy*
3)有粗划痕抛断后的残迹 m xqY
4)方形或长方形细磨后塌角 :2K@{~ 8r
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 2_y]MXG+%
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分
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7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 h9/fD5
克 服 方 法 w
?*eBLJ(G
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 w)`XM
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 P-3f51 Q
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 :
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4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 cnI5 G!
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 _^NyLI%
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 3bYjW=_hA
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
