抛光常见疵病产生原因及克服方法 ~s_n\r&23
印迹 $ekJs/I&
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 tz0_S7h
2)玻璃化学稳定性不好 rSGp]W|
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 o /uA_19
克 服 方 法 UOTM>d1P
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 \-A=??@H
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 k)+2+hX&>
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 ZMs$C3
光圈变形 ,dhSc<:LT
1)粘结胶粘结力不适 )%e` SGmp
2)光圈未稳定既下盘 l#!p?l
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) YcJZG|[
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 7v9l+OX,6
克 服 方 法 [d+f#\ut
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 )m . KV5K!
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 q'u^v PO
3)刚盘定期进行检测和修正 p
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4）严格按工艺和上盘操作规程加工 YKF5|;}
麻点： !? t#QD o
产 生 原 因 bDh, r!I
1) 精细磨、抛光时间不够 e
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2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 f=0U&~
3)有粗划痕抛断后的残迹 >s3H_X3F
4)方形或长方形细磨后塌角 G&i<&.i
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 k@HV
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6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 7A!E~/nSC
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 rkw^ RW^
克 服 方 法 6.X| . N
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 9 d7`R'
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 ]Puu: IG
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 @=@7Uu-
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 G[34:J
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 ')ZM#
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6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 tqdw
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7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
