抛光常见疵病产生原因及克服方法 ,Z3 (`ftC
印迹 p?@R0]
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 l g0 'qH8
2)玻璃化学稳定性不好
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3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 XIep3l*
克 服 方 法 kdq<)>"
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 _%r +?I
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 ?$c hO|QY
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 !
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光圈变形 \r.{Ru
1)粘结胶粘结力不适 DfPC@`
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2)光圈未稳定既下盘 g$^:2MT"aQ
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) /m"#uC!\
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 _ ^2\/@
克 服 方 法 bU3P; a(
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 L- '{
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 c6 f=r
3)刚盘定期进行检测和修正 \Fh#CI
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 uGoySt&;(
麻点： v47S9Vm+
产 生 原 因 B@+&?%ub:
1) 精细磨、抛光时间不够 |>'.(
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 (GCe D-
3)有粗划痕抛断后的残迹 a1 K h
4)方形或长方形细磨后塌角 x$SxGc~4gb
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 uc~/l4~N
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 z+5ZUS2~&
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 `GpOS_;
克 服 方 法
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1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 ;h"St0
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 qH=<8Iu
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 Y3 V9
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 0[
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5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 sC}p_'L
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 TXWYQ~]3w
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
