抛光常见疵病产生原因及克服方法 fhp<oe>D
印迹 7cO n9fIE
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 Z2='o_c
2)玻璃化学稳定性不好 Nkl_Ho,
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 ;YX4:OBqr
克 服 方 法 ); dT_
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 i Ae<&Ms
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 *c*0 PdV
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 } 36QsH8
光圈变形 <'Wo@N7
1)粘结胶粘结力不适 SNE#0L ' }
2)光圈未稳定既下盘 o=?C&f{
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) $UCAhG$
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 I*kK 82
克 服 方 法 &c%g
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 `~;rb lo;
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 C{DvD'^
3)刚盘定期进行检测和修正 ICkp$u^
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 a@* S+3
麻点： 2 e9e s
产 生 原 因 y+6o{`0
1) 精细磨、抛光时间不够 UE ,t8j
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 AN SFdc
3)有粗划痕抛断后的残迹 glXZZ=j
4)方形或长方形细磨后塌角 .Pw\~X3!
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 ),!;| bh
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 6 9NQ]{1
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 7{qy7,Gp
克 服 方 法 .j>hI="b
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 a5!Fv54
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 x,S
P'f cP
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 g [7#w,o
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 P(73!DT+
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 8o 0%@5M
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 *9c!^ $V
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
