抛光常见疵病产生原因及克服方法 CT&|QH{
印迹 8=!D$t\3
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 Lc}LGq!
2)玻璃化学稳定性不好 y5vvu>nd
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 u2tf F
克 服 方 法 EfqX
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1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 rjK%t|aV^
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 m&d|t>3<
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 &j;wCvE4+
光圈变形 |44Ploz2b
1)粘结胶粘结力不适 kpuz]a7pK
2)光圈未稳定既下盘 ;x y"\S]
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) \UA[
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 L7l
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克 服 方 法 q9B $" n
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 aHD]k8 m z
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 G0Iw-vf
3)刚盘定期进行检测和修正 s9 mx
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 hWjc<9
麻点： )705V|v
产 生 原 因 &0d# Y]D4`
1) 精细磨、抛光时间不够 h0EEpL|\
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 9i:L&dN
3)有粗划痕抛断后的残迹 6%' QjwM_
4)方形或长方形细磨后塌角 juJkl SD
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 e1yt9@k,
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 Y/F6\oh
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 a
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克 服 方 法 /'SNw?&
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 Cp\6W[2+B
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 w?L6!) oiz
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 7g^]:3f!
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 /PV k{3
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 &$+ AXzn
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 RU|Q ]Ymx
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
