抛光常见疵病产生原因及克服方法 K51 fC4'{
印迹 r8v:|Q1"
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 A{`]& K1u
2)玻璃化学稳定性不好 s]x2DH+_
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 r)B3es&&
克 服 方 法 /'&v4C^y>
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 h48 bb.p2
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 fM:80bn L+
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 SIv[9G6
光圈变形 kI+b <$:D
1)粘结胶粘结力不适 shK &2Noan
2)光圈未稳定既下盘 X;]3$\F
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) yJ J8 "s~i
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 k?-S`o%Q
克 服 方 法 i./Y w
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 e "_"vbk
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 2np-Fc{S
3)刚盘定期进行检测和修正 8IOj[&% 0
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 l ?/gW D^
麻点： .v
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产 生 原 因 k2uBaj]
1) 精细磨、抛光时间不够 n /-N;'2J
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 _IKQ3 6=
3)有粗划痕抛断后的残迹 $4h04_"
4)方形或长方形细磨后塌角 llqDT-cp
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 4K #^dJnC
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 (WMLNv
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 _z%\'(l+
克 服 方 法 9OZ>y0)K~
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 Gx|Dql
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 V*uEJ6T
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 b,vL 8*
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 u[J7Y
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 !vrnoFVu
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 1eF@_Y^a!
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
