抛光常见疵病产生原因及克服方法 # +>oZWVc
印迹 G> _*djUf
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 mU C)gA/
2)玻璃化学稳定性不好 H'5)UX@LP
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 G't$Qx,IC
克 服 方 法 yN0Vr \r2
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 5pG}Yk_(x
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 5ta `%R_
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 pad*oPH,
光圈变形 %Xg4b6<9
1)粘结胶粘结力不适 ssA`I<p #
2)光圈未稳定既下盘 9=M$AB
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) g /_5unI}u
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 ]%SH >
克 服 方 法 |i*37r6]=
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 hag$GX'2k
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 @7c?xQVd$
3)刚盘定期进行检测和修正 \7eUw,~Q>
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 "cGk)s
麻点： 7WqH&vU|
产 生 原 因 Es`Px_k
1) 精细磨、抛光时间不够 F<1fX 7c
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 $Wol?) z
3)有粗划痕抛断后的残迹 G>=*yqo
4)方形或长方形细磨后塌角 //MUeTxR
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 E~T-=ocKE
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 Wi<m{.% \E
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 ]c*4J\s
克 服 方 法 F UzzB94a
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 Jr4Ky<G_i
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 P; no?
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 a! SiX
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀
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5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 dQX6(J j
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 uMv,zO 5
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
