抛光常见疵病产生原因及克服方法 p2v+sWO
印迹 r8o9 C
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 v# . %eF
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2)玻璃化学稳定性不好 `y1ne x-0
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 pN-l82]'
克 服 方 法 ; O6Ez-"
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 yvPcD5s5
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 d&!;uzOx
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 f)~j'e
光圈变形 h92'~X3 6
1)粘结胶粘结力不适 C\ ~!2cy
2)光圈未稳定既下盘 YQ\c0XG
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) !=C74$TH
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 PrA?e{B5m
克 服 方 法 (qf%,F, _L
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 C-vFl[@a0
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 @X _<y
3)刚盘定期进行检测和修正 Dy_ayxm
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 <Cbah% X
麻点： Hr?_ `:
产 生 原 因 Dz<"eyB\
1) 精细磨、抛光时间不够 bO)voJ<
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 _$&C$q$ 1y
3)有粗划痕抛断后的残迹 =jz*|e|V
4)方形或长方形细磨后塌角 ({"jL*S,q
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 {LwV&u(
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分
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7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 NuL.l__W
克 服 方 法 3RwDI k?>%
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 2H h5gD|>
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 7GY3 _`
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 ?+Q?K30:
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 E<
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5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 OA_WjTwDs
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 w1#1s|
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
