抛光常见疵病产生原因及克服方法 5S ) N&%
印迹 1*f/Y9 Z
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 mM T\"bb'
2)玻璃化学稳定性不好 w ^ X@PpP
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 w}YcAnuB{%
克 服 方 法 im9Pj b%
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 e35 ")z~
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 L/)eNZ
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 %Q=rm!Syv
光圈变形 dpT?*qLM
1)粘结胶粘结力不适 ex.^V sf_
2)光圈未稳定既下盘 " eS-i @
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) !/]z-z2>
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 5^{ I}Q
克 服 方 法 :|-^et]a8
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 S3Fj /2Q8
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 _z\qtl~3
3)刚盘定期进行检测和修正 @ cQ
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4）严格按工艺和上盘操作规程加工 !FQS9SoO9
麻点： 6A4{6B
产 生 原 因 4 O4}C#6(4
1) 精细磨、抛光时间不够 u63Q<P<
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 #dFE}!"#`
3)有粗划痕抛断后的残迹 Y2|c;1~5$
4)方形或长方形细磨后塌角 u~!Pzz3"
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 Bw.?Me)mf|
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 ; ,Os3
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 K Dr)'gl&
克 服 方 法 6&btAwvOHx
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 8\b Z?n#dn
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 X vZ5Q
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 (\4YBaGd
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 FX+^S? x.
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 {~V_6wY g
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 [9Hrpo]tU:
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
