抛光常见疵病产生原因及克服方法 sM #!Xl;
印迹 tZdwy> ;
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 tn iPEmeS
2)玻璃化学稳定性不好 cxAViWsf
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 (y-x01H
克 服 方 法 cWgbd ^ J
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 " PZYgl
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 S PfD2%jjC
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干
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光圈变形 IXbdS9,>F
1)粘结胶粘结力不适 ZM dM_i?
2)光圈未稳定既下盘 =Jsg{vI
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) D?iy.D g
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 [?Mc4uT{
克 服 方 法 PN1(j|
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 6T R8D\
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 CP c"
3)刚盘定期进行检测和修正 6V.awg,
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 "bHtf_
麻点： 1zh$ IYrd
产 生 原 因 [
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1) 精细磨、抛光时间不够 } l :mN
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 54`bE$:+
3)有粗划痕抛断后的残迹 uAW *5 `[
4)方形或长方形细磨后塌角 Kj~>&WU
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 mXxZM;P[
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 k S@9c _3S
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 }}kS~
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克 服 方 法 l-DGy# h+z
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 )ZS:gD
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 n u \
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 -_y~rx
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4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 K[ iY {
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 g\
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6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 *6 I =oE
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
