抛光常见疵病产生原因及克服方法 Lf rS:g
印迹 V!3O
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1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 ,uE WnZ"4
2)玻璃化学稳定性不好 0ltq~K
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 -Vt*(L
克 服 方 法 ,p>= WX
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 !>;p^^e
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 J0 lTp /
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 0sk*A0HX-
光圈变形 PS!f&IY}[.
1)粘结胶粘结力不适 !lL 21C6g+
2)光圈未稳定既下盘 eH=lX9
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) AVi
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4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 zn>*^h0B
克 服 方 法 Uq0RJ< n
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 SS@# $t:
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 )aOg_*~
3)刚盘定期进行检测和修正 x"5/1b3aq
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 p?=rQte([
麻点： `gD'q5.z;3
产 生 原 因 4wMKl6 mL
1) 精细磨、抛光时间不够 Qy5\q W'
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 (?I8/KYR
3)有粗划痕抛断后的残迹 : kf l q
4)方形或长方形细磨后塌角 Iz !Blk
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 qnv9?Xh
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 .0cm
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7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 "f(iQI
克 服 方 法 \qi=Us|=
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 XNf%vC>
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 mn ?<
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3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 J/M 1#sE
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 Pc`d@q
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 B@=+Fg DD
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 $2
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7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
