抛光常见疵病产生原因及克服方法 }|[0FP] v
印迹 }0@@_Y]CC
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 kX }sDvP3
2)玻璃化学稳定性不好 <n~.X<6V'
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 S*J\YcqSC
克 服 方 法 'o0o.&/=
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 6|3 X*Orn
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 60A!Gob
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 8<C@I/
光圈变形 Z0y~%[1X
1)粘结胶粘结力不适 VnB HQ.C
2)光圈未稳定既下盘 3c wBPqH
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) <6,,:=#
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 3K/ tB1
克 服 方 法 P,WQN[(+
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 3$5E1*ed
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 KECW~e`
3)刚盘定期进行检测和修正 |#yT]0L%pA
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 K{@xZ)
麻点： gn~ ^Ajo
产 生 原 因 s N ? Rx}
1) 精细磨、抛光时间不够 3Zyv X]@_
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 vRf $#fBEQ
3)有粗划痕抛断后的残迹 Yjd /
4)方形或长方形细磨后塌角 CH| cK8q
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 L, nb<
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 U,6 sR
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 i^A=nsD`
克 服 方 法 S&] r6 ss
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 C t~j/.
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 V,'_BUl+x
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 ^>Z7."uGY
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 x FM^-`7
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 p>3QW3<
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 $9r4MMs{$
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
