抛光常见疵病产生原因及克服方法 1/t }>>,M
印迹 V 0<>Xo%
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 ~E2xIhV
2)玻璃化学稳定性不好 \W<r`t4v
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 . Dw^'p>
克 服 方 法 ZJotg *I
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 JW!SrM xF
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 MQR@(>TZy
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 O87Ptr8
光圈变形 ^Zh
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1)粘结胶粘结力不适 r)jj]$0
2)光圈未稳定既下盘 $u"t/_%
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) gxpGi @5
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 c&Pgz~iP
克 服 方 法 q]%c
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1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 N?d4P u1m
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 < PoRnx
3)刚盘定期进行检测和修正 "{0
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4）严格按工艺和上盘操作规程加工 tqY)
麻点： l\W[WQP h
产 生 原 因 lNSB "S
1) 精细磨、抛光时间不够 hJ0)"OA5
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 kc d~`+ C
3)有粗划痕抛断后的残迹 tA+ c
4)方形或长方形细磨后塌角 |V2+4b,
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 IrU}%ZVV
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 s a%2,e'
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 L 0{ehpvM
克 服 方 法 ~
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1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 MtAD&+3$
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 X!0s__I Oc
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 !=(~e':Gv
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 75`*aAZ3
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 |Ew\T go/2
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 PjEKZHHz
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
