抛光常见疵病产生原因及克服方法 :atd_6
印迹 a_S`$(7k
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹
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2)玻璃化学稳定性不好 5L2j, ]
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 ~x9J&*zxM
克 服 方 法 lbt8S.fx
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 bs\k b-\R
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 rz&V .,s
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 5>%^"f
光圈变形 M/.M~/ ~
1)粘结胶粘结力不适 /dg? 6XT/
2)光圈未稳定既下盘 J/Y9 X ,
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) ,m`&J?
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 dpS @:
克 服 方 法 ?K pDEH~\
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 LvS5N)[
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 Eu &$R q}
3)刚盘定期进行检测和修正 V*s\ ~h )
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 `_)9e GQ
麻点： Ih5Y7<8b~
产 生 原 因 ejR$N!LL
1) 精细磨、抛光时间不够 T2]8w1l&K
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 `
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3)有粗划痕抛断后的残迹 @BnK C&{
4)方形或长方形细磨后塌角 Y1r'\@L w
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 .{I LeG
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 ~.^:?yCA
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 nT=%3_.
克 服 方 法 5s^vC2$)
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 B0yGr\KJ
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 _z%\53h
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 H74'I}
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 p@Os
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 q7aqbkwz}
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 V} <<?_
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
