抛光常见疵病产生原因及克服方法 BE. v+'c"
印迹 a7 '.*H]
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 %^s; {aN*!
2)玻璃化学稳定性不好 cs E 9Ns
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 &09z`* ,
克 服 方 法 &os9K)
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 6*,'A|t?y
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 -5,QrMM<
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 V\^rs41$;
光圈变形 XH4!|wz
1)粘结胶粘结力不适 Qj: D=j8
2)光圈未稳定既下盘 p pr95 Y]^
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) Gxu
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 Awl4*J~
克 服 方 法 kG_ K &,;@
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 H&jK|]UXoO
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 )&:4//}a
3)刚盘定期进行检测和修正 T|^rFaA
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 ^$qr6+
麻点： ,73 kh
产 生 原 因 NIufL
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1) 精细磨、抛光时间不够 -=BQVJ_dK{
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 +F3 @-A
3)有粗划痕抛断后的残迹 ZN>o z@j Y
4)方形或长方形细磨后塌角 JU+Uzp
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 yf`Nh
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 BwtjTwd
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 y1R 53u`;L
克 服 方 法 qN((Xz+AZE
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 x 95[*[
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 {~NiGH Y
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 S@i* +&Ot
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀
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5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 QX}O{LQR
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 %^){Z,}M}
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
