抛光常见疵病产生原因及克服方法 F R0zK=\
印迹 dJ?VN!B 0
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 {d}-SoxH
2)玻璃化学稳定性不好 L;nRI.
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 BQSA;;n]
克 服 方 法 J=*y>Zt-b
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 `NXyzT`:K
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 -6~*:zg,
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 &[*_ -
光圈变形 yr&oJYM
1)粘结胶粘结力不适 %2BFbaE
2)光圈未稳定既下盘 8 jqt=}b
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) ,M7sOp6}
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 #1hT#YN
克 服 方 法 10}oaL S
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 j 6 Jz
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 ' e 3y|
3)刚盘定期进行检测和修正 )g:UH
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4）严格按工艺和上盘操作规程加工 78+H|bH8
麻点： Mn>dI@/gM
产 生 原 因 T_Z@uZom.
1) 精细磨、抛光时间不够 x @DXW(
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 X]cB `?vR
3)有粗划痕抛断后的残迹 M42Zpb].
4)方形或长方形细磨后塌角 P)1@HDN==
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 kjaz{&P
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 H4l:L(!D
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 \2_>$:UoV
克 服 方 法 "x\3`Qk
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 =e$
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2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 Q)#<T]~=
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 l]WV?^*
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 :N8D1e-a
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 mI9 h| n
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 ]~?k%Mpw
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
