抛光常见疵病产生原因及克服方法 }i^M<A O
印迹 8F>9CO:&N
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 J#C4A]A
2)玻璃化学稳定性不好 yn!;Z ._
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 j>8ub A
克 服 方 法 k 5K5O pY
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 kHr-UJ!
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 ykbfK$j z
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 <|k :%
光圈变形 ~"%'(j_4
1)粘结胶粘结力不适 !B Pm{_C
2)光圈未稳定既下盘 C _he= SV
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) =b*GV6b
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 r rfJs
克 服 方 法 +i}H $.
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 F1BvDplQ>G
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 fUf 1G{4
3)刚盘定期进行检测和修正 Pteti
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 cr -5t4<jK
麻点： qn yacI
产 生 原 因 +)yoQRekX
1) 精细磨、抛光时间不够 EXeV @kg
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 >dK0&+A
3)有粗划痕抛断后的残迹 xkFa
4)方形或长方形细磨后塌角 O-7)"
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 uq[5 om"
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 ">=E p+ix
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 HgW!Q(*
克 服 方 法 9j^rFG!n
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 #m{(aa9;
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 ^`#7(S)a/
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 &iu]M=Y b
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 #f(tzPD
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 X,+a 6F
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 e%pohHI
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
