抛光常见疵病产生原因及克服方法 s}wO7Df=+
印迹 Rfht\{N 7
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 F#s u5<d
2)玻璃化学稳定性不好 {(;B5rs
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 F=srkw:*.
克 服 方 法 J;~E<_"Hn
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 0C]4~F x~
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆
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3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 CJp-Y}fGEA
光圈变形 :<|Z.4}kJb
1)粘结胶粘结力不适 |~eY %LB
2)光圈未稳定既下盘 @l{I[pp
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) /jR8|sb
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 5C B%=iL{
克 服 方 法 I] jX7.fx
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 8)pB_en3sO
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 VgA48qZ
3)刚盘定期进行检测和修正 c}% es=@
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 M|k&TTV
麻点： ^#;RLSv
产 生 原 因 _lP4}9 p
1) 精细磨、抛光时间不够 )A"jVQjI%w
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 pw3 (t
3)有粗划痕抛断后的残迹 ;|!MI'Af
4)方形或长方形细磨后塌角 AF GwT%ZD
5)零件在镜盘上由于加工造成走动
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6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 1aq2aLx
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 ZOu R"9]
克 服 方 法 2 5Q+1
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 /ERNS/w
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 "R23Pi
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 @0|nq 9l1
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 i S
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 j7}lF?cJ2
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 D^u\l
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
