抛光常见疵病产生原因及克服方法 H4sW%nZ0
印迹 #!E`%'
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1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 dm]g:KWg
2)玻璃化学稳定性不好 BMI`YGjY1
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 v 2 p
克 服 方 法 fj/L)i
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 E)`0(Z:E
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 q*5L",
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 'CSjj@3 X
光圈变形 ?3a= u<
1)粘结胶粘结力不适 Wp+lI1 t
2)光圈未稳定既下盘 %hN(79:g
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) DaJ,( DJY
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 Y652&{>q
克 服 方 法 [PB73q 8
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 cJbv,RV<
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 x;`G n_
3)刚盘定期进行检测和修正
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4）严格按工艺和上盘操作规程加工 _KKux3a
麻点： |&xaV-b9W
产 生 原 因 1L+hI=\O
1) 精细磨、抛光时间不够 :3XvHL0rx
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 *aC[Tv[-P
3)有粗划痕抛断后的残迹 ^*4#ZvpG2
4)方形或长方形细磨后塌角 j` q>YPp
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 M$U i=GGq
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 %rJD pB{
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 65JG#^)KaX
克 服 方 法 TB?'< hD:
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 '
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2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 ]
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3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 (gPB@hAv
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 9H;Os:"\|
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 )B +o
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6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 X Db% -
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
