抛光常见疵病产生原因及克服方法 HUj+ -
印迹 i {gDW+N
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 X_D6eYF
2)玻璃化学稳定性不好
L~*u4
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 6#<Ir @z
克 服 方 法 &&; ex9
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 Dba+z-3Nzy
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 SK's!m:r=
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 "E.\6 s C
光圈变形 5pO]vBT
1)粘结胶粘结力不适 ^~^mR#<P$
2)光圈未稳定既下盘 lZ}P{d'f.
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) A y 2b,q
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 r+o_t2_b*
克 服 方 法 z~F37]W3[
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 f, |QAj=a
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 I?^aCnU
3)刚盘定期进行检测和修正 $h,d?
.u6w
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 rB,ldy,f
麻点： $u:<x
产 生 原 因 8 +9\ 7*
1) 精细磨、抛光时间不够 >wA+[81[
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 d$}&nV/A)
3)有粗划痕抛断后的残迹 K k 7GZ
4)方形或长方形细磨后塌角 q$F) !&
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 Q.yb4
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 mxgqS=`
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 F "I*-!o
克 服 方 法 JRq3>P
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 kL|\wci
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 Y.7}
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 sa G8g
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 97 5
_d_U
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 B;V5x/
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 =LOk13l\"
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
