抛光常见疵病产生原因及克服方法 7G z f>n
印迹 rzsAnLxo
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 tUaDwIu#
2)玻璃化学稳定性不好 Y`.FSs
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 E>NRC \^@
克 服 方 法 g
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1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 AU0pJB'
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 AR8zCKBc^
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 .W>LE z'
光圈变形 2)cq!Zv
1)粘结胶粘结力不适 VI_8r5o
2)光圈未稳定既下盘 tX)l_ ?jVH
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) KsVN<eR{
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 F`))qCgg]
克 服 方 法 Pr| B hX
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 <MdIQ;I8
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 ^E-BB 6D
3)刚盘定期进行检测和修正 ePLpGT
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 e,V @t%
麻点： M it3q
产 生 原 因 (+aU ,EQ
1) 精细磨、抛光时间不够 fD :BKJQ
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 x#)CH }J
3)有粗划痕抛断后的残迹 z.Y`"B'j`
4)方形或长方形细磨后塌角 Iy[ TEB
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 2J;_9
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6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 <b>g^ `}?D
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 >8;EeR vI
克 服 方 法 4 x|yzUx
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 6> Dm cG:.
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 H"5=z7w
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 i0q<,VSl$_
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 A r,fmq
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 aWS_z6[t#6
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 ,azBk`$iQr
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
