抛光常见疵病产生原因及克服方法 a Fl(K\
印迹 ~>qcV=F^d,
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 [z Y9"B<3
2)玻璃化学稳定性不好 wt RAq/
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 T T29 LC@
克 服 方 法 o 0fsM;K
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 OvQG%D }P=
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 6rR }qV,+{
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 L-$GQGk{
光圈变形 L]9*^al
1)粘结胶粘结力不适 .+ _x|?'
2)光圈未稳定既下盘 v/CXX<^U(
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) M(5l S u
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 H'2pmwk
克 服 方 法 * 78TT \q<
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 HPu nNsA
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 5 kQC
3)刚盘定期进行检测和修正 Thz& wH`W
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 O~igwFe
麻点： j1>1vD-`T
产 生 原 因 l$z-'
1) 精细磨、抛光时间不够 !v $hqNt7
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 0 5 `x$f
3)有粗划痕抛断后的残迹 .,feRK>3
4)方形或长方形细磨后塌角 |nv8&L8
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 wl}Q|4rZ
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 OCF= )#}qd
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 [_C IN
克 服 方 法 3M/kfy
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 4R}2H>VV%
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 (LQ*U3J]_
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 i?||R|>;"'
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 4fp}`U
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 l 8jm7@.E
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 v-g2k_ o|
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
