抛光常见疵病产生原因及克服方法 36}&{A
印迹 ])?[9c
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 =nv/
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2)玻璃化学稳定性不好 ne%(`XY{Q]
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 c"P:p%\m&u
克 服 方 法 % rO)w?
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 G,6 i!M
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 ($t;Xab
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 w{ P l
光圈变形 mp8Zb& Ggb
1)粘结胶粘结力不适 KxDfPd+j[
2)光圈未稳定既下盘 Z9j`<VgN
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) [ = Xb*~
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 !J[! i"e
克 服 方 法 >XW -W
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 IEY\l{s
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 &t}6sD9o
3)刚盘定期进行检测和修正 fni7HBV?
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 zZP&`#TAy
麻点： XW:%YTv
产 生 原 因 BzTzIo 5
1) 精细磨、抛光时间不够 `o21f{1]X&
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 B^/(wHBp
3)有粗划痕抛断后的残迹 dw %g9DT
4)方形或长方形细磨后塌角 Kxi@"<`S
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 -m $2"_
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 F i#
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7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 t:n$9WB)
克 服 方 法 N'Vj& DWC
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 NG:
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2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 omI"xx
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 h$p}/A
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 AI-ZZ6lzR
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 TWdhl9Ot
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 3*-!0
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
