抛光常见疵病产生原因及克服方法 ad1%"~1
印迹 CmNd0S4v
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 hYS*J908
2)玻璃化学稳定性不好 I3A@0'Vm;L
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 luyU!
克 服 方 法 S 'jH
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 4$+9Wv
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 h] (BTb#-
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 R~$W
光圈变形 z#8d\X/
1)粘结胶粘结力不适 v}v! hs Q
2)光圈未稳定既下盘 Q]Fm4
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) ]Y'oxh
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 HrUQ X4
克 服 方 法 eUyQS I4A
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 F] hKi`@
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 pr2b<(P m
3)刚盘定期进行检测和修正 (Z
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4）严格按工艺和上盘操作规程加工 L, &R0gxi
麻点： i>n.r_!E
产 生 原 因 D2`tWRm0
1) 精细磨、抛光时间不够 X`d d"8%
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 \(PC#H%
3)有粗划痕抛断后的残迹 8#gS{
4)方形或长方形细磨后塌角 0ivlKe%
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 GUJaeFe
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 \4 RVJ[2
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 *[Ld\lRj
克 服 方 法 NzmVQ-4
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 nw k66o:|
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 AHq;6cG
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 }*{@-v|_R
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 KWVEAHIn
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准
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6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 ~:Jw2 P2z
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
