抛光常见疵病产生原因及克服方法 754MQK|g
印迹 ~9+01UU^
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 }#ZRi}f2VJ
2)玻璃化学稳定性不好 1<BKTMBq?{
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 eK:?~BI!
克 服 方 法 >)ekb 7
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合
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2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 $IE}fgA@5
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 \l:R]:w;ZI
光圈变形 ;-Yvi,sS+
1)粘结胶粘结力不适 ,- AF8BP
2)光圈未稳定既下盘 dxs5woP
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) z{L' 7
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 "#O9i j
克 服 方 法 .#QE*<T)]
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 uB
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2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 _X4Y1zh
3)刚盘定期进行检测和修正 K<J,n!zc
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 ~b~Tq
麻点： ^+P.f[
产 生 原 因 /q IQE&V-
1) 精细磨、抛光时间不够 _a Fe9+y
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 f]/2uUsg %
3)有粗划痕抛断后的残迹 q%4X1 W
4)方形或长方形细磨后塌角 h vYRAQR:
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 ?kO.>o
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 s>J5.Z7"'j
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 0/)2RmF
克 服 方 法 u4Nh_x8\Nr
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 H@uu;:l<7A
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 sG u. G
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 %P0
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀
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5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 unFRf ec{
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 }%u #TwZ
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
