抛光常见疵病产生原因及克服方法 PquATAzQA
印迹 &6}] v:
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 h`HdM58CQ
2)玻璃化学稳定性不好 dgsD~.((A
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 jYi{[* *
克 服 方 法 %V&I${z
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 ;V"(! 'd
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 2lm{: tS
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 #ZS8}X*S
光圈变形 I}{Xv#@o
1)粘结胶粘结力不适 !ii' hwFm$
2)光圈未稳定既下盘 >W[#-jA_Z
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形)
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4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 UZq1qn@+
克 服 方 法 C;_*vi2u
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 ezR !ngt
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 d[Lr`=L;
3)刚盘定期进行检测和修正 WCPl}7>
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 A}cGag+sp
麻点： WJN}d-S=^
产 生 原 因 uRu)iBd D
1) 精细磨、抛光时间不够 z LHE;
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 F9&ae*>,
3)有粗划痕抛断后的残迹 61^5QHur
4)方形或长方形细磨后塌角 U%,N" ]`
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 :$ " L;"
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 1S26Y|L)
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 zrJ/Fs+s
克 服 方 法 z}[qk:
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 umo@JWr
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 i`2X [kc
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 / NlT[@T
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 4[] /
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 P,[O32i #
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 k)a-odNrb
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
