抛光常见疵病产生原因及克服方法 GdmmrfXB
印迹 C Ac
%f9!3
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 0E/: |k
2)玻璃化学稳定性不好 @gfDp<
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 saZ>?Owz
克 服 方 法 nCxAQ|P?
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 SZ !=`a]
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 I!: z,t<
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 ljJ>;g+
光圈变形 eE8UL tO
1)粘结胶粘结力不适 \gO,hST
2)光圈未稳定既下盘 R MXzU
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) @,H9zrjVFZ
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 nBL j [
克 服 方 法 c6AWn>H
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 h
y-cG% f
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 5\4g>5PD
3)刚盘定期进行检测和修正 ${&5]!E[>D
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 .p6+l!"
麻点： & eZfQ27$
产 生 原 因 mxG ]kqi
1) 精细磨、抛光时间不够 h3G.EM:eG
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 7 ^e +
3)有粗划痕抛断后的残迹 x5si70BKC/
4)方形或长方形细磨后塌角 ^>$P)=O:v
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 I=Zx"'Um
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 u Q Co6"e
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 |;vi*u
克 服 方 法 O/Y)&VG7
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 e 9$C#D> D
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 x^= M6;:
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 M#j N-ix
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 m~l
F`?
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 pxINw>\Qv
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 C ;B}3g&
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
