抛光常见疵病产生原因及克服方法 MjQKcL4%7
印迹 a
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1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 WojZ[j>
2)玻璃化学稳定性不好 K q: +{'
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 + \?#8U/k
克 服 方 法 .~4%TsBa Y
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 Etg'"d@[
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 Gdi1l Yu6V
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 |j#x}8 [(
光圈变形 ,a~-
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1)粘结胶粘结力不适 BO5F6lyQ0P
2)光圈未稳定既下盘 K%1'zSAyK
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) F !tn|!~
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 yE.
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克 服 方 法 `7LN?-
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1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 =X2 Ieb
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 dNB56E)5`J
3)刚盘定期进行检测和修正 qXn %c"
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 xbxU`2/
麻点： ?tQU ZO
产 生 原 因 X0 *
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1) 精细磨、抛光时间不够 _6;T
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2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 [mYmrLs6
3)有粗划痕抛断后的残迹 A=Q"IdK
4)方形或长方形细磨后塌角 3&/5!zOg)
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 `[ 0.G0i
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 9mIq9rQ|*
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 W 1w)SS
克 服 方 法 Ps4spy0Fp
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 sV@kQ:
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 !E'jd72O
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 u0^GB9q
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 Mmq{]q~At
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 CD:@OI
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 n"Ot'1yr
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
