抛光常见疵病产生原因及克服方法 yxH ( c
印迹 NgY =&W,
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 U-|NY
2)玻璃化学稳定性不好 _ ]Z s,Hy
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 [Nk3|u`h
克 服 方 法 ~m$Y$,uH
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 m&?#;J|B$
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 ( vca&wI!
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 - :na: Vsi
光圈变形 6b:ty Q
1)粘结胶粘结力不适 49v coHlf
2)光圈未稳定既下盘 -q*i_r:,
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形)
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4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 |cR;{Z8?_
克 服 方 法 F F|F U<
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 4y+< dw
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 w'm;82V:P-
3)刚盘定期进行检测和修正 gntxNp[9T
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 @w?P7P<O`
麻点： I= & stsH
产 生 原 因 *3?'4"B{8
1) 精细磨、抛光时间不够 'L8'
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2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 eN^qG
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3)有粗划痕抛断后的残迹 ^3UGV*Ypk
4)方形或长方形细磨后塌角 sNLs\4v
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 [xGf,;Z
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 [DF,^4g
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 MerFZd 1
克 服 方 法 R R]CW
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 `-p:vq`
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 EUxG Aj$-
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 Ipf =ZD
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 ^G.B+dG@`x
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 z[3L2U~6
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 ,=#F//
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
