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在传统的Talbot光刻中,在光敏层中仅使用一个图像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的两个图像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通过傅立叶模态法(FMM,也称为RCWA)在VirtualLab Fusion中对具有一层圆锥体的相位掩模进行了建模。探测得到不同的Talbot像,柱状图位于主像面上,孔状图位于次像面上。 V^9%+L+E5 ZZ0b!{qj3
ER]C;DYX b;mpZ|T. 建模任务 NlG!_D"(y qP%[nY
l_q1h]/
结构和材料参数来自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015) 6l>016 x 9fSX=PVRmQ 某一位置的Talbot图样 *i7-_pT Zr\G=0`
c$hoqi |tD {\!@k\__ 某一位置的Talbot图样 x4_FG{AIu exm*p/
\HJ t } }<P%W~ 不同位置的Talbot图样 rlDJHR6 {-5b[m(
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w\.z-6G @2$iFZq~ 沿Z轴的强度 vC5 ( Cd'SPaR
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