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在传统的Talbot光刻中,在光敏层中仅使用一个图像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的两个图像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通过傅立叶模态法(FMM,也称为RCWA)在VirtualLab Fusion中对具有一层圆锥体的相位掩模进行了建模。探测得到不同的Talbot像,柱状图位于主像面上,孔状图位于次像面上。 cHO8%xu` =O?#>3A}
wWU5]v IC:wof " 建模任务 ygz6 ~( :>t^B+
!R/-|Kjy 结构和材料参数来自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015) iNxuQ7~ /e0cx:.w 某一位置的Talbot图样 :1O1I2L0 v1E=P7}\{s
V&>\U?q: P4~=_Hh 某一位置的Talbot图样 .}V&*-ep xn)eb#r
d*A(L5;@ 1p[Z`m*9 不同位置的Talbot图样 V>2mzc s, 8a1o
%%w/;o!c ^S'#)H-8C3 不同位置的Talbot图样 P(Fd|).j$ +&p}iZp
~GWn > F$QAWs 沿Z轴的强度 4p%=8G| :gNTQZR
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